• PRP/HSR対応 冗長化装置RedBOX『RB304』 製品画像

    PRP/HSR対応 冗長化装置RedBOX『RB304』

    PR制御システム等における周辺装置のゼロ復旧時間を実現。 クリティカルな…

    PRP/HSR(IEC62439-3)に対応していないデバイスも本製品と接続すれば、周辺装置をその冗長ネットワークに参加することが可能となります。 <PRP製品> 並列接続でLAN構成を二重化。 一方の回線が故障してもメッセージロスが生じません。 <HSR製品> LAN回線をリング構成とし、右回り・左回りに同じメッセージを伝達。 一方が故障してもメッセージロスが生じず、遅延も起...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社リョウセイ

  • 高速5軸ミリングマシン「RXU」+オートメーション「RCS」 製品画像

    高速5軸ミリングマシン「RXU」+オートメーション「RCS」

    PR短時間で高精度加工を実現する高速5軸ミリングマシンに省人化を実現するオ…

    ドイツ レダース社製の高速 ミリングマシン「RXU」シリーズは全軸リニアモーター駆動+リニアガイドの仕様で経年変化なく高精度加工します。高速スピンドルを標準装備し超硬等HRC60以上の高硬度材のミリングが可能です。チャックしたまま掴み替えることなく、ミリング加工の後はジグ研削加工(オプション)、機上測定まで一連の工程が可能です。 掴み換えなく1台で完成行程まで行える為、「機械設置面積の削減」「人...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ゴーショー

  • 【多目的真空蒸着装置】有機蒸着源 製品画像

    【多目的真空蒸着装置】有機蒸着源

    多目的真空蒸着装置HEXシステム用有機蒸着源

    多目的真空蒸着装置HEX/HEX-L用の有機蒸着源です。 ORCAをインストールすることで、HEXシステムを有機物蒸着装置として使用できます。ORCAソースはルツボを積極的に冷却しています。加熱と冷却のバランスにより、優れた温度安定性と制御性を実現しています。 ルツボは熱伝導率の高い材質で作られていることから、蒸着レートに悪影響をおよぼすホットスポットが発生しません。アルミナ製やグラフ...

    メーカー・取り扱い企業: テガサイエンス株式会社

  • スパッタリング装置『MiniLab-026』 製品画像

    スパッタリング装置『MiniLab-026』

    小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…

    必要最小限のモジュール・コントローラをPlug&Play感覚で19"コンパクトラックに組込む事により無駄が無く、小型省スペース・シンプル操作・ハイコストパフォーマンスを実現した、フレキシブルR&D用薄膜実験装置です。 マグネトロンスパッタ(最大3源)もしくは抵抗加熱蒸着(金属源 最大4、有機材料x4)に対応します、又基板加熱ステージを設置しアニール装置、プラズマエッチングも製作可能。 グローブ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • イオンビームエッチング・ミリング(IBE)装置 製品画像

    イオンビームエッチング・ミリング(IBE)装置

    高レート・高信頼性を実現した生産用イオンビームミリング装置

    AVP Technology社製イオンビームエッチング装置はICPイオンソースを搭載した高均一・高エッチングレート、かつ稼働再現性・安定性に優れた製造装置です。 他社IBE装置に較べ卓越した制御システムにより、製造設備に必須である安定稼働を実現しています。 最新の駆動機構によりレイテンシー時間を最小限に押さえて生産性を改善しています。 ...特長 最新設計のグリッドによる8インチ基板への...

    • ibe.png

    メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社

  • 【多目的真空蒸着装置】電子ビーム蒸着源 製品画像

    【多目的真空蒸着装置】電子ビーム蒸着源

    多目的真空蒸着装置HEXシステム用1源および4源電子ビーム蒸着源

    多目的真空蒸着装置HEX/HEX-L用の電子ビーム蒸着源です。 TAUシリーズは"ミニ"電子ビーム蒸着源です。TAUを使用することでHEXシステムを電子ビーム蒸着装置(EB蒸着装置)として使用できます。材料に高電圧が印加され、そのすぐ横にあるフィラメントから放出される熱電子を材料に加速衝突させることで加熱します。大型の電子ビーム蒸着源に見られるような、電子ビーム偏向マグネットは使用しません。...

    メーカー・取り扱い企業: テガサイエンス株式会社

  • 【多目的真空蒸着装置】スパッタリングソース 製品画像

    【多目的真空蒸着装置】スパッタリングソース

    多目的真空蒸着装置HEXシステム用RF&DCスパッタリングソース

    多目的真空蒸着装置HEX/HEX-L用のスパッタリングソースです。 ターゲットが導体の場合はDCモードで、絶縁体の場合はRFモードで使用することができます。ガスフードが標準装備されているため、ターゲット表面近傍での圧力を高め、成膜中のチャンバー圧力を低く抑えることが可能です。 冷却水配管およびガス配管の接続には、クイックリリースコネクターが採用されています。そのため、工具を使用することなく...

    メーカー・取り扱い企業: テガサイエンス株式会社

  • 成膜装置  スパッタ装置 製品画像

    成膜装置 スパッタ装置

    幅広い実績を誇ります。

    本装置は、最大4元のスパッタガンを設置可能な成膜装置です。...【特徴】 〇ソース源には低価格の1”スパッタガンや2”~4”スパッタガンの成膜レシピ(PC制御)システムを有する装置まで幅広い実績を誇ります。 〇多数のオプションも備えております。 〇基板ホルダー(オプション各種・回転、XY、加熱、冷却、シャッター機構の追加等) ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードして下さ...

    メーカー・取り扱い企業: バキュームプロダクツ株式会社

  • 真空蒸着装置『MiniLab-026』 製品画像

    真空蒸着装置『MiniLab-026』

    小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…

    必要最小限のモジュール・コントローラをPlug&Play感覚で19"コンパクトラックに組込む事により無駄が無く、小型省スペース・シンプル操作・ハイコストパフォーマンスを実現した、フレキシブルR&D用薄膜実験装置です。 マグネトロンスパッタ(最大3源)もしくは抵抗加熱蒸着(金属源 最大4、有機材料x4)に対応します、又基板加熱ステージを設置しアニール装置、プラズマエッチングも製作可能。 グローブ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • □■□【MiniLab-026】フレキシブル薄膜実験装置□■□ 製品画像

    □■□【MiniLab-026】フレキシブル薄膜実験装置□■□

    小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…

    必要最小限のモジュール・コントローラをPlug&Play感覚で19"コンパクトラックに組込む事により無駄が無く、小型省スペース・シンプル操作・ハイコストパフォーマンスを実現した、フレキシブルR&D用薄膜実験装置です。 マグネトロンスパッタ(最大3源)もしくは抵抗加熱蒸着(金属源 最大4、有機材料x4)に対応します、又基板加熱ステージを設置しアニール装置、プラズマエッチングも製作可能。 グローブ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

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