成膜 | イプロスものづくり

PR金属、樹脂、ゴムなどの長寿命化や耐久性向上を検討の方へ。DLCの特徴や…

当社では、印刷用ロール製造のノウハウや設備を用いたDLCコーティングを行っています。 100℃程度の低温での成膜も行え、金属製の部品等のほか樹脂やゴムの表面処理も可能です。耐摩耗性、摺動性、耐薬品性、耐食性、ガスバリア性の向上に貢献。生体適合性にも優れています。本資料では、「DLCコーティング」の特徴や製法について、初めての方にもわかりやすくまとめて紹介しています。 ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社シンク・ラボラトリー

フレキシブル半導体製造装置『SHUTTLELINEシリーズ』

PR薄膜堆積用PECVD・ドライエッチング・故障解析用プロセス対応。多機能…

『SHUTTLELINE(R)シリーズ』は、RIE/ICP-RIE、PECVD/ICP-CVDに対応しコンパクトながら高性能かつ多機能な半導体製造装置です。成膜とエッチングプロセスを一台で実現し、様々なウエハサイズと形状に対応可能。シャトルシステムにより、異なるサンプルサイズでもハードウェアの変更が不要です。世界で広く採用されており、Plasma-Therm LLCのグ...

メーカー・取り扱い企業：プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

実験用ドライエッチング、成膜装置

ヨーロッパ発の技術から生まれた汎用性の高い装置！実験～量産に幅広く対応…

当社は汎用性の高いエッチング装置や、低温低圧条件でも緻密に成膜できる堆積式の成膜装置を取り揃えております。【ドライエッチング機種（一例）】 Pishowシリーズ： ■シリコン、金属、化合物半導体など、様々な材料に対応可能 ■幅広い温度の工程に対応...

メーカー・取り扱い企業：日星産業株式会社

卓上タイプエッチング・成膜装置『Plasma POD シリーズ』

教育機関や小規模施設などに！タッチパネルで簡単操作が可能な卓上型システ…

『Plasma POD シリーズ』は、小型でコンパクトな卓上タイプエッチング・成膜装置です。設置スペースに限りがあり、低コストでエッチング・成膜装置の導入をご検討されている方にお勧め。ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。【特長】 ■装置最大サイ...

メーカー・取り扱い企業：プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

イオンビームエッチング・成膜装置『QuaZar(TM)』

高いスループットを実現！大面積イオンソースと高度なモーションコントロー…

当社のイオンビームエッチング・成膜装置『QuaZar(TM)』をご紹介いたします。大面積イオンソースと高度なモーションコントロールにより、高いスループットを実現。特にMarathon(TM)グリッドは、従来の...

メーカー・取り扱い企業：プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

イオンビーム　エッチング・成膜装置『QuaZar』

総保有コストを減少させる事が可能！最高クラスの均一性とスループットを実…

『QuaZar』は、大面積イオンソースと高度なモーションコントロールにより、難しいエッチングプロセスや薄膜形成アプリケーションにおいて、プロセス結果を実現できるエッチング・成膜装置です。当製品のMarathon grids技術は、重要な要素となっており、現在お使いの既存のシステムに設置する事も可能。世界の多くのお客様が、grid技術で既存装置の性能を向...

メーカー・取り扱い企業：プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

スパッタリング装置『MiniLab（ミニラボ）シリーズ』

モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…

【フレキシブルシステム】 MiniLab薄膜実験装置シリーズは、豊富なオプションから必要な成膜方法・材料に応じて都度、ご要望に適したコンポーネント（成膜ソース、ステージなど）、制御モジュールを組み込み、カスタマイズ品でありながら無駄の無いコンパクトな装置構成を容易に構築することができます。モ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

【高耐食性Y2O3/YOF膜事例】エッチング装置部品の保護膜に

溶射やエアロゾルデポジションによる保護膜より遥かに耐食性・耐プラズマ性…

蒸着法による酸化イットリウム膜は、溶射やエアロゾルデポジションによる酸化イットリウム膜と比べて遥かに緻密でパーティクルレベルは大きな優位性を持っています。また、この緻密な膜をスパッターと比べて厚膜に成膜できますので、装置稼働時間を大幅に向上させることができます。 ...

メーカー・取り扱い企業：つばさ真空理研株式会社横浜ラボラトリー

プラズマCVD装置『210Dモデル』

φ200mmウェーハまで対応！成膜・エッチングの両用が可能なプラズマC…

『210Dモデル』は、誘導結合プラズマ(Inductively Coupled Plasma：ICP)による、成膜装置です。現場でのハードウエアの交換により、十数分の作業時間で、誘導結合プラズマエッチング装置として使用する事が可能。コンパクトな機体に多彩なオプションで、薄膜の堆積やトレンチのパターニン...

メーカー・取り扱い企業：プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

【独自のイオンアシスト蒸着法による超緻密な厚膜】酸化イットリウム

イオンアシスト蒸着法による超緻密で厚膜形成で半導体歩留と装置稼働時間が…

アシスト蒸着法でアルミナ基板上では15μm、石英ガラス上では10μmの密着性が高く、緻密性の高い厚膜ができます。用途は、ドライエッチャー部品向け耐プラズマの保護膜です。ドライエッチャー部品の成膜で良い膜をお探しの方はぜひ、ご相談ください。【特長】 ■エッチング装置のRFウィンドウの再生市場価格1/2実現 ■エッチング装置のメンテナンスサイクルが大幅に改善 ■溶射、エアロゾル蒸...

メーカー・取り扱い企業：つばさ真空理研株式会社横浜ラボラトリー

【エージング時間が大幅短縮！】耐プラズマ耐食性YOF保護膜

時代はY2O3からYOFへ！エッチング装置のエージング時間を大幅短縮、…

成膜する基板は、石英、アルミナ、金属アルミで行えることが確認されています。つばさ真空理研株式会社は、イオンアシスト蒸着法によるY2O3やY5O4F7といったドライエッチング装置部品の信頼性を大幅にアップさせる保護膜を成膜できる受託成膜サービス会社として半導体製造装置メーカー、半導体メーカーのお客様から信頼を得ています。...

メーカー・取り扱い企業：つばさ真空理研株式会社横浜ラボラトリー

【MiniLab-SA125A】多元マルチスパッタ装置

高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ（Φ4inch用）…

連続多層膜、同時成膜（2〜6元同時成膜：RF, DCをHMIより自在に配置切替）高出力RF, DC電源, パルスDC電源を独自の'プラズマ・スイッチング・リレー'モジュールでマルチカソードに自在に配置を組み合えるこ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

蒸着/スパッタ・デュアルチャンバーシステム【MiniLab】

2台の薄膜実験装置をロードロック機構で連結。異なる成膜装置（スパッタ、…

2台の薄膜実験装置をロードロック機構で連結。異なる成膜装置（スパッタ - 蒸着、など）をロードロックでシームレスに連結。Moorfield社独自のロードロックシステムにより、左右・後方へのプロセス室への連結も可能です。...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

【エッチング装置/アッシング装置部品の保護膜に】Y5O4 F7膜

Y5O4 F7膜は表面フッ素量変化が小さいのでエッチング装置のエージン…

イオンアシスト蒸着法によるY5O4 F7膜は、Y2O3とYF3を2元同時蒸着で成膜速度を独立に制御して成膜されています。したがって、組成を自由に制御できますので結晶構造も選択が可能です。フッ素量を変化させ、最適なY5O4 F7膜を形成させています。...

メーカー・取り扱い企業：つばさ真空理研株式会社横浜ラボラトリー

スリットバルブシール

体業界向けには、低発塵性、耐プラズマ性、耐薬　品性、低固着特性に優れた製品を、液晶業界向けには、基板大型化に対応した製品を製造・販売しております。 ●同業界向けの製品群の１つとして、製造装置の成膜工程などの処理チャンバー内にウエハを搬送する入り口（ゲート）に使用できる、チャンバー用スリットバルブシール（ゲートバルブシール）をご提供しております。【特長】 ★［設計・形状］断面形状...

メーカー・取り扱い企業：三菱電線工業株式会社

フォトエッチング加工

大量生産のための多数個取り、大型モジュールの生産など幅い広いニーズに応…

NISSHAは、量産性にすぐれたロールtoロール方式のエッチング設備を保有し、長尺フィルム上に成膜されたITOやCuのパターニング加工を引き受けております。フィルム両面でのエッチング加工や、大面積パターニングにも対応可能。最大で500×1,000mmのパターンを加工できます。 ...

メーカー・取り扱い企業： NISSHA株式会社

スパッタリング装置『MiniLab-026』

小型、省スペース! 研究開発に最適蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…

ース：1cc or 5cc ◉ Φ2inchマグネトロンカソード（最大3源） ◉ ドライエッチング ◉ グローブボックス搭載可能（オプション要仕様協議） ◉ その他オプション： 2源同時成膜、HiPIMS、自動薄膜コントローラ、特注基板ホルダ、基板回転/昇降、基板加熱などオプション豊富。 ※ まずはご要求の仕様をご連絡下さい、ご要望に合わせシステム構成致します。...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

光化合物半導体　プラズマ加工装置

長年の経験と蓄積された加工ノウハウ！化合物半導体加工向けに1300台以…

「プラズマ加工装置」は、光化合物半導体のプラズマ・エッチング・成膜装置です。研究・開発から量産とシーンに適したシステムの提供が可能。また、光電子デバイス製造に必要な幅広い材料を扱うように設計されています。ご用命の際は、お気軽にお問い合わせくださ...

メーカー・取り扱い企業：プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

アールエムテック　サービス案内

マザーテクノロジーで未来を拓く　アールムテック　サービスご紹介

を行っています。 ●GCIB（ガスクラスターイオンビーム）数十〜数万個の気体原子よりなるクラスターをイオン化し、適度なエネルギーに加速して照射する技術です。低エネルギーイオンエッチング、高品位成膜・表面平滑化が実証されています。 ●Multiple APC 高い安定性と幅広い互換性を兼ね備えたオート・プレッシャー・コントローラー ●DP-eco 電気代削減で環境に優しいDP用省エネ・...

メーカー・取り扱い企業：アールエムテック株式会社

成膜装置『Corial 200 Series』

用途に応じてコンフィギュレーションする事ができるプラズマエッチング・成…

当社の『Corial 200 Series』をご紹介いたします。共通プラットフォームを用い、用途に応じてRIE,ICP,ICP+RIE, ICP-CVD又は、PECVDとしてコンフィギュレーションする事ができる研究開発向け装置。ウエハサイズは50mm,100mm,150mm,200mmです。【特長】 ■共通プラットフォームを用いる ■RIE,ICP,ICP+RIE...

メーカー・取り扱い企業：プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

実験用ドライエッチング、成膜装置

ヨーロッパ発の技術から生まれた汎用性の高い装置！実験～量産に幅広く対…

種 Pishowシリーズ：シリコン、金属、化合物半導体など、様々な材料に対応可能；幅広く温度の工程に対応可能；エッチングの速度と均一性を精密制御； BOSOH工程に対応可能・成膜機種 Shale Cシリーズ： ICP CVD（誘導結合プラズマCVD）低温条件（<120℃）で緻密な成膜を実現可能プラズマによる損傷を低減でき、漏れ電流を抑える高アスペクト比の穴埋...

メーカー・取り扱い企業：日星産業株式会社

真空蒸着装置『MiniLab-080』

蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。高さ570…

EC-1cc/5cc) ・EB電子ビーム蒸着源：7ccるつぼｘ６（又は4ccるつぼｘ8）・Φ2〜4inchマグネトロンスパッタリングカソード x 最大４源・プロセス制御：手動/自動多層連続成膜・多元同時成膜、APC自動制御・膜厚モニタ：水晶振動子センサヘッドｘ4 ・膜厚制御：Inficon社 SQM-160（又はSQC-310）多チャンネル成膜コントローラ・ユーティリティ：...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

多元マルチスパッタ装置【MiniLab-S125A】

高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ（Φ4inch用）…

連続多層膜、同時成膜（2〜6元同時成膜：RF, DCをHMIより自在に配置切替）高出力RF, DC電源, パルスDC電源を独自の'プラズマ・スイッチング・リレー'モジュールでマルチカソードに自在に配置を組み合えるこ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

【MiniLab】蒸着/スパッタ・デュアルチャンバーシステム

2台の薄膜実験装置をロードロック機構で連結。異なる成膜装置（スパッタ、…

2台の薄膜実験装置をロードロック機構で連結。異なる成膜装置（スパッタ - 蒸着、など）をロードロックでシームレスに連結。Moorfield社独自のロードロックシステムにより、左右・後方へのプロセス室への連結も可能です。...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

□■□【MiniLab-060】フレキシブル薄膜実験装置□■□

蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み…

C-1cc/5cc) ・電子ビーム蒸着：7ccるつぼｘ６（又は4ccるつぼｘ8）・Φ2〜4inchマグネトロンスパッタリングカソード x 最大４源・プロセス制御：手動/自動連続多層膜・同時成膜、APC自動制御・膜厚モニタ：水晶振動子センサヘッドｘ２・膜厚制御：Inficon社 SQM-160（又はSQC-310） 2ch/4ch薄膜コントローラ・ユーティリティ：電源200V...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

□■□【MiniLab-090】フレキシブル薄膜実験装置□■□

グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置高さ570m…

/5cc) ・EB電子ビーム蒸着源：7ccるつぼｘ６（又は4ccるつぼｘ8）・Φ2〜4inchマグネトロンスパッタリングカソード x 最大４源・プロセス制御：手動、又は自動連続多層膜・同時成膜、APC自動制御・膜厚モニタ：水晶振動子センサヘッドｘ4 ・膜厚制御：Inficon社 SQM-160（又はSQC-310）多チャンネル薄膜コントローラ・ユーティリティ：電源200V ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

【金属エッチング事例】メタルマスク治具セット

ワークやパターンの情報を元に設計からの対応実績も豊富にございます！

スパッタリングや蒸着でワークにパターン成膜する際に用いられるメタルマスクとワークホルダーのセットをご紹介します。使用方法により異なりますが、こちらのサンプルではホルダーとマスクはピンによって位置決めし、マグネットで固定する方...

メーカー・取り扱い企業：東洋精密工業株式会社