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PR今までの3ton仕様 (ISB-S型)より軽荷重かつ安価な製品としてラ…
お客様よりお問い合わせが多かった製品を標準品としてラインナップ致しました。回転式作業台やコンベヤの方向転換、ディスプレイや撮影用として使用されています。 ■回転速度:Φ600 1~6r.p.m(速度調整可能) Φ1000 1~7r.p.m(速度調整可能) ■アンカーで固定したり、簡易的であればそのまま置いて使用できます。 ■フットスイッチなどのオプション品などもあり...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社井口機工製作所 本社
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PR安定した溶着を実現可能なサーボプレス超音波溶着機が、工具レスでのスタッ…
2010年に超音波サーボ溶着機をリリースしてから11年の歳月を得て、デュケインの超音波サーボ溶着機が新たに生まれ変わりました! サーボモーターをアップグレードし、最大荷重はそのままで、上下ストロークの速度をアップして、サイクルタイムを短縮。 従前機でも使用可能な特許技術の溶融検知機能や、速度プロファイル機能、ダブルホールド制御機能などに加え、荷重検出制御、荷重上昇割合制御機能など、より高度な溶...
メーカー・取り扱い企業: デュケインジャパン株式会社
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Hepcoの極限温度範囲/真空対応ベアリングは、最も困難な環境に対応す…
許容負荷範囲:0〜8,000N 速度 :0〜8m / s Hepcoの極端な温度と真空の範囲は、最も困難な環境に標準化されたリューションを提供することにより、設計エンジニアが直面する課題に対応します。 •半導体、ウェ...
メーカー・取り扱い企業: ミワ株式会社
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真空環境下でのUV照射により硬化処理効率UP! 最大8インチまでのウ…
%) 本機真空チャンバー圧(5Pa)での 酸素濃度⇒ 0.001%◇ 主要性能 ・到達圧力: 6.0Pa 以下 ガスバラスト閉時) ・リークレート: 10.0 Pa/min 以下 最大排気速度 500L/min ドライポンプを使用 ビルドアップ基準値: 1.0Pa ・ L / sec をチャンバー容積に換算 ・ UV 照射性能 高圧水銀ランプ採用により、短時間高出力 UV 照射を実...
メーカー・取り扱い企業: KNE株式会社
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12インチリング付きウェハ処理が可能! 表面改質、無機物/有機物汚染…
の評価、研究に最適! ★ 高速、低価格 ★ 様々なオプション機能 ★ 300mmウェハ、矩形基板への対応可 [ 主要性能] ・到達圧力:6.0Pa以下(ガスバラスト閉時) ※最大排気速度500L/min ドライポンプを使用 ・リークレート:1.07 Pa/min以下 ※ビルドアップ基準値:0.1Pa・L / sec をチャンバー容積に換算※ビル ドアップ基準値:0.1...
メーカー・取り扱い企業: KNE株式会社
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三爪電動グリッパ「ESG1-STシリーズ」【レンズ、水晶の把持】
高精度の位置、速度制御を達成した電動グリッパに、三爪タイプをバリエーシ…
三つ爪電動グリッパ「ESG1-STシリーズ」は、ご好評いただいています二つ爪電動グリッパ「ESG1シリーズ」の三つ爪タイプです。特殊カム採用により、軽量、コンパクト化を実現。幅広い把持力バリエーションに加え微妙な把持力制御が可能となりました。高精度な繰返し停止精度により、今までハンドリング搬送が難しかった医療用容器、デジタルカメラ用レンズなどの搬送にも最適なモジュールです。...●特殊カム採用によ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社TAIYO
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【資料公開】テープを使用する半導体デバイスの自動・省力化へ…
リフロー行程を行う前の封止テープ、半導体デバイスを作るうえでの補強板等…
【特長】 ■試作・少量多品種・セル生産に好適 ■小気味よい速度で高精度貼付け ■場所を取らないため、ライン内に導入できる ■貼付先にコンベア等を使用することにより自動排出等も対応可(要相談) 【シール・テープ使用事例】 ■補強板貼り付け ■PI(...
メーカー・取り扱い企業: 三井金属計測機工株式会社 FAソリューション関連事業
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作業者によるUV〜加熱処理間の搬送を1台の装置に簡略化し安⼼して使⽤で…
05(nm) ・照度 :調整可 熱処理部 ・処理温度:250℃(最⾼設定温度) ・加熱方式:面上ヒータ(幸和独自ヒータ) 搬送部 ・処理時間:設定可能 ・搬送時間:設定可能 ・搬送速度:調整可能 その他 処理パターン(UV→熱処理 熱処理→UV等) 搬送パターン(処理中停止等) ※その他、ご要望があれば特殊対応可能です...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社幸和
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モーター駆動採用!無発塵でクリーンルームにも好適。
位の高精度設定が可能 ■フィルム予備加熱機構 (タイマー付) ■ステージ加熱 (Max. 100℃) ■ステージストローク調整機構 (Max. 90mm、1mmレンジ) ■ステージ上昇速度可変機構 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: ヒューグルエレクトロニクス株式会社
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パワーLSI用、高輝度LED用、高性能レーザー用に注目されています。
窒化ガリウム(GaN)は、非常に硬く、機械的に安定したワイド・バンドギャップ半導体です。より高い絶縁破壊強度、より速いスイッチング速度、より高い熱伝導率、より低いオン抵抗によって、GaNに基づくパワー・デバイスは、シリコン・ベースのデバイスよりも非常に優れています。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社豊港 半導体材料事業部
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