リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

【事例集進呈】オートコネクタ/自動着脱装置

PR工場の自動化・省人化を実現！流体・粉体問わずご要望に応じた自動着脱装置…

当社では、スラリー・粉体などの配管を自動調芯により着脱可能な 「オートコネクタ(自動着脱装置)」を取り扱っております。 生産性の向上、多品種少量生産、省人化といったメリットがあり、 電池製造及び医薬等、スラリー・粉体を扱うユーザーに好適。 流体・粉体問わずご要望に応じた自動着脱装置の製作・納入いたします。 【特長】 ■スラリー・粉体配管を自動で着脱出来、粉体のブリッジ除去に...

メーカー・取り扱い企業： ナブテスコサービス株式会社 産業機械部　

ガス配管

半導体や太陽電池等製造装置用ガス供給装置の設置・製造

他製品事例・・・ ・高純度ガス供給ユニット製作 ・シリンダーキャビネット製作 ・排気ユニット製作 ・除害ユニット製作 ・クリーン自動溶接配管製作 ・真空配管製作 半導体、液晶、太陽電池等製造装置用ガス供給装置の設置・製造 特殊材料ガス配管工事、その他 など様々な製造を行っております ※詳細は【資料請求】もしくは、会社案内を【カタログダウンロード】から 　ダウンロー...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社湘南テクノ

ポーラスシリコン形成装置（陽極酸化装置）

従来の陽極酸化装置をさらに応用したポーラスシリコン形成装置。使用薬液・…

to カセットを可能にしました。 ■N型、P型両方に対応出来ます。 ■2～6インチまで各種サイズ対応いたします。8インチ以上はご相談ください。 ナノシリコン技術としてバイオメディカル・二次電池・太陽電池・半導体プロセス分野の新用途開発にも可能性が広がります。 ※孔の直径やポーラスシリコン層の厚さはご相談下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ダルトン

◆◇◆ R&D用小型縦型実験炉 TVF-110 ◆◇◆

ローコスト 必要最小構成（手動制御）管状炉・拡散炉・熱CVDとして応用…

小片試料〜3inch waferまでの小基板用 サセプタ手動昇降式縦型実験炉 大学・企業研究室での基礎実験用に最適な基礎実験用ローコスト版縦型炉 【用途】 ◉ 半導体・太陽電池・燃料電池・電子基板等の熱処理 ◉ 基礎実験：縦型管状炉・酸化拡散炉・LPCVD等の簡易熱処理実験...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

固着対策シール

固着対策シール

●半導体、液晶、太陽電池をはじめ多岐の業界で使用されている真空機器のシール材に対し、総合シールメーカーとして長年にわたり培った経験、豊富な材料、独自の最適形状設計を組み合わせ、様々な御要求にお応えし、ソリューションをご提供...

メーカー・取り扱い企業： 三菱電線工業株式会社