• 小型真空蒸着装置『HVE-100』【クリーンな成膜を実現!】 製品画像

    小型真空蒸着装置『HVE-100』【クリーンな成膜を実現!】

    PRクリーンな成膜が可能な小型真空蒸着装置!シャッタを具備しているので安定…

    『HVE-100』は省スペースな小型蒸着装置です。基板成膜面は下向きで 設置、抵抗加熱源からの蒸発で上向きに成膜する配置(デポアップ)です。 シャッタを具備しているので安定した状態で蒸着が可能です。 【特長】 ■高真空排気系:<10^-4Paの到達真空度でクリーンな成膜が可能 ■チャンバはメンテナンスしやすいようにSUS製で内部に防着板を配置 ■省スペース/小型化:W500×D39...

    • 2022-10-27_13h55_12.png
    • 2022-10-27_13h55_22.png
    • 2022-10-27_13h55_29.png
    • 2022-10-27_13h55_35.png
    • 2022-10-27_13h55_57.png
    • 2022-10-27_13h56_06.png

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ハイブリッジ 東京営業所

  • 【MiniLab(ミニラボ)】シリーズフレキシブル薄膜実験装置 製品画像

    【MiniLab(ミニラボ)】シリーズフレキシブル薄膜実験装置

    PRモジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…

    【フレキシブルシステム】 MiniLab薄膜実験装置シリーズは、豊富なオプションから必要な成膜方法・材料に応じて都度、ご要望に適したコンポーネント(成膜ソース、ステージなど)、制御モジュールを組み込み、カスタマイズ品でありながら無駄の無いコンパクトな装置構成を容易に構築することができます。モジュラー式制御ユニットをPlug&Play 感覚で装置を構成することにより応用範囲が広がり、様々な薄膜プロ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • SiCコーティング装置(AF-IP装置) 製品画像

    SiCコーティング装置(AF-IP装置)

    緻密で耐摩耗性と耐酸化性に優れたSiC(シリコンカーバイド)膜をPVD…

    新開発アークフィラメント型イオンプレーティング法により従来に無かったPVD法による」SiC成膜を実現。 400℃以下の低温で緻密で耐摩耗性・耐酸化性に優れたSiC膜を形成可能とした新成膜技術を採用。 個体シリコンを出発材料としたイオンプレーティング法のためシンプルで環境負荷の少ないクリーンなプロセスを実現。 膜厚や膜質の制御性も高くCVDに比べ、排ガス処理・メンテナンス性・設置面積・ランニン...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • 自動平盤打抜機『ARROWCUT STS1050SE』 製品画像

    自動平盤打抜機『ARROWCUT STS1050SE』

    日光"ARROWCUT"の名を継承したエントリーモデル

    本製品は、安定感抜群のハイスピードを実現したシンプルで使いやすい 自動平盤打抜機です。 最小寸法から最大寸法まで7,500枚/時間で生産可能。 低価格設定で、最高クラスのコストパフォーマンスを発揮します。 豊富なオプション装置の装備も可能です。 お気軽にお問い合わせください。 【特徴】 ■薄紙(厚み0.1mm)から厚紙2.0mm、段ボールはB段までに対応 ■グリッパーバ...

    メーカー・取り扱い企業: 有限会社日光エンジニアリング

1〜2 件 / 全 2 件
表示件数
45件
  • < 前へ
  • 1
  • 次へ >

※このキーワードに関連する製品情報が登録
された場合にメールでお知らせします。

  • icadtechnicalfair7th_1_pre2.jpg

PR