難しい設備洗浄で採用実績多数！工数短縮に繋がる設備用水系洗浄剤

PR『洗浄不足改善』『洗浄時間短縮』『コストを削減』『負担が大きい洗浄作業…

□汚れによって洗浄剤をシリーズ化。効率的な洗浄で洗浄工数を短縮。すすぎ性にも優れた設備用水系洗浄剤です。 □こんな方におススメ ◎洗浄不足による製品への異物混入を防ぎたい ◎洗浄時間・コストを削減したい ◎入槽作業など現場への負担が大きい作業をより短時間で安全に行いたい 高い浸透力により、釜などの製造設備に付着した汚れを効率よく除去可能。 すすぎ性が優れているため、洗浄工程の簡略化に貢献します...

メーカー・取り扱い企業： 共栄社化学株式会社 本社

樹脂成形機用洗浄　添加剤タイプ　乳化パージ剤「CORATEX」

PR色替え、樹脂替え、およびロングラン成形の炭化物除去に

プラスチック射出成形機のシリンダー、スクリューを分解せずに、 シリンダー内の不純物を除去する洗浄剤です。 ...【特徴】 ◯特殊研磨剤と界面活性剤の働きにより、 　物理的洗浄と化学的洗浄の相乗効果で不純物を除去 ◯顔料、樹脂の残留物、錆などの堆積物を除去する性能に優れる ◯特殊研磨剤は潰れながらシリンダー内を洗浄するため、 　めっき加工したスクリューなどに傷がつくことがない ◯金属...

メーカー・取り扱い企業： スガイケミー株式会社

ゼストロンジャパン株式会社 会社案内

独自の洗浄総合力！ハイエンドの産業用向け洗浄プロセスソリューションを幅…

当社は、信頼性が必須である航空宇宙、軍用、自動車、通信、医療など ハイエンドの産業用向けとして、洗浄プロセスソリューションを幅広く 提供しています。 また、SMTや半導体パッケージ製品の洗浄用途にも、 独自の洗浄総合力を活かし、エレクトロニクス製造業界全体に貢献。 当社のグローバルネットワークにより、現地プロセスエンジニアが包括的 な洗浄サポートを提供し、貴社のビジネス目標達...

メーカー・取り扱い企業： ゼストロンジャパン株式会社

【手拭き用基板洗浄剤／素早く洗浄&乾燥】VIGON EFM

無洗浄はんだにも効果あり！手拭き洗浄における作業時間を大幅削減

『VIGON EFM』は、しっかり洗浄でき素早く、乾燥する 手拭き用基板洗浄剤です。 手拭き洗浄における作業時間を大幅削減し、 時間が半分以下になった例もございます。 また、無洗浄はんだにも効果がございます。 リワーク・リペア洗浄としても使用可能です。 ハロゲンフリーの有機溶剤で、速乾性があり残留物を残しません。 さらに、腐食性がなく、ほとんどのポリマーに適合します。 ご用命の際は、当社へお...

メーカー・取り扱い企業： ゼストロンジャパン株式会社

【メタルマスク向け水系洗浄剤】VIGON SC 200

クリーム半田やSMTボンドを確実に洗浄。印刷機の裏拭き用としても使用可…

VIGON SC 200はメタルマスク洗浄用として開発された常温タイプの水系洗浄剤です。 スプレー式や超音波式洗浄機に適しており、試し刷り基板の洗浄もできます。 フラックスのタイプによっては、片面が既にはんだ付けされている印刷ミス基板に...

メーカー・取り扱い企業： ゼストロンジャパン株式会社

【手拭き用メタルマスクワイプ】VIGON SC 200

数版の洗浄・溶剤系スプレー手拭きの代替にも！片づけはワイプを破棄するの…

当社で取り扱う、『手拭き用メタルマスクワイプ』をご紹介します。 洗浄性、作業性、安全性に優れる手拭きワイプ。 洗浄難の開口部もVIGON SC 200含浸済みのワイプでしっかり洗浄可能。 また、丈夫で破れにくく、毛羽立ちしにくい、などが特長で、 GHSラベルの該当もなく高い安全性の製品となっております。 【特長】 ■優れた洗浄性・作業性・安全性 ■液だれせず、乾燥性に優れ...

メーカー・取り扱い企業： ゼストロンジャパン株式会社

【メタルマスク向け洗浄剤】ZESTRON SD 301

高いコンタミ保持能力のため、長寿命で洗浄コストを削減！

『ZESTRON SD 301』は、メタルマスクやスクリーンから防爆仕様の スプレー洗浄機によるクリーム半田・SMT 接着剤・厚膜ペースト除去用 の溶剤系洗浄剤です。 速乾性があり、洗浄工程の短縮ができます。また、印刷ミス基板の 洗浄にも効果的です。 高引火点のため手拭き洗浄や印刷機での裏拭きにも使用可能です。 【特長】 ■フラックス残渣を除去することが可能 ■高いコン...

メーカー・取り扱い企業： ゼストロンジャパン株式会社

【パレット・フラックス回収装置洗浄剤】ATRON SP 200

引火点がなく安全、低VOCで環境に良い！液寿命が長く、洗浄性が安定した…

ATRON SP 200は水系のアルカリ界面活性剤系洗浄剤で、パレットやフラックス回収装置向けに焼き付いたフラックス除去用として開発されたものです。 メタルマスクからクリーム半田を除去することも可能です。 スプレー、超音波、エアーバブリング装置などの使用に適しています。 【特長】 ■パレット・リフロー炉部品などの固着したフラックス洗浄に最適 ■液の長寿命化によるコスト・入替の手間など...

メーカー・取り扱い企業： ゼストロンジャパン株式会社

【中性水系フラックス洗浄剤】VIGON N 600

プリント基板（パワーモジュール・パワーLED・フリップチップ等）の洗浄…

VIGON N 600 は中性水系フラックス洗浄剤です。 インライン・バッチ式スプレー、浸漬方式用として開発されました。 中性でなおかつ優れた洗浄性と基板から幅広い種類のフラックス残渣を除去する能力は今までにない洗浄剤です。 また中性であるため、本洗浄剤は感作性の高い金属やポリマーに対して高い材料適合性を持ち合わせています。 【特長】 ■pH中性のため、優れた材料適合性 ■各種のフ...

メーカー・取り扱い企業： ゼストロンジャパン株式会社

【メタルマスク向け水系洗浄剤】HYDRON SC 300

引火点を持たない水系洗浄剤のため、洗浄装置に防爆仕様が不要！

『HYDRON SC 300』は、メタルマスク洗浄用として開発された水系洗浄剤です。 クリーム半田やSMT ボンドを常温にて確実に除去し、 メタルマスク表面上に残渣を残しません。 また、洗浄およびリンス工程にて使用可能で、洗浄剤残渣な...

メーカー・取り扱い企業： ゼストロンジャパン株式会社

【コ・ソルベント工程向け洗浄剤】ZESTRON CO 150

HFE系洗浄剤と組み合わせ、水を使わない工程となる！残渣のない素早い乾…

『ZESTRON CO 150』は、超音波浸漬工程用に専用設計された溶剤系洗浄剤です。 希釈せずに、HFE系洗浄剤との組み合わせでプレ洗浄、 もしくはコ・ソルベント用として使用可能。 特に電子部品、パワーモジュール、リードフレームベースの ディスクリート部品から共晶・鉛フリー無洗浄はんだの フラックス残渣を洗浄するのに適しています。 【特長】 ■共晶・鉛フリーはんだに対し...

メーカー・取り扱い企業： ゼストロンジャパン株式会社

【水系中性フラックス洗浄剤】VIGON N 680

スプレー洗浄工程用！銅やアルミなどの感作性の高い金属に対し材料適合性が…

『VIGON N 680』は、水系で、スプレー洗浄(インライン・バッチ)用に 専用設計された中性洗浄剤です。 電子基板から多様なフラックス残渣を除去し、低スタンドオフ部にも 非常によく浸透して洗浄することが可能。 さらに感作性の高い銅などの金属に対しても優れた材料適合性があります。 ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■特に低スタンドオフ部品下部の洗浄に...

メーカー・取り扱い企業： ゼストロンジャパン株式会社

【メタルマスク向け洗浄剤】ZESTRON SD 100

低臭気で、室温下で使用可能！メタルマスク、スクリーン向け クリーム半田…

『ZESTRON SD 100』は、防爆仕様スプレー式洗浄機にてメタルマスクから クリーム半田除去用に専用設計された溶剤系洗浄剤です。 フラックスの種類によって、印刷ミス基板にも使用することが可能。 さらに、印刷機での裏拭きや手拭き洗浄にも使用できます。 また、当製品はメタルマスクプリンターでの使用が世界の 主要メーカーによって承認されています。 【特長】 ■コンタミ保持...

メーカー・取り扱い企業： ゼストロンジャパン株式会社

【パワー半導体向けフラックス洗浄剤】VIGON PE 215N

効果的なリンスにより、銅基板の再酸化を防ぐ！活性化された銅基板を長期間…

『VIGON PE 215N』は、スプレー洗浄装置用として専用設計された 中性の水系洗浄剤です。 MPCテクノロジーにより、パワーエレクトロニクス部品から フラックス残渣を確実に除去することができ、特にダイアタッチ後や ヒートシンクはんだ付け後のパワーモジュールの洗浄に好適。 また、材料適合性と銅酸化膜除去に優れており、次工程の ワイヤボンディング/接着ボンディングやモールディ...

メーカー・取り扱い企業： ゼストロンジャパン株式会社

【ディスペンサーノズル洗浄剤】ZESTRON HC

SMTボンド除去用、着脱可能なディスペンサーノズルであれば、簡単に洗浄…

『ZESTRON HC』は、ディスペンサーノズルなどの治具からSMT ボンド 除去用として開発された改良アルコール系洗浄剤です。 マウンターノズルのはんだ粒子やダスト除去にも使用可能。 手拭き洗浄にて手軽にご使用いただけるようエアゾール缶で ご提供しております。 【特長】 ■ディスペンサーノズルや治具からSMT ボンドを確実に除去 ■速乾性があり残渣を残さない ■ハロゲ...

メーカー・取り扱い企業： ゼストロンジャパン株式会社

【共同研究】実装部品とイオン残渣の関係性

洗浄用はんだペースト・フラックスを選択することでより確実な洗浄性の確保…

今回のテーマであるイオンは電子デバイスに不可欠ではありますが、 意図しないイオンがデバイス表面や電極間・低スタンドオフに 残留することで「イオン残渣」となります。 また、原料要因だけでなく環境要因も含め多岐に渡る混入経路から 供給されるため、残留量を0にすることは技術的に大変困難です。 今回は、実装部品ごとのイオン残留量を見極めるために、はんだメーカー様に ご協力をいただきました。 ※詳細内...

メーカー・取り扱い企業： ゼストロンジャパン株式会社

【メタルマスク向け水系洗浄剤】VIGON TC 150

導電性ペースト用水系洗浄剤、メタルマスクやスクリーン版からの銀シンター…

当社で取り扱う、導電性ペースト用水系洗浄剤『VIGON TC 150』 をご紹介します。 メタルマスクやスクリーン版から、シリコン系やシリコンフリー、 銀・アルミニウムの導電性ペーストを除去するために 専用設計された製品。 銀シンターペーストの除去にもお使いいただけます。 【特長】 ■導電性ペーストに対し洗浄性が優れる ■メタルマスクやスクリーン版からの銀シンターペース...

メーカー・取り扱い企業： ゼストロンジャパン株式会社

【半導体向け中性フラックス洗浄剤】HYDRON SE 220

中性のため、材料適合性にも優れる！ダイアタッチ時などに発生するフラック…

『HYDRON SE 220』は、浸漬工程用一相タイプ水系洗浄剤です。 リードフレーム、ディスクリート部品、パワーモジュール、パワーLED、 フリップチップやCMOS といった各種の半導体パッケージから ダイアタッチ時などに発生するフラックス残渣を除去。 一相構造のため、非常に優れた工程管理性と良好なリンス性を示し、 ワイヤボンディングやモールディングなどの後工程を好適な表面状態...

メーカー・取り扱い企業： ゼストロンジャパン株式会社

【半導体向けフラックス洗浄剤】HYDRON SE 230A

表面張力が低いことが特長！狭い場所にも良好な洗浄結果をもたらします

『HYDRON SE 230A』は、浸漬工程用一相タイプ水系洗浄剤です。 リードフレームやディスクリート部品、パワーモジュール、 パワーLED、フリップチップやCMOSといった各種半導体から ダイアタッチ時に発生するフラックス残渣を確実に除去。 また、ワイヤボンディングやモールディングなど後工程での 銅基板の酸化膜除去にも優れています。 【特長】 ■銅基板をシミなく活性化...

メーカー・取り扱い企業： ゼストロンジャパン株式会社