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    包装・パッケージ印刷の品質と効率を改善する解決策

    PR初心者でも扱いやすい設計で包装・パッケージ印刷の品質と効率を改善。印版…

    テサテープではパッケージ印刷用粘着テープにおいて、市場最大級のラインナップをご提供しており、当社の専門家がお客様の印刷要件に合わせて、ニーズに合致した製品をご提案。 「初心者でも扱いやすい」製品設計のため、工程の簡略化に貢献し、 安心して使用いただけるようにトレーニングも実施しています。 【製品例】 ・印版の取りつけ・取り外しを簡素化する印版固定用テープ tesa(R) Softprintシリ...

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    メーカー・取り扱い企業: テサテープ株式会社

  • リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置  製品画像

    リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置 

    PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

    ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

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    メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社

  • ギ酸還元リフロー 【課題解決事例:はんだ内に取り残されるボイド】 製品画像

    ギ酸還元リフロー 【課題解決事例:はんだ内に取り残されるボイド】

    ユニテンプのリフロー装置で解決!融点温度到達後のチャンバーが高温になっ…

    X線で撮影すると、はんだの中に気泡のような ものが写っている場合があって、これを"ボイド"と呼んでいます。 このボイドが残った状態ではんだが固まってしまうと、接合強度や電気特性が 悪化。プロセス内で確実にボイドを抜きたいところです。 当社のリフロー装置なら、最大10-3hPaまでの真空(減圧)環境に対応する 事で、ボイドの真空引きが行えます。先に真空(減圧)状態にしてから はん...

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    メーカー・取り扱い企業: ユニテンプジャパン株式会社

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    短冊フレーム用ダイボンダ『EBD4350S』

    短冊フレーム用ダイボンダ エポキシ、DAF両方に対応可、速乾性ペースト…

    短冊フレーム用ダイボンダ『EBD4350S』は、 速乾性ペーストに対応したエポキシダイボンダです。 【仕様】 ■接合プロセス エポキシ/DAF/兼用機仕様 ■チップサイズ □0.15~3.0mm ■ボンド精度(XY)  +/-35μm +/-25μm(裏面認識使用時) ■ボンド精度(Θ)  +/-3° ■ボンド...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社テクサス

  • SiCの研削 加工事例 製品画像

    SiCの研削 加工事例

    SiCの両面研削を実現!両面研削加工

    今後の市場拡大が予想されるSiC(シリコンカーバイド)、 GaN(ガリウムナイトラ)などのパワーデバイスにおいて、コスト削減は 重要な課題です。 その中でも、従来の加工プロセスと異る方法でコスト 削減を実現した加工事例をご紹介いたします。 【研磨結果】 ■表面粗さ<0.5nm (後工程CMP) ■TTV<2μm/Warp<10μm ■高速圧研磨装置『EJD...

    メーカー・取り扱い企業: 日本エンギス株式会社

  • リフロー装置『NRY-103V6W/LU』 製品画像

    リフロー装置『NRY-103V6W/LU』

    200・300mmウェーハ対応ソルダーバンプ形成用N2リフローシステム

    『NRY-103V6W/LU』は、メッキバンププロセス後のウェットバック装置としても 対応可能な200・300mm印刷バンプ対応N2リフロー装置です。 プリヒートゾーンのホットプレートピンは、当社独自の昇降式ピンを採用し、 温度プロファイル...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社大和製作所

  • 短冊フレーム用ダイボンダ『DBD4600S』 製品画像

    短冊フレーム用ダイボンダ『DBD4600S』

    短冊フレーム用ダイボンダ 共晶、エポキシ両方に対応可、兼用仕様も可。小…

    『DBD4600S』は、短冊フレーム用ダイボンダで、 0.15mm~からの小チップも対応可能 安定稼働を供給します 【仕様】 ■接合プロセス 共晶(DAF)/エポキシ/兼用機仕様 ■チップサイズ □0.15~1.0mm(共晶) ~3.0mm(エポキシ) ■ボンド精度(XY)  +/-35μm +/-25μm(裏面認識使用時) ■...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社テクサス

  • フープフレーム用ダイボンダ『DBD4200R』 製品画像

    フープフレーム用ダイボンダ『DBD4200R』

    フープフレーム用ダイボンダ 共晶、エポキシ両方に対応可(兼用仕様可)小…

    フープフレーム用ダイボンダ『DBD4200R』 0.15mm~からの小チップも対応可能です。 【仕様】 ■接合プロセス共晶/エポキシ/兼用機仕様 ■チップサイズ□0.15~1.0mm(共晶) ~3.0mm(エポキシ) ■ボンド精度(XY) +/-35μm ■ボンド精度(Θ) +/-3° ■ボンド/ピック...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社テクサス

  • フラックスレス半田ボンダ『DBD3580S』 製品画像

    フラックスレス半田ボンダ『DBD3580S』

    パワー半導体向けフラックスレス半田ダイボンダ(糸はんだ)  オプショ…

    パワー半導体向けフラックスレス半田ボンダ『DBD3580S』 最大幅100mmのPower QFNなど多列ワークに対応しています。 【仕様】 ■接合プロセス糸はんだ塗布 ■チップサイズ □1.0~6.0mm ~10.0mm(オプション) ■ボンド精度(XY) +/-50μm ■ボンド精度(Θ) +/-3° ■ボンド/ピック荷重30~200g...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社テクサス

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