リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

受託開発製造

マイコン開発から製品組立・動作試験までの一連の一貫した提案可能！

コン開発から製品組立・動作試験までの一連を自社スタッフを揃えて一貫した提案が可能です。 また昨今電子部品の生産中止に対しては、代替品の提案も重要と捉え対応しております。 ”RoHS 対応・高密度実装”など、高度化・複雑化する多種多様なご要求を少量生産から柔軟にお応えいたします。 ●詳しくはカタログをダウンロード、もしくはお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社田原電機製作所