リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

オーダーメイド型スパッタリング成膜装置

PR難しい材料、様々な基板形状、用途にも！非常に幅広い基板サイズに対応可能

当社では、研究・試作から量産まで対応可能な「オーダーメイド型 スパッタリング成膜装置(PVD)」を取り扱っております。 フレキシブルエレクトロニクス、光通信技術、薄膜太陽電池や バッテリー等の薄膜デバイスの研究開発から量産まで装飾や 表面保護のためのコーティングにも対応。 サンプルサイズ、成膜対象マテリアル、バッチプロセス等、お客様の 用途に応じて組み立てることが可能です。 ...

メーカー・取り扱い企業： プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

パルスレーザパルス蒸着システム

パルスレーザパルス蒸着システム

取り扱う真空装置は物理気相蒸着（PVD）法と化学気相蒸着（CVD）法に大きく分かれています。 PVD法による装置は、 * PLD（パルスレーザ蒸着）装置 * マグネトロンスパッタ装置 * EB電子ビーム蒸着装置 * イオンビームアシスト（IBAD）蒸着法 に区分され、CVD法による装置と共に各種お取り扱いしております。 高い雰囲気中ガス（酸素、...

メーカー・取り扱い企業： AOV株式会社

PLAD-221-Y PLDシステム

PLAD-221-Y PLDシステム

取り扱う真空装置は物理気相蒸着（PVD）法と化学気相蒸着（CVD）法に大きく分かれています。 PVD法による装置は、 * PLD（パルスレーザ蒸着）装置 * マグネトロンスパッタ装置 * EB電子ビーム蒸着装置 * イオンビームアシスト（IBAD）蒸着法 に区分され、CVD法による装置と共に各種お取り扱いしております。 高い雰囲気中ガス（酸素、...

メーカー・取り扱い企業： AOV株式会社

Nd:YAGレーザパルス蒸着システム

Nd:YAGレーザパルス蒸着システム

取り扱う真空装置は物理気相蒸着（PVD）法と化学気相蒸着（CVD）法に大きく分かれています。 PVD法による装置は、 * PLD（パルスレーザ蒸着）装置 * マグネトロンスパッタ装置 * EB電子ビーム蒸着装置 * イオンビームアシスト（IBAD）蒸着法 に区分され、CVD法による装置と共に各種お取り扱いしております。 高い雰囲気中ガス（酸素、...

メーカー・取り扱い企業： AOV株式会社

エキシマレーザパルス蒸着システム

エキシマレーザパルス蒸着システム

取り扱う真空装置は物理気相蒸着（PVD）法と化学気相蒸着（CVD）法に大きく分かれています。 PVD法による装置は、 * PLD（パルスレーザ蒸着）装置 * マグネトロンスパッタ装置 * EB電子ビーム蒸着装置 * イオンビームアシスト（IBAD）蒸着法 に区分され、CVD法による装置と共に各種お取り扱いしております。 高い雰囲気中ガス（酸素、...

メーカー・取り扱い企業： AOV株式会社

PLAD-271PE PLDシステム

PLAD-271PE PLDシステム

取り扱う真空装置は物理気相蒸着（PVD）法と化学気相蒸着（CVD）法に大きく分かれています。 PVD法による装置は、 * PLD（パルスレーザ蒸着）装置 * マグネトロンスパッタ装置 * EB電子ビーム蒸着装置 * イオンビームアシスト（IBAD）蒸着法 に区分され、CVD法による装置と共に各種お取り扱いしております。 高い雰囲気中ガス（酸素、...

メーカー・取り扱い企業： AOV株式会社

PLAD-150Y PLDシステム

PLAD-150Y PLDシステム

取り扱う真空装置は物理気相蒸着（PVD）法と化学気相蒸着（CVD）法に大きく分かれています。 PVD法による装置は、 * PLD（パルスレーザ蒸着）装置 * マグネトロンスパッタ装置 * EB電子ビーム蒸着装置 * イオンビームアシスト（IBAD）蒸着法 に区分され、CVD法による装置と共に各種お取り扱いしております。 高い雰囲気中ガス（酸素、...

メーカー・取り扱い企業： AOV株式会社

PLAD-250R PLDシステム

PLAD-250R PLDシステム

取り扱う真空装置は物理気相蒸着（PVD）法と化学気相蒸着（CVD）法に大きく分かれています。 PVD法による装置は、 * PLD（パルスレーザ蒸着）装置 * マグネトロンスパッタ装置 * EB電子ビーム蒸着装置 * イオンビームアシスト（IBAD）蒸着法 に区分され、CVD法による装置と共に各種お取り扱いしております。 高い雰囲気中ガス（酸素、...

メーカー・取り扱い企業： AOV株式会社

PLAD-261PG PLDシステム

PLAD-261PG PLDシステム

取り扱う真空装置は物理気相蒸着（PVD）法と化学気相蒸着（CVD）法に大きく分かれています。 PVD法による装置は、 * PLD（パルスレーザ蒸着）装置 * マグネトロンスパッタ装置 * EB電子ビーム蒸着装置 * イオンビームアシスト（IBAD）蒸着法 に区分され、CVD法による装置と共に各種お取り扱いしております。 高い雰囲気中ガス（酸素、...

メーカー・取り扱い企業： AOV株式会社

PLAD-250E PLDシステム

PLAD-250E PLDシステム

取り扱う真空装置は物理気相蒸着（PVD）法と化学気相蒸着（CVD）法に大きく分かれています。 PVD法による装置は、 * PLD（パルスレーザ蒸着）装置 * マグネトロンスパッタ装置 * EB電子ビーム蒸着装置 * イオンビームアシスト（IBAD）蒸着法 に区分され、CVD法による装置と共に各種お取り扱いしております。 高い雰囲気中ガス（酸素、...

メーカー・取り扱い企業： AOV株式会社

PLAD-161 PLDシステム

PLAD-161 PLDシステム

取り扱う真空装置は物理気相蒸着（PVD）法と化学気相蒸着（CVD）法に大きく分かれています。 PVD法による装置は、 * PLD（パルスレーザ蒸着）装置 * マグネトロンスパッタ装置 * EB電子ビーム蒸着装置 * イオンビームアシスト（IBAD）蒸着法 に区分され、CVD法による装置と共に各種お取り扱いしております。 高い雰囲気中ガス（酸素、...

メーカー・取り扱い企業： AOV株式会社