リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

【課題解決事例】新製品開発

エッジコンピューティングに利用可能な高度なIoT装置の開発経験！課題解…

製品開発向けワンストップ型エンジニアリングの課題解決事例をご紹介します。 エッジコンピューティングに利用可能な高度なIoT装置を実現したい場合には、 高速・高密度設計技術により、IoT装置として必要なコンパクト化を実現します。 組み込みLinux OSで豊富なソフトウェア開発経験からセンサー情報取得で 必須となるリアルタイム性（高速サンプリング）を...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社日立情報通信エンジニアリング

【課題解決事例】事業継続

ネットワークキャリアレベルの高信頼性実現！課題解決事例のご紹介

連機器（ルータ/スイッチ）の 25年以上の供給実績があります。 【課題解決事例】 ■高信頼、長期供給可能な高速通信システムを量産したい ・ネットワークキャリアレベルの高信頼性実現 ・高密度実装による小型、多ポート化 ・高信頼ネットワーク製品の設計・製造のノウハウによる高信頼製品の提供 ・企業・通信業者向けイーサネット関連機器（ルータ/スイッチ）25年以上供給の実績 ※詳し...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社日立情報通信エンジニアリング