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PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…
ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...
メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社
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経験豊富なスペシャリストが対応。 設計から製作までまるごとおまかせく…
設計】 <対象製品例> 〇19インチラック 〇シェルフ 〇各種ユニット 〇BOX筐体 〇コントロールパネル <要素技術> 〇耐震 〇放熱 〇VE/VA 〇防水/防滴 〇高密度 〇EMC 【モールド筐体設計】 <対象製品例> 〇スマートフォン 〇携帯電話 〇ウェアラブル端末 〇小型樹脂ケース <要素技術> 〇防水/防滴 〇小型/薄型化 〇高...
メーカー・取り扱い企業: TMCシステム 株式会社 本社ビル
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