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MCA4A 4チャンネルMCA(マルチチャンネル・アナライザ )
PRPHA(パルス波高分析)モードとMCS(マルチチャンネル・スケーラ)モ…
PHAモードでは、16ビットADCを8nsごとに4チャンネル連続して収集し、32kの分解能を実現しています。 ポールゼロ・フィルタと台形波シェーピングを備え、典型的なプリアンプ信号も処理できます。 MCSモードでは、右側の4つのBNCコネクタを用いて、Start, Stop1, Stop2, CHADVの各入力信号を処理します。 内部メモリに、最大16Mbinのスペクトルを蓄積することが...
メーカー・取り扱い企業: 大栄無線電機株式会社
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走査電子顕微鏡用試料作製に最適! 試料作製の煩わしさを解消します。
「SC-701AT」は、全自動コーターです。 排気操作完全自動式で、膜厚制御連動式です。 走査電子顕微鏡用試料作製に最適で、デバイスの電極膜付けにも使用できます。 【特長】 ○電子顕微鏡用試料を全自動で手軽に作製 ○プリセット方式により、膜厚のコントロール(簡易型)が可能 ○前処理装置だか...
メーカー・取り扱い企業: サンユー電子株式会社
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500℃温度サイクル用薄膜ストレス測定装置 FLX-2320-S
500℃温度サイクル用 薄膜ストレス測定装置 FLX-2320-S
℃までの温度範囲で 非接触・非破壊にて薄膜ストレスを 正確に測定することが可能な測定装置 【特徴】 ○膜付けされた薄膜によって生じる基板の曲率半径の変化量を算出 曲率半径は、基板上を走査するレーザーの反射角度から計算されるため 膜付けの前後で曲率半径を測定し、その差を算出することにより 曲率半径の変化量(R)を求める ○測定チャンバー内の温度を自由に設定できるため 実...
メーカー・取り扱い企業: ヤマト科学株式会社
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研究開発・品質保証のスピードアップに貢献!手間を惜しまないこだわりが、…
利な刃物を用いて材料から薄片を直接切り出す手法 ■高精度精密研磨:正確に試料を固定でき、角度補正、荷重コントロール、研磨盤の回転方向や速度等の幅広い設定が可能 <観察・測定> ■金属顕微鏡から走査電子顕微鏡まで、クラック・ボイドからウィスカやマイグレーションまで幅広く対応 ■プリント基板を中心に様々な試料を対象とした測定・測長も実施 <半導体パッケージの開封とIC特性チェック> ■ボン...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社クオルテック
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ナノリソグラフィシステム『NanoFrazor Scholar』
卓上型ナノリソグラフィ直描システム
NanoFrazorリソグラフィシステムは、熱走査プローブ方式のリソグラフィー技術をベースとしています。NanoFrazorのコア技術は、複雑なナノパターンの描画およびイメージングに使用される超シャープな加熱可能なプローブにあります。 加熱された...
メーカー・取り扱い企業: ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社
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ナノ分解能ピエゾ位置決めステージは世界中で、各種色々な分野で使用させて…
系に提供することができます。 ナノ分解能ピエゾ位置決めステージは、透光精密光学デバイスの位置合わせと調整に主に使用され、顕微鏡や分析機器と組み合わせて位置合わせや測定に使用されます。これには、走査プローブ顕微鏡(例:原子間力顕微鏡)、ナノポジショニング、計測、生物学研究、マイクロエレクトロニクス、マイクロ操作、精密制御などの応用があります。 ...
メーカー・取り扱い企業: ワイヤード株式会社
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薬品での表面腐食による、金属組織検査用の前処理を行います。
につきましては、ご相談下さい。 【各種試験から断面研磨・観察まで対応】 金属組織観察前の各種気象的・機械的環境試験にも対応。 試料カット⇒樹脂埋め⇒鏡面研磨仕上げ⇒エッチング⇒金属顕微鏡・走査電子顕微鏡等による観察まで承ります。...
メーカー・取り扱い企業: JAPAN TESTING LABORATORIES株式会社 本社
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汎用性の高いUV、グリーンおよびIRピコ秒レーザー: ピコ秒マイクロ…
の作成が可能です。ポリゴンスキャナーを使用している場合などで、既存のピコ秒レーザーの中で最も低いタイミングジッターで真のパルスオンデマンド(POD)および位置同期レーザ出力(PSO)を可能にし、高速走査速度での高品質処理を可能にします。 【仕様】 ・IceFyre IR50: >200µJ@200kHz、>50W@400kHz ・IceFyre GR50: >100µJ@500kHz、>...
メーカー・取り扱い企業: スペクトラ・フィジックス株式会社
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【DL可STEM/EDS】STEM/EDSによる半導体絶縁膜評価
STEM-EDS観察は半導体のPoly-Si(ポリシリコン)間の絶縁膜…
STEM(走査型透過電子顕微鏡 )とEDS(エネルギー分散型X線分析装置)では細く絞った電子線を試料上で走査することで、試料の組成に関する情報(原子番号を反映したコントラスト像)が取得できます。 加えて以下の特...
メーカー・取り扱い企業: セイコーフューチャークリエーション株式会社
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ディスプレイモニタ代替品カタログ-2
半導体製造装置、産業機器、液晶製造装置、その他制御装置などに使用されているモニタの置き換えに最適です。○対応装置メーカ:日立国際電気,KEM,アネルバ,Karl Suss,オリンパス ○対応モニターメーカ:富士電機,東ソー,Planar...各種業界で使用されているほとんどのディスプレイモニタの代替を可能にします。対応設備名→RAM-200,RAM-250,RAM-6500,RAM-61000,R...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社エイブル
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【資料DL可/EBSD】EBSD を用いたアルミスパッタ膜の評価
電子線後方散乱回折法EBSDはアルミスパッタ膜の性能評価や下地材料の選…
電子線後方散乱回折法EBSD(Electron Backscatter Diffraction Pattern)は走査電子顕微鏡SEMと組み合わせることで以下が可能です ●微小領域の結晶粒の形状および方位の測定 ●基準方位に対する結晶の配向の確認 ●結晶方位差の情報から材料内部の歪の測定 本事例では...
メーカー・取り扱い企業: セイコーフューチャークリエーション株式会社
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ナノリソグラフィシステム『NanoFrazor Explore』
高機能ナノリソグラフィ直描システム
NanoFrazorリソグラフィシステムは、熱走査プローブ方式のリソグラフィー技術をベースとしています。NanoFrazorのコア技術は超シャープな加熱可能なプローブにあり、複雑なナノパターンの描画およびイメージングを可能としています。 加熱され...
メーカー・取り扱い企業: ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社
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