ダイヤモンドライクカーボン膜（DLC）コーティング加工

PR金属から樹脂まで幅広く対応。金型や摺動部品の耐摩耗性向上に。メッキの代…

『PEKURIS COAT』は、当社独自のプラズマイオン注入成膜装置を使用し、 潤滑性に優れたDLC膜をワークに形成するコーティング加工です。 イオン注入効果により、高密着成膜が容易で、ステンレス鋼や工具鋼、 アルミ合金等にも成膜可能。また、低温での処理が可能で、 融点の低い樹脂やゴム、アルミなどにも対応しております。 DLCコーティングでお困りの方は、ぜひお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社栗田製作所 本社・京都事業部

マイクロ粒子のシート化技術

PR【技術の実用化に向けて協力企業を募集中！】 導電性フィルムや、全固体…

当社で開発した「マイクロ粒子のシート化技術」についてご紹介いたします。 マイクロ粒子を熱プレスとUV硬化により、 両端を露出させた状態で樹脂膜中に単層で埋め込む技術です。 この技術により、マイクロ粒子の両端を複合膜の上下両面から露出させることができ、各種マイクロ粒子がもつ熱・電気・イオン伝導性などを損なわず、粒子本来の性能を発揮させられます。 これは粒子を複合膜に埋没させない特許技...

メーカー・取り扱い企業： 日榮新化株式会社

水素プラズマクリーニング装置（イオンクリーニングタイプ）

H2（水素プラズマの還元力で各種基板表面クリーニング。表面酸化層除去効…

合ガスによる物理洗浄／還元洗浄のＭIＸクリーニング。 Ｏ２クリーニングによる有機物除去後H2プラズマクリーニングによる表面還元クリーニング（表面酸化層除去）のSTEPクリーニング。 プラズマのイオンによる物理洗浄効果と水素還元能力を両立。 従来に無い効果をもつ新ドライ洗浄装置...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

ＤＬＣ除膜装置（精密金型用プラズマクリーナー）

非球面レンズのＤＬＣ膜の除去に実績豊富なプラズマクリーニング装置。高付…

実績豊富なプラズマクリーニング装置「ＰＯＥＭ」をＤＬＣ除膜用にグレードアップ＆カスタマイズ。 従来型より処理時のイオンのエネルギーを向上させ緻密なＤＬＣ膜の除去に対応。通常のＯ２クリーニングプロセスだけでなくマルチガスプロセスでＳｉ含有ＤＬＣなどカスタマイズされた各種ＤＬＣ膜の除去に実績。 当然ＤＬＣ除膜だけで...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

PVAテプラ社マイクロ波プラズマ処理装置(前工程向け)

ユニークなウエハー移載機搭載のバッチ処理装置から枚葉処理装置まで、世界…

2.45GHzのマイクロ波で励起された高密度のプラズマと、イオンの運動エネルギーを抑制することで、ダメージレスのプロセス結果を得ることができます。 ウエハープロセスにおけるアッシング、レジスト剥離、MEMSなどのSU-8レジストアッシング、デスカム処理、基...

メーカー・取り扱い企業： 伯東株式会社 本社

バッチタイプＳＷＰアッシング装置

ダメージレス、ハイレート、大面積対応、イオンダメージを完全除去、完全ラ…

表面波プラズマ（surface Wave excited plasma)による高密度プラズマをイオン遮蔽トラップにてイオンを完全にシールド。基板にラジカルのみを供給。 高密度ラジカルによるウェット同等のダメージレスアッシングを実現。 ハイレートとダメージレスアッシングを両立。コンパクトなバッ...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

ドライエッチング装置・リアクティブイオンエッチング装置・コンパクトエッチャー・アッシング装置・クリーナー(クリーニング装置)

ドライエッチング装置・リアクティブイオンエッチング装置・コンパクトエッ…

● ワンタッチ操作のみで特別な操作が不要です。 ● 設置スペースが小さく場所を選びません。 ● 試料はφ4インチまで対応可能。 ● 専用機であるため低価格。 ...FA-1は、ICチップ上の各種不良解析のためのパッシベ-ション膜の剥離や各種シリコン薄膜のエッチング、フォトレジストのアッシングなどを効率よく、かつ低損傷で行うドライエッチング装置です。操作方法は簡単で、試料をセット...

メーカー・取り扱い企業： サムコ株式会社

アッシング装置

エッチング、アッシング及びイオンクリーニングを可能とする汎用性に優れた…

『アッシング装置』は、最大φ12インチ基板を全自動連続処理することが できる量産装置です。 ガス種およびプラズマモードの切り替えによりエッチング、アッシング 及びイオンクリーニングを可能とする汎用性に優れた装置です。 【特長】 ■RIEモードとDPモードの切り替えが可能 ■特殊表面処理によるメタルコンタミ低減 ■省フットプリント ■2周波独立印加方...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

PVAテプラ社マイクロ波プラズマ処理装置(後工程向け)

世界中のOSATのお客様向けに多くの実績があり、信頼性のあるパフォーマ…

イス等、多くのアプリケーションにおいて、世界中で広く使用されており、最大限のプロセス再現性, 歩留まり向上を提供致します。 マイクロ波(2.45GHz) プラズマ装置は非常に高い電子密度で、且つイオンの運動エネルギー抑制に寄与する事で、様々な用途において、理想的なダメージレスのプロセス結果が得られます。...

メーカー・取り扱い企業： 伯東株式会社 本社

枚葉式プラズマアッシング装置（ＳＷＰシリーズ）

ダメージレス・ハイスループット・多用途対応　ハイエンドデバイス・化合物…

グを実現。表面波プラズマ（ＳＷＰ）によるハイレートアッシングと２室装備されたアッシング室によりハイスループットを実現。 アッシングだけでなくＲＩＥ室の装備により特殊レジスト・有機膜野除去にもまたイオン注入後の硬化レジスト除去に対応。表面部の硬化レジストの除去とレジスト下層のダメージレスアッシングの両立を実現。 コンパクトな枚葉式ロードロック室とツインハンドロボットの採用でりコンパクトな設置寸...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

【瞬時電圧低下補償装置TSP】なぜ保護が必要なのか？

瞬時電圧低下による製品不良の発生と装置故障の損害からラインを守る『TS…

て 動作に支障をきたす可能性があります。 シリコンメーカ様では研磨、エッチング、洗浄工程等で影響を受ける 可能性があり、デバイスメーカ様ではCVD、スパッタ、フォトリソ、 エッチング、イオン注入、拡散、洗浄工程での影響が想定されます。 このため半導体の製造設備に対し「SEMI-F47」の規格では 電圧低下50％継続時間0.2秒以下、または電圧低下30％継続時間0.5秒以下の ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社シナジー