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13件 - メーカー・取り扱い企業
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温度制御システムタンク『RKMH シリーズ』(加圧・真空タイプ)
PR撹拌真空、圧送、温度制御を1台で!加熱撹拌、真空脱泡、加熱などの用途で…
電熱線の内蔵されたマントルヒーターをタンクに取り付け タンクを直接加熱しPID制御にて温度制御を行います。 温度制御は温度制御コントローラーにて調整可能です。 撹拌粘度、撹拌目的に応じて撹拌機・撹拌羽根を設計、製造します。 また、10L以外の容量も製作可能です。その他、ご要望に合わせてオーダーメイド製作致します。常圧仕様もお取り扱いしております。 詳しくはお...
メーカー・取り扱い企業: 加藤ステンレス科学株式会社
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フッ素系溶剤で精密洗浄とランニングコスト削減を実現する洗浄装置
PRパーティクル除去性能と溶剤の低消耗の2つの機能を兼ね備えたフッ素系真空…
真空超音波洗浄装置「SAUBER/ザウバー」は、パーティクル除去に特化し、 精密洗浄に有効な多くの機能を搭載しながら溶剤の低消耗を実現する1槽式真空密閉型洗浄装置です。 従来から純水洗浄で行われているパーティクル除去・除塵洗浄をフッ素系溶剤洗浄で行うことが可能です。 純水と比べるとフッ素溶剤は排水が出ないクローズドシステムですので、工場側排水設備への負荷がありません。 また、液の再生利用も容易...
メーカー・取り扱い企業: 富士ハイテック株式会社
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旧版より30年間の進展を凝縮し、基礎から応用・実用までを網羅。 現場…
全・衛生対策と保守 第2部 真空応用システム 第1編 低・中真空の利用 第2編 金属材料の加工 第3編 薄膜 第4編 分子ビーム技術 第5編 表面分析 第6編 巨大真空システム 第7編 真空が牽引する次世代先端科学技術 第8編 環境・安全・衛生対策と法規 第9編 計算物理...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社エヌ・ティー・エス
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φ4インチ基盤対応のエネルギー半導体デバイス研究開発システムなどをご紹…
当社が取り扱う『超高真空マルチチャンバー連結システム』を ご紹介します。 超高真空搬送用チャンバーに複数の成膜・分析装置を連結した UHV一貫システムは、ALD、ECRプラズマ処理、スパッタ装置と XPS分析装置を連結。 他に、MEBチャンバーとXPS表面分析装置を連結したシステムや MBE室と酸化処理室、STM分析室を連結したシステムがあります。 【ラインアップ】 ■...
メーカー・取り扱い企業: ケニックス株式会社
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あらゆる用途に対応可能な高性能装置。調整後はボタンひとつでOK!
プラズマイオンボンバーダ PIB-20型は好評な弊社製PIB-10形親水処理装置の多機能モデル。TEM用支持膜の親水化処理、ダイアモンドナイフ等のクリーニング、有機材料のエッチング、PDMSの貼付とあらゆる用途に対応可能な高性能装置です。フルオート機能搭載で、調整後はボタンひとつでOK!RFプラズマ装置が導入困難な方、RFプラズマ装置が高価で手が出せなかった方に高性能なACプラズマ装置を低価格で!...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社真空デバイス
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先端薄膜デバイスの研究開発に最適。カスタマイズ容易な枚葉式超高真空イン…
10‐⁷paの排気性能を持つ超高真空スパッタリング装置。標準構成でカセット室・搬送室・エッチング室・複数のスパッタ室を装備。全自動CtoC方式による完全自動運転で研究開発作業の効率化を実現いたします。 高効率強磁性体用カソードやワイドエロージョンカソードなど成膜機構も選択でき、基板や目的に合わせて個別要求にご対応いたします。 シンプルな装置構成にも対応可能、リーズナブルなコスト対応を実現いたし...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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小型・低価格を実現。多目的簡易操作型RFプラズマクリーナー。
プラズマクリーナーPCU-30はSEM・TEM試料をプラズマでクリーニングする装置です。当社独自のRF電源を使用し、小型・低価格を実現。低エネルギープラズマで試料損傷を回避。•クリーン排気(TMP+SQP)・簡易操作で能率的です。詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。...【主な特徴】 ○SEM試料をプラズマでクリーニングする装置です。 ○当社独自のRF電源を使用し、小型・低価格...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社真空デバイス
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真空装置 基板用平行平板プラズマ処理装置 PC-RIEシリーズ
処理可能基板サイズ550×650mm。無廃液化・低ランニングコストを実…
「PC-RIEシリーズ」は、中型液晶基板、プリント基板等のアッシング、デスミア、表面改質、F系ガスエッチング等の処理が行えます。チャンバー手動開閉式研究開発用タイプから大気ゲート、搬送機構、カセットステーションを増設した全自動システムまでお客様のご要望に適したバージョンが選択できます。 【特長】 ○真空プラズマ技術は従来の処理に比べて良環境化 →クリーン化,無廃液化 ○低ランニングコス...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社電子技研
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各種基板・フィルムに対し、用途に応じた様々な官能基(親水、親油、密着性…
「PC-RIEシリーズ」は、各種基板/フィルム等に対して、様々な表面改質効果を与える処理が可能です。 もちろん、一般的なプラズマ処理装置として、アッシング、エッチング、デスミア等の処理も可能です。 チャンバー手動開閉式研究開発用タイプから大気ゲート、搬送機構、カセットステーションを増設した全自動システムまでお客様のご要望に適したバージョンが選択できます。 【特長】 ○官能基修飾処理...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社電子技研
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半導体、液晶の微細パターニング、DNAチップ製造など微細異方性加工に広…
チャンバー手動開閉式研究開発用タイプから大気ゲート、搬送機構、カセットステーションを増設した全自動システムまで貴社のご要望に適したバージョンが選択できます。プロセス再現性を重視し電極温調用チラー、APCを標準装備し、高真空プロセス対応のターボポンプを増設することができます。 【特長】 ○RIEプラズマエッチング装置 ○6インチまでのシリコンウエハ、小型角基板の異方性エッチングが可能 ○...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社電子技研
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高性能卓上システム!簡便な操作のタッチスクリーンと判りやすい指示表示
『V6-G』は、少量量産から研究開発までの広い製造範囲をサポート可能な 真空プラズマ表面処理装置です。 装置は表面処理、高度クリーニング及び活性化に用いることが可能。 内蔵の専用制御PLCは、自由に設定を行うことの出来る各プロセスと 各パラメーターを保存しておくことができます。 【特長】 ■高性能卓上システム ■少量量産から研究開発までの広い製造範囲をサポート可能 ■装...
メーカー・取り扱い企業: ピンク・ジャパン株式会社
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「いまさら聞けない」プラズマ技術を図解を交えて解説!プラズマ表面処理装…
ピンク・ジャパンが取り扱うプラズマ表面処理装置とプラズマ原理が分かる 小冊子の紹介です。 物質は温度によりその状態を変化させます。 一般的に知られている物質の凝集状態は、固体、液体、気体です。 しかし、これらに続く状態が存在します。それが「プラズマ」です! プラズマは、気体がイオン化された状態であり「第4 の状態」とも言われています。ガスとプラズマの違いは 高い電気伝導率と化学反...
メーカー・取り扱い企業: ピンク・ジャパン株式会社
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IonPOWDERによる粉体の革新的な表面処理。 粉体へのイオン注入…
特徴 ・多種のガスが使用可能(Ar, He, N2, O2, SiH4, 混合ガス) ・装置はレシピで動作可能 ・PVD(physical vapor deposition)機構も、増設できます。 プロセスの利点 低温表面処理:元の材料特性が保持されます。 コーティング不要:イオンが深部までで注入されるため、表面は剥がれません。 部品の形状を尊重:追加の加工が不要です。 精密で...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社マツボー
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微細加工装置に適用可能!ECR放電型の高出力プラズマ源をご紹介します
『EPS-120』は、微細加工装置に適用できるECR(電子サイクロトロン共鳴) 放電型の高出力プラズマ源です。 複数配置により大面積プラズマを実現するモジュールコンセプト。 ドライエッチング装置やアッシング装置のソースパワーをはじめ、 反応性イオンビーム加工装置(RIBE)のイオン源などに応用できます。 【特長】 ■独創的な磁石構成による大容積ECR磁場 ■強力な冷却シス...
メーカー・取り扱い企業: ノベリオンシステムズ株式会社
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真空プラズマ&コロナ処理用ジェネレータ!重要なパラメータのほとんどを制…
Tantecの『HV-Xジェネレータシリーズ』は、コロナ&プラズマ電源であり、 スタンドアロン型の表面処理機に利用できます。 そのほか、OEM製の自動化ラインにおいての表面処理装置としてもご利用可能。 出力放電制御は、電圧または電力制限のいずれかが可能です。 【ラインアップ】 ■HV-X02 ■HV-X10 ■HV-X20 ■HT-Transformers ※詳し...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社第一メカテック
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