電子 | イプロスものづくり

絞り込み条件

製品分類

メーカー・取扱い企業

新光電子-日亜化学工業株式会社の代理店30周年記念ページ公開

PR”光”を共に照らして30年

当社は、日亜化学工業株式会社のLEDを販売してちょうど30年の節目を迎える事となりました。日亜化学工業株式会社の代理店30周年を記念したページを公開いたしました。 https://lp.shinkoh-elecs.jp/collaboration-30th-anniversary/...日亜化学工業が高輝度青色LEDという製品を発売して30年。それとほぼ時を同じくして、当社は国内唯一の代理...
メーカー・取り扱い企業：新光電子株式会社
函館電子の技術紹介『Auスタッドバンプ加工』

PR少量加工に対応可能。実装面積を抑えられ、製品の小型化に貢献。正確・迅速…

当社は半導体製造で実績があり、IC一貫製造で培った技術をもとに『Auスタッドバンプ加工』をはじめとした半導体の組み立て加工を手掛けています。正確・高品質で、スピーディーかつリーズナブルな加工体制を実現しており仕様や用途に合わせて条件出しを行った上で、少量品から対応できます。【特長】 ■実装面積を小さく抑えられ、製品の小型化が可能 ■直径25μmの極小径加工が可能 ■パ...
メーカー・取り扱い企業：函館電子株式会社
スパッタリング装置『MiniLab-060』

蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み…

コンパクト/省スペース、ハイスペック薄膜実験装置下記蒸着源から組合せが可能・抵抗加熱蒸着源 x 最大4 ・有機蒸着源 x 最大4 ・電子ビーム蒸着・2inchスパッタリングカソード x 4（又は3inch x 3, 4inch x 2）・プラズマエッチング：メインチャンバー、ロードロックチャンバーのいずれでも設置可能 ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
真空蒸着装置『MiniLab-090』（グローブボックス用）

グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置高さ570m…

で一貫した処理ができます。GB, ガス精製機はGBモデルの仕様を参照下さい。 ◉ 抵抗加熱蒸着源 x 最大4 ◉ 有機蒸着源 x 最大4 ◉ マグネトロンスパッタリングカソード x 4 ◉ 電子ビーム蒸着 ◉ ドライエッチング ◉ アニール...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
スパッタ・蒸着源複合型薄膜装置【nanoPVD-ST15A】

真空蒸着（金属・有機蒸着源）、スパッタリングカソードの混在設置が可能な…

chマグネトロンスパッタリングカソードを同時に設置可能な複合型薄膜実験装置。ベンチトップサイズ・省スペース、限られたラボスペースを有効活用いただけます。顕微鏡用試料作成用コーターではありません、電子回路基板、電池、MEMS、新素材開発などの研究開発用途で求められる高品質な薄膜を作成することができます。ガス系統最大3系統（プロセス圧力APC自動制御）、連続自動製膜（最大20層）、2源同時成膜...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
スパッタリング装置『MiniLab（ミニラボ）シリーズ』

モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…

【MiniLabフレキシブル薄膜実験装置構成モジュール】 ◉ 製作範囲抵抗加熱蒸着（TE）、有機膜蒸着（LTE）、電子ビーム蒸着（EB）、RF/DCスパッタリング（SP）、T-CVD/PE-CVD、プラズマエッチング（RIE） ◉ チャンバー・026（26Litter）-TE/LTE/SP/CVD/Etch/...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
多機能スパッタリング装置【MiniLab-S060】

コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

（ドライポンプ可）・真空排気：真空/ベント自動制御・抵抗加熱蒸着：最大4源点（Model. TE1～TE4蒸着源）・有機蒸着：最大4源（Model. LTEC-1cc/5cc) ・EB電子ビーム蒸着源：7ccるつぼｘ６（又は4ccるつぼｘ8）・Φ2〜4inchマグネトロンスパッタリングカソード x 最大４源・プロセス制御：手動/自動多層膜・同時成膜、APC自動制御・膜厚モ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
【HTシリーズ基板加熱ヒーターMax1900℃】Φ1〜8inch

プレート最高温度Max1900℃。HV, UHVほか過酷なプロセス環境…

基板加熱ヒーターは半導体・電子デバイス等の成膜工程での基板加熱用に開発されたハイスペック基板加熱ヒーターです。トッププレートに熱伝導性・熱放射率・耐サーマルショック・絶縁性に優れた窒化アルミを標準採用、プレートを短時間で超高...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
薄膜実験装置_「PRODUCTS GUIDE 2022」

半導体・電子デバイス・燃料電池・ディスプレイなどの研究開発用各種実験装…

研究開発分野向け、各種薄膜実験装置・コンポーネントを紹介します。【nano Benchtopシリーズ】ハイパフォーマンス！nano Benchtopシリーズ薄膜実験装置コンパクトサイズに、高機能・ハイスペックな薄膜装置を収納【MiniLabフレキシブル薄膜実験装置】多彩な装置構成、必要なコンポーネントを要求仕様に合わせて組み合わせ構成する「フレキシブル実験装置」...◉...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
TCF-C500 超高温小型実験炉Max2900℃

コンパクト・省スペース・省エネルギー！高性能 R&D用超高温実験炉

Max2900℃(カーボン炉）、Max2400℃（メタル炉）・有効加熱エリア 70 x 70 x1 00mm 新素材・新材料開発、及び半導体・電子部品・燃料電池・大陽電池などの先端基礎技術開発部門でのさまざまなアプリケーションに対応。...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
【ホットステージ】超高温基板加熱ステージ Max1800℃

超高温基板加熱ステージに、基板昇降・回転、RF/DC基板バイアスの全て…

半導体、電子基板、真空薄膜プロセス装置・研究開発用【超高温基板加熱機構】対応基板サイズ：Φ2〜6inch 真空（UHV対応可能）・不活性ガス・O2・各種プロセス反応性ガス雰囲気等でご仕様いただけます。（詳...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
◆◇◆ R&D用小型縦型実験炉 TVF-110 ◆◇◆

ローコスト必要最小構成（手動制御）管状炉・拡散炉・熱CVDとして応用…

小片試料〜3inch waferまでの小基板用サセプタ手動昇降式縦型実験炉大学・企業研究室での基礎実験用に最適な基礎実験用ローコスト版縦型炉【用途】 ◉ 半導体・太陽電池・燃料電池・電子基板等の熱処理 ◉ 基礎実験：縦型管状炉・酸化拡散炉・LPCVD等の簡易熱処理実験...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
真空蒸着装置『MiniLab-080』

蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。高さ570…

CVD,アニールなどの幅広い目的に対応。・最大基板サイズ：Φ10inch ・抵抗加熱蒸着源 x 最大4源・有機蒸着源 x 最大4源・マグネトロンスパッタリングカソード x 4源・電子ビーム蒸着・基板加熱ステージ（標準500℃, Max1000℃）・*プラズマエッチング/<30Wソフトエッチング・CVD（熱CVD, PECVD） *プラズマエッチングはメインチャ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
□■□【MiniLab-080】フレキシブル薄膜実験装置□■□

蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。高さ570…

チング, アニールなどの幅広い目的に対応。・最大基板サイズ：Φ10inch ・抵抗加熱蒸着源 x 最大4源・有機蒸着源 x 最大4源・マグネトロンスパッタリングカソード x 4源・電子ビーム蒸着・基板加熱ステージ（標準500℃, Max1000℃）・*プラズマエッチング/<30Wソフトエッチング *プラズマエッチングはメインチャンバー、ロードロックチャンバーいずれも...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
□■□【MiniLab-060】フレキシブル薄膜実験装置□■□

蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み…

コンパクト/省スペース、ハイスペック薄膜実験装置下記蒸着源から組合せが可能・抵抗加熱蒸着源 x 最大4 ・有機蒸着源 x 最大4 ・電子ビーム蒸着・2inchマグネトロンスパッタリングカソード x 4 ・プラズマエッチング：メインチャンバー、ロードロックチャンバーのいずれでも設置可能【スモールフットプリント・省スペース...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
□■□【MiniLab-090】フレキシブル薄膜実験装置□■□

グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置高さ570m…

ガス精製機はGBモデルの仕様を参照下さい。・最大基板サイズ：Φ10inch ・抵抗加熱蒸着源 x 最大4源・有機蒸着源 x 最大4源・マグネトロンスパッタリングカソード x 4源・電子ビーム蒸着・基板加熱ステージ（標準500℃, Max1000℃）・プラズマエッチング/<30Wソフトエッチング...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
【MiniLab（ミニラボ）】シリーズフレキシブル薄膜実験装置

モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…

【MiniLabフレキシブル薄膜実験装置構成モジュール】 ◉ 製作範囲抵抗加熱蒸着（TE）、有機膜蒸着（LTE）、電子ビーム蒸着（EB）、RF/DCスパッタリング（SP）、T-CVD/PE-CVD、プラズマエッチング（RIE） ◉ チャンバー・026（26Litter）-TE/LTE/SP/CVD/Etch/...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
真空蒸着装置『MiniLab（ミニラボ）シリーズ』

モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…

【MiniLabフレキシブル薄膜実験装置構成モジュール】 ◉ 製作範囲抵抗加熱蒸着（TE）、有機膜蒸着（LTE）、電子ビーム蒸着（EB）、RF/DCスパッタリング（SP）、T-CVD/PE-CVD、プラズマエッチング（RIE） ◉ チャンバー・026（26Litter）-TE/LTE/SP/CVD/Etch/...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
スパッタリング装置多機能スパッタ装置MiniLab-S060A

コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

ポンプ（ドライポンプ可）・真空排気：真空/ベント自動制御・抵抗加熱蒸着：最大4源（Model. TE1～TE4蒸着源）・有機蒸着：最大4源（Model. LTEC-1cc/5cc) ・電子ビーム蒸着源：7ccるつぼｘ６（又は4ccるつぼｘ8）・Φ2〜4inchマグネトロンスパッタリングカソード x 最大４源・プロセス制御：手動、又は自動連続多層膜・同時成膜、APC自動制御 ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社