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PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…
ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...
メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社
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STEPなどの中間形式ファイルを介してのデータ交換が可能!センスを活か…
理的設計を行います。 手のひらサイズの小型機器から大型製造装置まで既成概念に捉われない 機構設計を得意とします。 御客様に高い評価をいただいている技術としまして、高精度搬送機構、 高密度機構(小スペースを活かす)、インクジェット(IJ)ヘッドの メンテナンス機構、メディアハンドリング技術、外装部品設計、 コストダウン設計、量産対応設計等があります。 これらの技術を有し、...
メーカー・取り扱い企業: イー・ジーシステム株式会社 イー・ジー システム
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