後付け電動アシストユニット新製品『E-Drive Optima』

PR傾斜搬送や速度制御が可能に！高機能の電動アシストユニットE-Drive…

『E-Drive』は、最大総重量500kgの補助対応可能な高アシスト性能の 電動アシストユニットです。 今回は新シリーズのE-Drive Optimaが登場。 使い勝手はそのままに、傾斜搬送や速度制御にも対応しました。 負荷の高い重量物用台車の手押し作業でも、 当製品なら手元操作で簡単に操作 可能で、作業者の負担軽減・効率を向上させます。 　 【特長】 ■作業者の負担軽減・...

メーカー・取り扱い企業： テンテキャスター株式会社

新型超音波サーボ溶着機 Infinityシリーズ

PR安定した溶着を実現可能なサーボプレス超音波溶着機が、工具レスでのスタッ…

2010年に超音波サーボ溶着機をリリースしてから11年の歳月を得て、デュケインの超音波サーボ溶着機が新たに生まれ変わりました！ サーボモーターをアップグレードし、最大荷重はそのままで、上下ストロークの速度をアップして、サイクルタイムを短縮。 従前機でも使用可能な特許技術の溶融検知機能や、速度プロファイル機能、ダブルホールド制御機能などに加え、荷重検出制御、荷重上昇割合制御機能など、より高度な溶...

メーカー・取り扱い企業： デュケインジャパン株式会社

研究・試作に最適な小型スパッタ装置『VS-R400F』

実験・研究・評価・試作に好適！樹脂フィルムや金属箔に高速、高精度、低ダ…

(低インダクタンスアンテナ)方式プラズマ源を採用し、 超高速、高品質な真空成膜を実現するスパッタ装置です。 LIA方式の誘導結合型プラズマ(LIA-ICP)によるアシスト効果により、 成膜速度を落とすことなくダメージを低減し、高品質な成膜を実現。 また、高密度プラズマの特性を活かし、反応性スパッタにも 対応可能です。 【特長】 ■実験・研究・評価・試作に好適なスパッタ装置...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社SCREENファインテックソリューションズ

研究・試作に最適な小型スパッタ装置『VS-R400G』

実験・研究・評価・試作に好適！ガラス、金属などの平板基材に高速、高精度…

(低インダクタンスアンテナ)方式プラズマ源を採用し、 超高速、高品質な真空成膜を実現するスパッタ装置です。 LIA方式の誘導結合型プラズマ(LIA-ICP)によるアシスト効果により、 成膜速度を落とすことなくダメージを低減し、高品質な成膜を実現。 また、高密度プラズマの特性を活かし、反応性スパッタにも 対応可能です。 【特長】 ■実験・研究・評価・試作に好適なスパッタ装置...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社SCREENファインテックソリューションズ

ロールtoロール生産ライン速度300m/minでも安定した除塵！

ULT roll to rollウェブクリーナー装置は コンバーティ…

インラインでもローラーメンテナンスの自動化を可能としたウェブクリーナー装置です。24時間稼動ライン、スマート工場化にも向けたシステムです。オペレーションのダウンタイム（稼動停止時間）の削減や作業員の効率アップに貢献します。 ＜コンバーティングの技術領域＞ コーティング技術（ウェットコーティング、ドライコーティング〔蒸着、スパッタリング、その他〕） ラミネーティング技術、粘着加工技術、プリ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ヤンゴージャパン

【納入事例】地方独立行政法人大阪産業技術研究所様

多層膜の作成を自動で実行することが可能なスパッタ装置の納入事例をご紹介…

【MS-3C100L ソフトウェア機能】 ■製膜ログ機能 ・各処理工程における、真空度・冷温媒温度・ガス流量・スパッタ電力値・ 　基板ホルダー回転速度の自動保存が可能 ■製膜レシピ機能 ・各処理工程における、使用基板・使用ターゲット・真空度・冷温媒設定温度・ガス流量・ 　スパッタ電力値・基板ホルダー回転速度・製膜時間・シャッター開閉を設定可...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社大阪真空機器製作所

【多目的真空蒸着装置】HEX用サンプルステージ

多目的真空蒸着装置HEXシステム用サンプルステージ | 固定、回転、回…

【主な仕様】 回転速度：0または2～20rpm 加熱温度：最高500℃...

メーカー・取り扱い企業： テガサイエンス株式会社

射出成形機連動型高速スパッタ・重合システムSPP-SERIES

樹脂基板への金属膜、保護膜が全自動で成膜可能！

【仕様】 ○最大基板寸法　W180×L340×D150mm ○基板材質　PC, PET, PP, PE 等 ○スパッタレート：10nm/sec ○排気速度　0.1paまで30sec ○排気系　RP＋TMP ○生産サイクルタイム：基板投入から成膜、重合、取り出しまで約80sec以下 ○反射率：85％以上、KOH　１％　10min ○SP室＋重合...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社昭和真空

【用途例】スパッタリングターゲット　複合材料SiC/Si

SiC/Si複合材料をターゲット材としてご使用頂いております。

を含有させた複合材です。 結晶性Siよりも曲げ剛性が高く、使用途中の割れ、チッピング等の発生がなく最後まで安定した成膜が可能となります。 結晶性Siターゲットの1.3倍の成膜レート（成膜速度）により、効率的な成膜が可能です。...

メーカー・取り扱い企業： 日本ファインセラミックス株式会社

『RAMフォース』で従来のスパッタリング技術の課題を解決！

基板へのダメージを60%以上低減！低ダメージ性を維持したまま成膜速度を…

、パイロットラインから 量産ラインへと展開することができます。 【特長】 ■特許取得 ■基板へのダメージを60%以上低減 ※従来の平板式スパッタリングとRAMカソードとの比較 ■成膜速度を3倍以上向上 ※従来の対向式スパッタリングとRAMカソードとの比較 ■京浜ラムテックの独自技術 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 京浜ラムテック株式会社