フッ素膜【フッ素薄膜処理における真空蒸着法とスプレー法の違い】

PR各処理方法のメリット・デメリットを分かりやすく紹介した資料進呈。受託加…

本資料では、ガラスや金属に撥水性・撥油性・防汚性・離型性などを付与できる フッ素薄膜処理について、真空蒸着法とスプレー法の違いを説明しています。 フッ素薄膜処理は、基材の形状やコストなどの条件に応じた 処理方法の選定が求められます。 フッ素薄膜処理をご検討中の方は、ぜひ本資料をご覧ください。 【掲載内容】 ・フッ素薄膜処理とは ・真空蒸着法、スプレー法とは ・真空蒸着法...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社カツラヤマテクノロジー T&K事業部

【新製品】脱脂用洗浄剤 『ネクシアS-63』フッ素系洗浄剤

PRHFCを含まないフッ素系洗浄剤！様々な法規制に非該当！PC・ABS樹脂…

『ネクシアS-63』は脱脂洗浄に適したフッ素系洗浄剤です。鉱物油系加工油付着の鋼板・金型・ロール等の手拭き洗浄、金属加工部品の浸漬洗浄等が可能。他フッ素系洗浄剤と比べて、コストパフォーマンスに優れております。HFCを含まないフッ素系洗浄剤のため、環境に配慮した洗浄剤です。 『ネクシアS-63』の主な特長 1)HFC,臭素を含まないため、法規制の該当が少ないことによる扱いやすさ 2)オゾン破壊係数...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社カネコ化学

金属冶金法 ポリシリコン（塊：Lump）

リチウムイオン電池 負極材料としても期待される 冶金法ポリ

＜標準グレード＞ 　　　　　　 　４N（Si純度＞９９．９９％） 　５N（Si純度＞９９．９９９％） 　６N（Si純度＞９９．９９９９％） 　金属冶金法：金属シリコンを溶融させて不純物を蒸発させた後、 　　　　　　　徐々に放熱させ、方向性凝固を行うことにより、 　　　　　　　シリコン純度をアップさせる製造方法。...

メーカー・取り扱い企業： 日本NER株式会社

サブミクロン～１ｍｍまで　球状 銅（Cu）粉末

物理蒸着法（PVD）による球状 銅（Cu）粉末。 サブミクロン～１ｍｍ…

物理蒸着法（Physical vapor deposition (PVD) method）による 球状 銅（Cu）粉末。 Cu 純度≧99.0% (C/Oを除く) サブミクロン～１ｍｍまで、粒...

メーカー・取り扱い企業： 日本NER株式会社

微細 高純度 α相/β相 窒化ケイ素（Si3N4）粉末

微細 高純度 α相/β相 窒化ケイ素(Si3N4)粉末。 ミクロンスケ…

>90.0% 不純物濃度(ICP-MS) Fe=45ppm Al=14ppm Ni=11ppm W= 9ppm Zn=<1ppm Ca=<1ppm C/O濃度測定（赤外線吸収法） C=0.06wt% O=1.16wt% 粒度（レーザー回析・散乱法） D10=0.40µm D50=1.42µm D90=5.07µｍ ＜β相 D50=1μm - 2μm品...

メーカー・取り扱い企業： 日本NER株式会社

３N高純度 シリコン（Si）粉末

Si純度＞99.9% 3N高純度 シリコン粉末

材料：金属冶金法ポリシリコン（4N） 粒度：D50=8µｍー10µｍ...

メーカー・取り扱い企業： 日本NER株式会社

粒度・材料指定可 シリコン（Si）粉末

用途広がるシリコンパウダー（粉末） 必要スペックに基づき、粒度・使用…

用途に応じて、シリコン原料と粉砕粒度を柔軟にに選定・組み合わせ。 材料：金属シリコン（1101/2202/3303/441/553） 　　　金属冶金法ポリシリコン（4N/5N/6N） 粒度：D50=5µmー50µｍ程度の範囲内でご指定頂けます。 　　　なお、数ミリ～サブミクロン（ナノ）単位まで幅広くご相談頂けます。 　　　（粒度・Si純...

メーカー・取り扱い企業： 日本NER株式会社

金属マグネシウム（Mg） インゴット

Mg純度≥99.90～99.95% ： 7.5kg/Ingotから各種…

名称：金属マグネシウム(Mg)インゴット 形態：Ingot(塊) 化学式：Mg CAS No：7439-95-4 製造方法：ピジョン法。 カスタマイズ可能範囲： ・Mg純度：99.90%～99.95%に対応しています。 ・形状・サイズ：7.5kg/Ingotの一般品から ご注文により、各種形状・サイズに対応。 ...

メーカー・取り扱い企業： 日本NER株式会社

4N超高純度 シリコン（Si）粉末

Si純度＞99.99% 4N超高純度 シリコン粉末 ＊25元素不…

材料：シーメンス法バージンポリシリコン（6N以上） Si粉末不純物濃度： 　　　25元素不純物濃度合計=20.21ppm（GDMS分析） 　　　→ Si+Others > 99.9979% 　　　粉砕...

メーカー・取り扱い企業： 日本NER株式会社

球状 サブミクロン ニッケル（Ni）粉末

物理蒸着法（PVD）による球状 ニッケル（Ni）粉末。サブミクロンスケ…

物理蒸着法（Physical vapor deposition (PVD) method）による 球状ニッケル（Ni）粉末。 Ni 純度≧99.0% (C/Oを除く) サブミクロン スケールで...

メーカー・取り扱い企業： 日本NER株式会社

LiB負極用 ３N高純度 シリコン（Si）微粉末

Si純度＞99.9% リチウムイオン電池負極用 シリコン（Si）微…

金属冶金法ポリシリコン（４N）以上を出発原料とする、 3N(Si>99.9%) Si微粉末 ...

メーカー・取り扱い企業： 日本NER株式会社

LiB負極用 ４N超高純度 シリコン（Si）微粉末

Si純度＞99.99% リチウムイオン電池負極用 シリコン（Si）…

金属冶金法ポリシリコン（5N）以上を出発原料とする、 4N(Si>99.99%) Si微粉末 ...

メーカー・取り扱い企業： 日本NER株式会社