自動ポンプ | イプロスものづくり

PRインターフェックスWeek東京に出展します。ニッチだけど新しい、費用対…

ジャパンマシナリーは、「インターフェックスWeek東京」に出展いたします。一つのカテゴリーに収まりきらない製品群を持つ当社のブースでは、商品開発、プロセス開発、生産技術、製造、保全までのすべてのご担当者様必見です。わずか1μL/秒の極小領域対応のシングルユース対応シングルユースマイクロドージングポンプ「QB2-SD」や、ゲームチェンジャーとなる世界最小クラスの顕微ラマン分光センサー...

メーカー・取り扱い企業：ジャパンマシナリー株式会社

スリーピースの脈流が少ないギアポンプ

PR新食品衛生法適合ポンプ！小型軽量で最大0.2MPaの吐出圧力性能を保持…

2020年施行の新食品衛生法に適合した、脈流が少ないギアポンプです。小型軽量でありながら最大0.2MPaという吐出圧力性能を持っています。プラスチックで成型することにより、耐薬品性向上やコストダウンに成功しました。ギアポンプにつきましては、お客様のご希望に合わせたカスタム対応をメインに設計、製造、販売させていただいております。ご希望の流量や吐出圧、使用する液体の種類やポンプの運転D...

メーカー・取り扱い企業：スリーピース株式会社営業部

平面研削機オートロンミニ1型　自動立軸平面研削　学術・研究向け

小型の自動立軸平面研削機として開発、材料特性に合わせて主軸回転数、切込…

材料特性に合わせて主軸回転数、切込量、送り速度の選定が幅広くできます。 ■ 材料特性に合わせて主軸回転数、切込量、送り速度の選定が　幅広くできる ■ 砥石軸の設定切込量が0.1μm/passより任意に選定でき、　自動定寸加工が可能 ■ テーブル移動の左右端で自動的に設定量分を切込み、　加工能率の向上が実現...■主電動機　　三相200V 0.75kW ■テーブル左右送り　　...

メーカー・取り扱い企業：株式会社マルトー本社

多機能スパッタリング装置【MiniLab-S060】

コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

Φ2inchカソード x 4基搭載同時成膜：3元同時成膜（RF500W or DC850W）+ HiPIMS（PulseDC 5KW） x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング RIEエッチングステージRF300W（メインチャンバー） + <30Wソフトエッチング（LLチャ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

卓上平面研削機テクノラップ、テクノラップステップオート　研究用

教育機関、研究室・実験室向けに小型化した立軸平面研削機。カップ型ホイー…

教育機関、研究室・実験室向けの小型卓上平面研削機 ■主軸回転数は無段変速、試料の加工特性に合わせて回転数が調整可 ■研削切込量が最少0.01mm（ステップオートは0.001mm）から設定可能で試料外周部のダレを低減し高精度な平面を実現 ■テーブル送りは自動、送り速度も無段変速式 ■金属マウント台（高平行精度）をマグネットクランプにセットする方式で試料の脱着は容易 ■カップホイールを装着...

メーカー・取り扱い企業：株式会社マルトー本社

厚膜塗布に高粘度専用スピンコーター！自動ポリイミド塗布装置

～10000cP程度の高粘度ポリイミドを均一に塗布する高粘度専用スピン…

【特徴】・高価な薬液の吐出量を高精度ポンプにて制御・均一良く塗るためのカップ構造（密閉式、回転カップ式）・少量で塗り広げるプロセスのノウハウ・少量生産に対応したシリンダ対応ディスペンサーも搭載可能（オプション）・高粘度材料で難しいEBR（エッジリンス）機能高粘度ポリイミドをスピン塗布する装置です。高粘度対応ポンプ及び、薬液温調システムを搭載し、高粘度ポリイミドをムラ無く...

メーカー・取り扱い企業：株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

スパッタリング装置『MiniLab-060』

蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み…

コンパクト/省スペース、ハイスペック薄膜実験装置下記蒸着源から組合せが可能・抵抗加熱蒸着源 x 最大4 ・有機蒸着源 x 最大4 ・電子ビーム蒸着・2inchスパッタリングカソード x 4（又は3inch x 3, 4inch x 2）・プラズマエッチング：メインチャンバー、ロードロックチャンバーのいずれでも設置可能【スモールフットプリント・省スペース】・デュア...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

真空蒸着装置『MiniLab-090』（グローブボックス用）

グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置高さ570m…

80ℓ大容積MiniLab-080チャンバーをグローブボックスベンチ内に収納可能な構造にしたMiniLab-080のグローブボックスモデル。作業ベンチを最大限活用できるスライド開閉式チャンバー、メンテナンス性を考慮した背面開閉ドアを採用。プロセス処理後の試料を大気・水分に露出せずグローブボックス内の管理された環境内で一貫した処理ができます。GB, ガス精製機はGBモデルの仕様を参照下さい。 ◉ ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

LED材料用液体・粉体自動分注シリーズ　SAP-1 A14/M6

LED分注工程の生産革新！生産現場で要求される精度を実現します

LED材料用液体・粉体自動分注シリーズは、自社開発の供給ヘッドを使い液体・粉体を高精度分注を実現、シリンジ・カップに自動供給するシステムです。LED生産現場で要求される精度を実現します。また、生産効率、材料の無駄を減らし、人為的ミスによる不良を防ぎます。全自動（SAP-1 A14）・半自動（SAP-1 M6）のシステムを自由に構成できます。シリンジ・カップ共に対応可能です。詳しくはお問い合わ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社マルコム

【動画で紹介】半導体ウェハ用ワイヤーソースラリー調合設備

人的ミス防止で生産効率UP!ワイヤソー用スラリーを自動搬送・計量・調合…

本製品は、半導体ウェハをインゴットの状態から、ワイヤソーにより切断する際に、必要となるスラリーの製造を目的とした設備です。２台の撹拌設備、１台の貯蔵設備、３台のコンベア、オイル搬送用のポンプで構成され、粉体搬送による発塵を防止するための集塵機も搭載しています。粉体搬送は自動で行い、モータ、ポンプ、ロードセルなどは非防爆仕様で、省力化に配慮をしています。登録されたレシピに従い搬送、計量、調合...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ワイ・エム・エス本社営業部

◆nanoPVD-T15A◆ 高性能有機膜・金属膜蒸着装置

限られたラボスペースを有効活用できる小型ベンチトップサイズ装置に、最新…

OLED, OPV, OTFT等の有機材料用・温度応答性/安定性に優れた高性能有機ソースLTE（最大4源）、交換・メンテナンスが容易に行える金属蒸着ソースTE（最大2源）を採用、手動運転モードから、自動連続多層膜、同時成膜の自動モードでの運転も可能です。コンパクトサイズにも関わらず、基本性能・膜質・均一性・操作性の全てを犠牲にせず、スタンドアローン大型機と同様の性能を実現しました。更に...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

スパッタリング装置『nanoPVD-S10A』

高機能コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…

高機能ハイパフォーマンス RF/DCマグネトロンスパッタリング装置 ● 到達圧力5 x 10-5Pa（*1x10-4Paまで最速30分！） ● スパッタ源 x 3：連続多層膜膜制御, 同時成膜 ● 膜均一性±3% ● 多彩なオプション：上下・回転、ヒータ、磁性材用カソード、他 ◉ nanoPVDは、最大スパッタ源3源+3系統（MFC制御）、RF/DC PSUの増設（最大2電源まで）...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

スパッタ・蒸着ソース複合型成膜装置【nanoPVD-ST15A】

スパッタカソード・蒸着ソース混在型薄膜実験装置コンパクトフレームに…

抵抗加熱蒸着源（金属蒸着）、有機蒸着源（有機材料）、マグネトロンスパッタ（金属・絶縁材）、3種類の成膜コンポーネントをチャンバー内に設置、様々な薄膜実験装置に1チャンバーで対応が可能です。 ◉組み合わせは3種類 1. スパッタカソード + 抵抗加熱蒸着源x2 2. スパッタカソード + 有機蒸着源x2 3. スパッタカソード + 抵抗加熱源x1 + 有機蒸着源x1（*DCスパッタのみ） ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

枚葉式ウエハ処理装置『自動レジスト塗布現像装置』

高性能のポンプを使用し高精度の塗布を行うウエハレジスト塗布装置

『自動レジスト塗布現像装置』は、枚葉式の自動レジスト塗布現像装置です。装置内にレジスト塗布チヤンバーと現像チヤンバーを設けています。レジスト塗布は粘度に応じた高性能のポンプを使用し、高精度の塗布を行います。また、現像液は電子冷熱器により常に一定温度に保たれ循環し、高精度の現像処理が出来ます。ウエハの搬送は装置のセンターに3軸多関節クリーンロボットを設置し、ローダー、アンローダーも備...

メーカー・取り扱い企業：ジャパンクリエイト株式会社

アニール炉『ANNEALウエハーアニール装置』

Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"、又は6"基板…

高真空水冷式SUSチャンバー内に設置した加熱ステージにより最高1000℃までの高温処理が可能です。チャンバー内にはヒートシールドが設置されインターロックにて安全を確保。マスフローコントローラは最大3系統まで増設が可能、精密に調整されたプロセスガス圧力での焼成作業が可能です（APC自動プロセス制御システムオプション）。又、フロントビューポート、ドライスクロールポンプ、特殊基板ホルダー、熱電対増設...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

スパッタリング装置『MiniLab-026』

小型、省スペース! 研究開発に最適蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…

必要最小限のモジュール・コントローラをPlug&Play感覚で19"コンパクトラックに組込む事により無駄が無く、小型省スペース・シンプル操作・ハイコストパフォーマンスを実現した、フレキシブルR&D用薄膜実験装置です。マグネトロンスパッタ（最大3源）もしくは抵抗加熱蒸着（金属源最大4、有機材料x4）に対応します、又基板加熱ステージを設置しアニール装置、プラズマエッチングも製作可能。グローブ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

スパッタ・蒸着源複合型薄膜装置【nanoPVD-ST15A】

真空蒸着（金属・有機蒸着源）、スパッタリングカソードの混在設置が可能な…

nanoPVD-ST15Aは、抵抗加熱蒸着源、有機蒸着源、Φ2inchマグネトロンスパッタリングカソードを同時に設置可能な複合型薄膜実験装置。ベンチトップサイズ・省スペース、限られたラボスペースを有効活用いただけます。顕微鏡用試料作成用コーターではありません、電子回路基板、電池、MEMS、新素材開発などの研究開発用途で求められる高品質な薄膜を作成することができます。ガス系統最大3系統（プロ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社