廃液減容化装置『蒸発・濃縮装置 (電気式小容量)』

PR臭気成分などを熱分解して排気！廃液処理のコスト削減を可能に！

本装置は、電気ヒーターで廃液中の水分を蒸発させて濃縮し、 蒸発時に発生する臭気成分などを熱分解して排気する、廃液減容化装置です。 水溶性切削液、水溶性研削液などの含油廃液の場合は濃縮油を有価物にする事も可能です。 【特徴】 ■廃液処理のコスト削減可能 ■高温、高粘度、スラッジ含有濃縮液の自動排出機構 ■排熱利用の省エネ機構 ■脱臭触媒を標準設置して排気ガスに臭気・煙が出ない ...

メーカー・取り扱い企業： プリテクノジャパン株式会社

高天井用LED照明『RLS-FLN-100シリーズ』

PR高温環境100℃まで対応可能な電源一体型！優れた放熱性とハイレベルな防…

『RLS-FLN-100シリーズ』は、100℃の高温耐性を有し、防塵、防湿、防水、 防爆機能に優れ、過酷な高温環境下でも安定的に動作する耐熱LED照明です。 電源・ドライバー等は別置きではなく全てランプと一体で、同一高温環境下で 使用可能。モジュール化した照明デザインを採用し、各モジュールの熱は お互いに影響しません。 また、ハウジングおよびヒートシンクには、放熱性と耐食性に優れ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ラピュタインターナショナル

【MiniLab-SA125A】 多元マルチスパッタ装置

高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ（Φ4inch用）…

連続多層膜、同時成膜（2〜6元同時成膜：RF, DCをHMIより自在に配置切替） 高出力RF, DC電源, パルスDC電源を独自の'プラズマ・スイッチング・リレー'モジュールでマルチカソードに自在に配置を組み合えることが可能、様々な用途に柔軟に対応 高温基板加熱ステージ（二重ジャケット水冷式）オプシ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

エッチング装置

エッチング装置

用 35mm〜160mm（FPC用　250〜300mm） ○材料厚み：PI 25μm〜 ○加工面：片面 ○装置構成 ：巻出〜エッチング〜水洗〜液切り〜乾燥〜巻取 ○ユーティリティー 　・電源　AC200V・220V / 50Hz・60Hz 　・市水、純水、冷却水、スクラバー、熱排気、( スチーム ) ○装置寸法 ：16m（L）×2.5m（W）×2.5m（H） ●その他機能や...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社SETO ENGINEERING 守谷事業所

マイクロ波イオン源　EMIS-221C

マイクロ波イオン源　EMIS-221C

染の少ないイオンが得られる ○プラズマ室は高純度アルミナ製で 　金属汚染の少ないイオンが得られる ○完全金属シール構造により、MBE装置など 　各種超高真空装置に使用可能 ○加速用高圧電源（オプション）の使用により、イオン加速が可能 　（ラジカル源、プラズマ源としての使用も可能） ○マイクロ波は同軸ケーブルにて供給されるため 　面倒な導波管接続が不要 ○シーケンサやパソコ...

メーカー・取り扱い企業： アリオス株式会社

高電力RF同軸フレキシブルケーブルアセンブリ

高電力（20KW@60MHz）タイプのフレキシブルケーブルアセンブリ

、ケーブル加工までの一貫生産をしております。そのため、総合品質・納期・価格対応に自信を持っており、お客様の開発段階～量産までご安心してご対応可能です。 EP-610Sは、半導体製造装置、高周波電源、プラズマ電源など高電力RF同軸接続を必要とするアプリケーションに最適なフレキシブルケーブルです。 現在、対応しているコネクタは、EIA 1-5/8、EIA 7/8ですが、お客様のご要望に応じ...

メーカー・取り扱い企業： アノイスンジャパン株式会社

高電力高周波同軸コネクタ

９種類の同軸規格に対応した 高電力高周波同軸のソリューション

半導体製造装置、高周波電源、プラズマ電源などに使用される、高電力高周波同軸ケーブルアセンブリを大幅に拡充致しました。 弊社は、コネクタ・ケーブルの開発製造に加え、ケーブルアセンブリまでの一貫生産を行っておりますので、総合品...

メーカー・取り扱い企業： アノイスンジャパン株式会社

イオンビームミリング・エッチング装置-伯東/エヌエス

Au, Pt, 磁性材料等の難エッチング材料の加工に最適なドライエッチ…

伯東(株)/(株)エヌエスは長きに亘り、共同でイオンビームミリング装置の開発を行っており、イオンソース・電源・ステージ・周辺機器・GUIまで自社内で設計・製品化しておりますので、お客様のご要望に応じてカスタマイズが可能です。また製品導入後の修理・メンテナンス等についても、弊社に在籍する技術者が対応させてい...

メーカー・取り扱い企業： 伯東株式会社 本社

マイクロ波ラジカル源　EMRS-211Q

マイクロ波ラジカル源　EMRS-211Q

波励起ラジカル源 【特徴】 ○プラズマ室は石英ガラス製で放電を目視確認可能 ○完全金属シール構造により、MBE装置など 　各種超高真空装置に使用可能 ○ラジカル源用途以外に加速用高圧電源（オプション）の 　使用によりイオン加速が可能 ○各種活性ガスの導入が可能 ○マイクロ波は同軸ケーブルにて供給されるため 　面倒な導波管接続が不要 ●その他機能や詳細については、カ...

メーカー・取り扱い企業： アリオス株式会社

Druck 半導体製品の圧力校正試験の自動化に

半導体製造装置やMEMS圧力センサの計測試験/ライン検査に圧力コントロ…

、大幅に生産効率がUPされた実績多。 〇ゲージ圧力レンジ：2.5kPa～21MPa（負圧校正標準） 〇通信：RS232、USB、IEEE-488、SCPIほか（モデルにより異なります） 〇電源：AC90～130V、AC180～260V（47～63Hz） ■圧力インジケータ PACE 1000 生産ラインの圧力計測もこれ一台。最大３つ圧力値を同時表示！ ゲージ圧と大気圧を同時表示...

メーカー・取り扱い企業： 日本ベーカーヒューズ株式会社＆ベーカーヒューズ・エナジージャパン株式会社　 （旧）GEセンシング＆インスペクション・テクノロジーズ株式会社　＆　GEエナジー・ジャパン株式会社

デスミア装置

レーザードリルなどで、ブラインドビア及びスルーホールなどの穴あけ後にス…

【その他のスペック】 ■装置構成：巻出～脱脂～エッチング～中和還元～～純水洗～液切り～乾燥～巻取 ■ユーティリティー：電源AC200V・220V / 50Hz・60Hz 市水、純水、冷却水、スクラバー、熱排気、(スチーム) ■装置寸法：15メータ×2.5mW×2.5mH(概略...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社SETO ENGINEERING 守谷事業所

エッチング装置（2）

搬送速度は1.5m/min、材料幅は350mmまで対応！薬液温度・圧力…

【その他の仕様】 ■ユーティリティー：電源（AC200・220V／50・60HZ）、 　純水、市水、圧空、冷却水、スクラバー、熱排気、（スチーム） ■寸法：10.0m（L）×3.0m（W）×3.0m（H） ※操作盤・付帯設備は除く ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社SETO ENGINEERING 守谷事業所

Ｃｕエッチング対応高密度プラズマエッチング装置

新プラズマ源ＨＣＤ（ホローカソード放電）電極搭載、各種メタルやＣｕ薄膜…

基本構成を従来型エッチング装置「SERIO」「EXAM」と互換性を持つ高密度プラズマエッチング装置。 チャンバ構造・排気系・電源構成等は従来型エッチング装置「SERIO」とも互換性を持っており、電極交換によりＣｕエッチング等新プロセス対応にアップグレード可能。 大型基板用にＣToＣタイプも対応可能 Ｃｕ膜など難エッチング...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

蒸着/スパッタ・デュアルチャンバーシステム【MiniLab】

2台の薄膜実験装置をロードロック機構で連結。異なる成膜装置（スパッタ、…

蒸着 x 2 ・有機蒸着限 x 2 2. MiniLab-S060A（スパッタリング装置） ・基板サイズ：Φ8inch ・Φ2"マグネトロンカソード x 4源同時スパッタ ・DC, RF両電源対応 3. Load Lockチャンバー ・プラズマエッチングステージ ロードロック室では「RF/DC基板バイアスステージ」による基板表面のプラズマクリーニング、又、同社独自の『ソフトエッチン...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

真空センサ『730シリーズ』

コンパクトサイズでローコスト。半導体製造ラインなどで活躍。静電容量型

【仕様】 ◎圧力範囲：0～1kPaから0～100kPa ◎精度：±0.5%読み値(±0.25%オプション) ◎補償温度：0～50℃ ◎使用電源：DC12～30V ◎長期安定性：±0.5％FS／年 ◎応答性：20msec ◎過負荷耐圧：300kPa ※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。...

メーカー・取り扱い企業： エア・ウォーター・メカトロニクス株式会社　ST事業部

マイコン制御式 プリント基板用エッチングマシーン　ES-800M

マイコン制御により、短時間で高品質のエッチングを実現

2重構造、緊急停止ボタン、液面センサ、液温センサ、漏電ブレーカー付き 本体材質：硬質PVC（耐熱　約50℃） 本体外形寸法：W925×D730×H1460mm（配管カバー、フィルター装着時） 電源 AC100V：1.4kVA　50/60Hz 本体乾燥重量：約130kg...

メーカー・取り扱い企業： サンハヤト株式会社

ソフトエッチング装置【nanoETCH】＜30W低出力

＜30W（制御精度10mW）低出力RFエッチングによる、精細でダメー…

設可能 ◉ Windows PCソフトウエア付属：自動エッチングレシピ作成・保存・保存、データロギング 【寸法・ユーティリティ】 寸法：750（W） x 500（D） x 400（H）mm 電源：200V 単相 15A プロセスガス：0.17Mpa 99.99%推奨 ベントガス：34-41kpa 冷却水：1L/min, 400kpa, 18-20℃ 圧縮空気：413-550Kpa...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

プラズマエッチャー【RIE.S-200A】レンタル始めました～♪

有機・無機問わず高いエッチング効果！ １週間～レンタル始めました～♪…

Kg　 ガス系 マスフロコントローラ１系統(２系統はオプション) 浮子式流量計 ステージ寸法 φ200mm 電源 AC100V 50/60Hz 15A 真空ポンプ 135/160 ( リットル/min ) 操作方法 タッチパネルによる自動操作 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社魁半導体

ガラスエッチング装置【液晶ガラス基板】| NSCEng

液晶ガラス基板の薄肉加工ケミカル研磨の自動装置として、G6世代までの薄…

m/min ○材料幅：300～1500mm ○材料厚み：0.1〜1.2mm ○加工面：片面or両面 ○装置構成 ：LD〜エッチング〜水洗〜液切り〜板厚測定〜ULD ○ユーティリティ 　・電源　AC200V・220V / 50Hz・60Hz 　・市水、純水、冷却水、スクラバー ○装置寸法 : 材料サイズによる ◇◆◇◆◇◆◇◆◇◆◇◆◇◆◇◆...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社NSC エンジニアリング本部

プラズマエッチャー【CPE.S-200A】

有機・無機問わず高いエッチング効果！

Kg　 ガス系 マスフロコントローラ１系統(２系統はオプション) 浮子式流量計 ステージ寸法 φ200mm 電源 AC100V 50/60Hz 15A 真空ポンプ 135/160 ( リットル/min ) 操作方法 タッチパネルによる自動操作 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社魁半導体

卓上プラズマエッチング装置『TP-50B』

独自のスポットプラズマ技術で局所加工が可能な卓上プラズマエッチング装置

ペースの限られた研究室で活躍します。 【特長】 ■卓上サイズでコンパクト ■局所的なプラズマ加工が可能（Φ0.5mm～） ■低残渣かつ高速加工を実現（10μm/mim） ■低出力のRF電源（最大出力50W未満） ■試料をステージで移動させた広範囲の加工が可能 ※詳しくはPDFをダウンロードいただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三友製作所 テクノセンタ

インライン　ECV型フッ素樹脂製薬液ヒーター

ECV型フッ素樹脂製薬液ヒーター

液部がＰＦＡでできており、全ての薬品に使用できます。 　アルカリ、溶剤ＯＫ。 ●ヒーター表面温度を低く設計しており、温度劣化の激しい薬液に最適。 ●設置場所を選ばないコンパクト設計。 ●制御電源は安価なＳＳＲ駆動でＯＫ。高価な位相制御は不要。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社セラ

LECTROPOL-5

様々な材料に適した10種類の研磨/エッチング条件を内蔵！短い研磨時間と…

【技術データ】 ＜電源供給＞ ■50/60Hz(最大負荷 9.8A)：1x100V/120V ■50/60Hz(最大負荷 4.9A)：1x220V/240V ＜出力電圧/電流＞ ■研磨：0-100V(1Vステップ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ストルアス

ICPエッチング装置　RIE-800iPC/RIE-400iPC

真空カセット室を備え、プロセス再現性や安定性に優れた本格生産用装置をご…

応 ■放電形式に誘導結合プラズマを採用 ■真空カセット室を備えプロセス再現性や安定性に優れる ■ウエハとプラズマ間距離を最適化し、良好な面内均一性を確保 ■TMP(ターボ分子ポンプ)や高周波電源をユニット化し、交換が容易 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： サムコ株式会社

排ガス処理セット　ES-F1

エッチング中に発生するガスや蒸気を除去

セット寿命 ：150時間 ■排気風量 ：約35L/分 ■排気ダクト長：2m以内 ■防水ファン ：過負荷保護回路内蔵（電流カット方式採用) ■寸法・重量：250φ×340mmh　約5kg ■電源 ：AC100V 50/60Hz　約2W □その他機能や詳細については、カタログをご覧下さい。 ...

メーカー・取り扱い企業： サンハヤト株式会社

多元マルチスパッタ装置【MiniLab-S125A】

高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ（Φ4inch用）…

連続多層膜、同時成膜（2〜6元同時成膜：RF, DCをHMIより自在に配置切替） 高出力RF, DC電源, パルスDC電源を独自の'プラズマ・スイッチング・リレー'モジュールでマルチカソードに自在に配置を組み合えることが可能、様々な用途に柔軟に対応 高温基板加熱ステージ（二重ジャケット水冷式）オプシ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

低振動・低騒音ペルチェチラー『ThermoRack401』

低振動・低騒音・優れた温度安定性でレーザー装置の温度制御に最適！消費電…

やきのような静粛性・無振動を実現して、先進的光学・レーザーのアプリケーションにて要求される温度コントロールに対応できます。コアとなる電子温調モジュールは200,000時間を越える寿命をもち、世界中の電源に対応のユニバーサル電源を搭載しています。 【特長】 ■素早い温度応答性と優れた温度安定性 ■4Uスタンダード　19インチラックに収まるサイズで省スペース ■温度安定性：±0.05℃（無...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

マイクロ波イオン・ラジカル源　IMIS-211Q

マイクロ波イオン・ラジカル源　IMIS-211Q

オン・ラジカルが得られる ○特殊なアンテナ構造、磁気回路のため漏洩磁場が少ない ○完全金属シール構造により 　MBE装置等、各種超高真空装置に使用可能 ○取付が容易な空冷式 ○加速用高圧電源（オプション）の使用により 　イオン加速が可能。ラジカル源としても使用可能 ○マイクロ波は同軸ケーブルにて供給されるため 　面倒な導波管接続が不要 ●その他機能や詳細については、カタ...

メーカー・取り扱い企業： アリオス株式会社

真空蒸着装置『MiniLab-080』

蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570…

・多元同時成膜、APC自動制御 ・膜厚モニタ：水晶振動子センサヘッドｘ4 ・膜厚制御：Inficon社 SQM-160（又はSQC-310） 多チャンネル成膜コントローラ ・ユーティリティ：電源200V ３相 15A, 水冷3ℓ/min, N2ベント0.1Mkpa ・その他オプション：基板加熱, 冷却, 基板昇降・回転, ドライエッチング, ドライスクロールポンプ , ロードロック機構...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

エッチング装置（1）

搬送速度は5.0m／min、材料幅は310mmまで対応！金属箔（ALな…

低テンション搬送技術により、 キズ・シワなく搬送し連続処理を行います。 【仕様】 ■Lane構成：1Lane ■材料厚み：20μm～ ■加工面：片面 及び 両面 ■ユーティリティー：電源（AC200・220V／50・60HZ）、 　純水、市水、冷却水、スクラバー、 熱排気、（スチーム） ■寸法：15m（L）×2m（W）× 2.5m（H） ※操作盤・付帯設備は除く ※詳しく...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社SETO ENGINEERING 守谷事業所

□■□【MiniLab-060】フレキシブル薄膜実験装置□■□

蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み…

膜・同時成膜、APC自動制御 ・膜厚モニタ：水晶振動子センサヘッドｘ２ ・膜厚制御：Inficon社 SQM-160（又はSQC-310） 2ch/4ch薄膜コントローラ  ・ユーティリティ：電源200V ３相 15A, 水冷3ℓ/min, N2ベント0.1Mkpa  ・その他オプション：基板加熱, 冷却, 基板昇降・回転, プラズマエッチング, ドライポンプ , ロードロック機構...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

□■□【MiniLab-090】フレキシブル薄膜実験装置□■□

グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570m…

層膜・同時成膜、APC自動制御 ・膜厚モニタ：水晶振動子センサヘッドｘ4 ・膜厚制御：Inficon社 SQM-160（又はSQC-310） 多チャンネル薄膜コントローラ  ・ユーティリティ：電源200V ３相 15A, 水冷3ℓ/min, N2ベント0.1Mkpa  ・その他オプション：基板加熱, 冷却, 基板昇降・回転, ドライエッチング, ドライポンプ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社