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PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…
ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...
メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社
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耐食・耐摩耗性向上の為に基材へ高硬度、高密度、高品質な皮膜を施工、耐食…
イヤー溶射耐食・耐摩耗加工】 SUS316施工 循環水ポンプ主軸上部、下部 ワイヤー溶射 ●溶射後表面→旋盤仕上加工 ⇒ 写真3 【プラズマ溶射耐食・耐摩耗加工】 セラミック施工 高密度、高品質な皮膜を形成します。 ●スクリュー軸のオイルシール部、粉体分級機部品への加工 ⇒ 写真4 【耐摩耗肉盛溶接】 ●ローター外周、押出しスクリュー外周耐摩耗肉盛溶接 ⇒ 写真5 激...
メーカー・取り扱い企業: 光栄テクノシステム株式会社
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