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PR電力ロスの原因である「高調波」をカットし電気料金を削減!『パワーガード…
必要以上の電力を消費していませんか? 電気を使う様々な場所で、高調波と呼ばれる電気ノイズが発生しており、このノイズが電力の流れを阻害し電気料金のロスにつながります。パワーガードは従来のフェライトコアの金属配合や製造方法を変え、電力ロスに直結する高調波のみを削減するために開発されました。 高調波の抑制に特化した製品として、現在実用新案/特許出願中です。 ※当製品は実地でのデモ(有償)を実施...
メーカー・取り扱い企業: トーホーエンジニアリング株式会社 本社
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銅の接合・積層、銅とアルミの接合が可能な、青色半導体レーザー溶接
PR銅の溶接に適した波長のレーザー溶接です。2mm深さの溶接などが可能な国…
「青色半導体レーザー溶接」とは、工業分野で特に銅素材に対して、 高品質溶接が可能となるレーザースペックです。 IRレーザーと異なる波長帯である、450nmの波長を有する レーザー光を青色レーザーと呼びます。銅などの元素において 吸収率が高いレーザー光です。 青色半導体レーザ光の使用で銅や金のような非鉄金属加工のみならず、異なる金属間同士での結合における新たな可能性も見えております...
メーカー・取り扱い企業: 南海モルディ株式会社(旧:南海鋼材株式会社)
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ダメージレス、ハイレート、大面積対応、イオンダメージを完全除去、完全ラ…
φ300mmの処理ステージを装備。小型基板の一括処理に対応。 レジスト・ポリイミド等有機膜・有機物の除去にO2によるハイレートアッシング。 基板上の有機物除去以外に基板の酸化にも対応可能。 オプションにて...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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新プラズマ源HCD(ホローカソード放電)電極搭載、各種メタルやCu薄膜…
密度プラズマと独自プロセスで各種メタルだけでなくCu薄膜などの難エッチング材のエッチングに対応。 新開発HCD型ヘッドはスケールアップが容易で矩形基板や大型基板の高精度エッチングが可能。 300mmウェハや積層基板、最大1m□までの基板のメタルエッチングに対応。 近年ニーズが高まっている半導体周辺部材(フォトマスク、高密度実装基板)をカバーする従来のプラズマエッチングにとらわれない新型エッチ...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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ダメージレス・ハイスループット・多用途対応 ハイエンドデバイス・化合物…
の硬化レジストの除去とレジスト下層のダメージレスアッシングの両立を実現。 コンパクトな枚葉式ロードロック室とツインハンドロボットの採用でりコンパクトな設置寸法を実現。 通常のウェハだけでなく。1mm以上の厚みのウェハや矩形基板など特殊基板にも対応実績。多用途対応の枚葉式エッチング・アッシング装置...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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非球面レンズのDLC膜の除去に実績豊富なプラズマクリーニング装置。高付…
250mm□の処理ステージに均一なプラズマを実現したプラズマクリーニング装置。 従来機「POEM」よりイオンエネルギーを向上。より強いイオン衝撃とO2イオンでDLCを除膜。ドライプロセスで基板ダメージと廃液...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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シンプルな機構で高密度プラズマを実現。ウェハから1m□基板まで対応。S…
シンプルな構造の高密度プラズマエッチング装置。大口径化が容易で200mm以上のウェハやA4サイズの矩形基板の処理に適しています。 基板サイズは1m□程度を想定しており、中小型ディスプレイパネル、大型フォトマスクのエッチング、アッシングおよび高密度プリント基板のクリーニ...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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ニッチプな要求に細やかに対応。ライトエッチング・アッシングを薄ウェハや…
によるマルチモードプラズマによりソフトモードプラズマ処理を実現 CF系、O2、Ar、H2などのガス系とプラズマモードの組み合わせにより差的なプロセスを選択可能。 オプションで両面処理機能・300mmウェハや矩形基板の処理に対応 プロセス室を追加したハイスループットタイプもラインナップ。 ...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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