フレキシブル半導体製造装置『SHUTTLELINEシリーズ』

PR薄膜堆積用PECVD・ドライエッチング・故障解析用プロセス対応。多機能…

『SHUTTLELINE(R)シリーズ』は、RIE/ICP-RIE、PECVD/ICP-CVDに対応し コンパクトながら高性能かつ多機能な半導体製造装置です。 成膜とエッチングプロセスを一台で実現し、様々なウエハサイズと形状に対応可能。 シャトルシステムにより、異なるサンプルサイズでもハードウェアの変更が不要です。 世界で広く採用されており、Plasma-Therm LLCの グ...

メーカー・取り扱い企業： プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

スクリーンマスク清掃のお悩み解決特集！

PR無償サンプル情報あり！スクリーンマスクの版清掃における商材をご紹介

当資料では、スクリーンマスクの版清掃における商材をご紹介しております。 【こんなお悩みはありませんか】 ■清掃してもスクリーンマスクにインクが残ってしまう ■洗浄剤を使用することで環境面に影響がないか心配 ■高価なインクを無駄にしたくない ■手拭きでの清掃に苦労している など・・・ 弊社ではこれらのお悩みに対して、ご紹介できる商材の取り扱いがあります。 （一部、サンプルのご...

メーカー・取り扱い企業： 竹田東京プロセスサービス株式会社 湘南藤沢センター、北陸センター、テクノセンター

溶射法の特長

溶射材料や素材材質の選択範囲が広い！ドライプロセスであり、環境への負担…

固体原料を溶融・投射するという独特のプロセスをとる溶射法は、 他の表面改質技術にはない特長があります。 溶射法の長所として、溶射材料や素材材質の選択範囲が広いことや 皮膜形成速度が高いこと、現場施工が可能などが挙げられます。 ...

メーカー・取り扱い企業： 大阪富士工業株式会社

溶射とクロムメッキの違い

耐摩耗性が著しく向上！処理時間が早くドライプロセスのため、乾燥時間が不…

、耐摩耗性が著しく向上します。 【溶射の長所】 ■メッキと違い処理槽の枠にとらわれないので、処理槽に入らないような 　大きな製品も処理できる（部分処理も可能） ■処理時間が早く、ドライプロセスのため、乾燥時間が不要 ■膜厚としては0.5mm～50mm程度で、薄膜厚膜対応が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 大阪富士工業株式会社

溶射とは

溶射の「溶」は溶融させることを意味し、溶射の「射」は衝突・堆積に相当し…

味し、溶射の「射」は衝突・堆積に 相当します。したがって良い溶射皮膜を作るには充分な溶融状態を作る ための高温状態と、粒子を吹き付けるための高速状態が必要となります。 溶射法における成膜プロセスは、溶融された粒子が基材に衝突、同時に 扁平化します。また一部は飛沫となって飛び散るものもあります。 溶融されて液体になった原料粒子が次々と積層してゆくことで成膜されます。 【さまざ...

メーカー・取り扱い企業： 大阪富士工業株式会社