【カタログ進呈！】高性能オシロスコープ　PicoScope

PR先端デバイスの開発など、優れた信号解析性能が要求されるアプリケーション…

高性能オシロスコープPicoScope 6428E-Dは、 既存のPicoScope 6000Eシリーズの性能を拡張したもの。 高エネルギー物理学、LIDAR、VISAR、分光分析、加速器、 および他の高速信号解析に取り組む科学者や研究者にとって理想的なツールです。 【特徴】 ・周波数帯域 ３ GHｚ ・最高サンプリング速度 10 GS/s ・分解能可変8－12ビット ・メモリ４GS ・アナロ...

メーカー・取り扱い企業： Pico Technology Ltd.

新型超音波サーボ溶着機 Infinityシリーズ

PR安定した溶着を実現可能なサーボプレス超音波溶着機が、工具レスでのスタッ…

2010年に超音波サーボ溶着機をリリースしてから11年の歳月を得て、デュケインの超音波サーボ溶着機が新たに生まれ変わりました！ サーボモーターをアップグレードし、最大荷重はそのままで、上下ストロークの速度をアップして、サイクルタイムを短縮。 従前機でも使用可能な特許技術の溶融検知機能や、速度プロファイル機能、ダブルホールド制御機能などに加え、荷重検出制御、荷重上昇割合制御機能など、より高度な溶...

メーカー・取り扱い企業： デュケインジャパン株式会社

多機能型・真空蒸着装置 「SEC-22C」

リフトオフ・厚膜・低温成膜対応 昭和真空の技術を結集させた最上位モデ…

多機能型・真空蒸着装置 「SEC-22C」は、蒸発源として電子ビーム式蒸発源を採用しています。 高融点金属や酸化物を成膜する事ができます。 蒸発速度の制御と膜厚の制御は水晶発振式膜厚計により行います。 主ポンプはクライオポンプを搭載しています。 操作制御系は全自動式になっています。 【特徴】 ○良好な膜厚分布が得られるように蒸発源と...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社昭和真空

LUXEL社製　抵抗加熱蒸着源(エバポレータ)　OLED

有機EL等の有機薄膜デバイスの開発に最適、抵抗加熱型蒸着源

型サイズ（10cc）のOLED２ ★特長★ - 揮発性有機物の低温蒸着に適した独自のデザイン - 50℃〜600℃での熱コントロールが可能 - 高パフォーマンス：2Å/秒以上の一定速度で成膜が可能 ...

メーカー・取り扱い企業： ラドデバイス株式会社

真空装置用冷凍機SUPCOLD

シンプルな構造で低価格を実現。消費電力、設置スペース、GWPの低減にも…

・冷却温度：－100℃～－140℃ ・最大負荷：2,000W～3,500W ・排気速度：100,000～220,000L/sec ・同様の装置に比べて、消費電力の削減、スタンバイ時間が 　短縮されております。 ・冷媒ガス：HFC、HCFC（規制）使用可能。 ・使用部材：米国、...

メーカー・取り扱い企業： アールエムテック株式会社

高真空蒸着装置『RD-1230』

サイリスタ制御により蒸着電圧及び、電流値の調整が可能！排気操作は全自動…

【仕様】 ■到達圧力：×10^-5Pa台 ※常温・無負荷・脱ガス時 ■排気速度：大気圧から30分で2.0×10^-4Pa ※常温・無負荷・脱ガス時 ■真空室径：φ230mm×240mmH 硬質ガラス ■蒸着機構：抵抗加熱方式 ・AC電源2極（切替式）：金属用 ・AC電...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社サンバック 本社

Coolteq ZERO 真空装置用冷凍機 Supcold社

HFC冷媒ガス無使用

・冷却温度：－100℃～－140℃ ・最大負荷：2,000W ~ 4,800W ・排気速度：100,000～330,000L/sec ・従来品と同等の性能。 ・冷媒ガス：グリーン冷媒。※HFCは不使用。 ・使用部材：日本、中国、米国、欧州、等...

メーカー・取り扱い企業： アールエムテック株式会社

【資料】コーティングの処理方法によるメリット比較表

処理方法の選定に！乾式法と湿式法のメリット・デメリットを掲載しています

当資料は、成膜・塗工速度、コスト、基材の性質、形状などコーティングの 処理方法によるメリット比較表です。 ニデックでは、乾式・湿式のコーティングからご要望に合った処理方法を ご提案。 真空蒸着処理「Lequ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ニデック コート事業部