• 資料『次世代半導体の今を説く~SiC・GaN解説~』【進呈中!】 製品画像

    資料『次世代半導体の今を説く~SiC・GaN解説~』【進呈中!】

    PR次世代半導体SiC・GaNの新情報がここに!

    エネルギーの効率的な利用と環境への配慮が今後ますます重要となる中で 従来のシリコン半導体よりも優れた特性を持つ次世代半導体が大きな注目を浴びています。 その中でSiC(シリコンカーバイト)・GaN(窒化ガリウム)の特徴や課題を解説しております。 次世代半導体に触れ、未来の製品開発のヒントとなれば幸いです。ぜひご活用ください。 技術革命の先駆けとなる情報が今すぐあなたの手に。お見逃しなく! ...

    メーカー・取り扱い企業: ジェルグループ【株式会社ジェルシステム/株式会社ナカ アンド カンパニー】

  • 【内部流路】拡散接合【セラミックス・石英ガラス・純モリブデン】 製品画像

    【内部流路】拡散接合【セラミックス・石英ガラス・純モリブデン】

    PR拡散接合により、内部に流路を有する複雑形状が実現可能!石英ガラス、純モ…

    拡散接合は材料同士を直接接合させる技術です。 接着剤、ロウ材を使用しないため、不純物による汚染問題が起きません。 また、塑性変形の発生を抑えることもできます。 拡散接合を用いることで、通常の切削加工では実現できない中空構造や、内部流路、真直度の良い深穴を形成可能です。 ヘリウムリークテスターを保有しておりますので、リークテストの実施も可能です。 【拡散接合実績材質】 ・アル...

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    • Si-SiC素材 拡散接合による溝形状、深穴形状形成のご提案2 1.png

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社トップ精工

  • SiCコーティング装置(AF-IP装置) 製品画像

    SiCコーティング装置(AF-IP装置)

    緻密で耐摩耗性と耐酸化性に優れたSiC(シリコンカーバイド)膜をPVD…

    新開発アークフィラメント型イオンプレーティング法により従来に無かったPVD法による」SiC成膜を実現。 400℃以下の低温で緻密で耐摩耗性・耐酸化性に優れたSiC膜を形成可能とした新成膜技術を採用。 個体シリコンを出発材料としたイオンプレーティング法のためシンプルで環境負荷の少ないクリーンなプロセスを実現。 膜厚や膜質の制御性も高くCVDに比べ、排ガス処理・メンテナンス性・設置面積・ランニン...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • 静電気除去装置  イオンチャンバー「SIC-150」 製品画像

    静電気除去装置 イオンチャンバー「SIC-150」

    ノズル式イオナイザーを搭載した除電、除塵ブース。赤外線センサーによる自…

    イオンチャンバー「SIC-150」は、ノズル式イオナイザーを搭載した 除電、除塵ブースです。 小型電子部品の除電、除塵に最適です。 赤外線センサーにより自動でON/OFFが可能です。 エアーフィルターを搭載し、ク...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ナカタニ

  • 『小型カスタムSiCパワーモジュール』の試作・製造 製品画像

    『小型カスタムSiCパワーモジュール』の試作・製造

    従来比1/2の小型化を実現!

    従来比(Siデバイス)で1/2以下の小型化と250℃以上の高耐熱対応が可能なSiCパワーモジュールを、カスタム仕様で開発試作から製造まで対応致します。 電気自動車・ハイブリッド自動車のモーターを駆動制御するインバータや、ソーラー発電・非常用蓄電装置の電力変換装置にも搭載可能です。 ...【製品の概要】 立体構造による小型化とフリップチップ実装方式の採用で業界最小クラスの小型化を実現し...

    メーカー・取り扱い企業: マイクロモジュールテクノロジー株式会社

  • 測量・調査:フィールド業務支援システム『iField』 製品画像

    測量・調査:フィールド業務支援システム『iField』

    現場状況・位置情報を“見える化”して業務効率アップ。スマホ等を使って報…

    『iField』は、携帯端末のGPSやカメラなどの機能を活用して、 現場スタッフの作業状況を簡単に把握できる動態管理システムです。 スタッフはスマホやタブレット上で簡単に報告書を作成できるため、 保守や調査、工事、配送といったフィールド業務の効率化に役立ちます。 また、報告書の送信時など必要なタイミングで位置情報を地図上で確認可能。 任意の間隔で通知を受け、各スタッフの移動軌跡を...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社SIC桑原 本社

  • クラウド型WebGISを活用した『動態管理システム』 製品画像

    クラウド型WebGISを活用した『動態管理システム』

    車両などの現在位置・走行軌跡を見える化。現場の写真・コメントも地図上に…

    『動態管理システム』は、スマホのGPS機能を使用し、 リアルタイムで車両の位置などの情報を表示できるシステムです。 データ集計が容易で、日報作成をはじめとする事務作業を大幅に削減可能。 また、現場の写真やコメントなどを地図上に表示して共有できます。 【特長】 ■アプリで撮影した写真に、場所・日時などの情報やコメントを追加可能 ■設定した目的地点に近づくとアラームを発報 ■走行...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社SIC桑原 本社

  • イットリアコーティング装置(AF-IP装置) 製品画像

    イットリアコーティング装置(AF-IP装置)

    耐プラズマ性に優れたイットリア(Y2O3)膜をPVD法で形成。 新開…

    新開発アークフィラメント型イオンプレーティング法により緻密な酸化膜の厚膜(10μm)を低温で形成 半導体製造装置部品に対応した優れた耐プラズマ性をもつイットリア膜の成膜に対応。 イオンプレーティング法によるシンプルなプロセスで緻密な膜質を実現。 イットリア膜だけでなくSiCやTiC、CrNなどの各種反応膜を固体金属材料より形成可能。 独自開発イオンプレーティング法により表面処理の新たな用途...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • アークフィラメント式イオンプレーティング装置  製品画像

    アークフィラメント式イオンプレーティング装置 

    緻密な酸化膜厚膜(~10μm)を高速形成。新開発イオン化機構搭載 C…

    緻密で耐プラズマ性の高いイットリア膜やSiC膜を高速形成。 高密度プラズマによる反応性プロセスによりCVDより低温で溶射法より緻密な膜質を実現。 半導体関連部品にも応用可能なクリーンな成膜プロセスを実現。 PVD法のため装置のメンテナンスも容易で低コスト。 絶縁膜(酸化膜・炭化膜)を高速形成。緻密な厚膜を高速形成。従来型のイオンプレーティング法の弱点を克服。 新たな表面機能を生み出す用途...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • GC研磨材 製品画像

    GC研磨材

    原料のSiCを厳選し、各粒度に厳しく分級され製造されています。

    原料のSiCを厳選し、各粒度に厳しく分級され製造されています。 特に厳しい性能を要求される#1200以上のハイメッシュ製品の 品質安定性に高い評価を得ています。...詳しくは、お問い合わせもしくはカタログダウンロードから詳細がご覧いただけます。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社バイコウスキージャパン

  • クリスタル光学 大型設備対応 超精密鏡面研磨加工 製品画像

    クリスタル光学 大型設備対応 超精密鏡面研磨加工

    大型研磨加工設備完備!様々な材質を鏡面に仕上げます。

    光学単結晶の鏡面研磨技術は創業来の歴史を積み重ねてきました。それを礎とした超精密研磨加工は当社の誇りともいえます。豊富な加工実績で、材料を問わない加工技術を確立しました。光学単結晶から金属・樹脂まで様々なお客様のニーズにお応え致します。 【特徴】 ○超大型オスカー研磨機(φ3500) 高度な熟練が必要な球面研磨、平面研磨などのオスカー研磨加工も可能 ○大型ラッピングマシン 研磨定盤サ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社クリスタル光学

  • 排気回収機構を設けた「SiCウエハ用ベルヌーイチャック」 製品画像

    排気回収機構を設けた「SiCウエハ用ベルヌーイチャック」

    クリーンルームにて使用可能「SiCウエハ用ベルヌーイチャック」

    排気回収機構を具え、クリーンルームへの排気の排出を減少させ、クリーンルーム内での使用を可能にした「SiCウエハ用ベルヌーイチャック」 ...            1.排気回収機構:SiCウエハ・基板用 クリ-ンルーム対応ベルヌーイチャック「フロートチャックWASiC型」は、保持するウエハ に対向する作動面と、作動面の中央部に設けられたクッション室と、クッション室中央部に設けられたノズルお...

    メーカー・取り扱い企業: 有限会社ソーラーリサーチ研究所 大阪事業所

  • 【測定分野】 微小サイズ 【TM3】 製品画像

    【測定分野】 微小サイズ 【TM3】

    薄膜と微小領域の熱物性測定に。微小サイズ粒子も自在に測定可能

    サーマルマイクロスコープ TM3は、試料に金属薄膜を成膜し、加熱用レーザにより周期加熱します。従来困難だった微小サイズ粒子も自在に測定可能です。詳しくはお問い合わせ下さい。...【主な特長】 ○薄膜と微小領域の熱物性測定に ○試料に金属薄膜を成膜し、加熱用レーザにより周期加熱 ○従来困難だった微小サイズ粒子も自在に測定可能 【その他の特長】 ○SiC複合材料の評価 →粒子サイズは約...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ベテル ハドソン研究所

  • 一般機器関連 焼結部品 製品画像

    一般機器関連 焼結部品

    金属の特性を活かしながら、各種形状に成形できます!

    焼結部品は、 原料粉末の多様化により、銅系/鉄系で、用途に合わせた配合が出来ます。 プレス成形により寸法が正確で、複雑な形状にも応じられます。 ポーラス(空孔)を持つため、含油により潤滑性・耐摩耗性を発揮します。 熱処理等の後処理で、さらに特性を付加することが出来ます。 2つ以上の部品を一体化しASSY部品を構成できるなどの優れた特性を備えています。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタ...

    メーカー・取り扱い企業: トーヨーテクノ株式会社

  • ホットプレート 製品画像

    ホットプレート

    ホットプレート

    プレート材の選択が多様(AL・SUS・耐熱ガラス・SIC・AlN・複合材)です。お客様のニーズに合ったヒーターをカスタマイズ製作致します。 ...

    メーカー・取り扱い企業: ナラサキ産業株式会社 メカトロソリューション部 機能材料課

  • 加工品 『各セラミック加工品』 製品画像

    加工品 『各セラミック加工品』

    様々なセラミック加工品を製造し、提供出来ます。

    材料(特殊ガラス)の加工・販売・卸業を手掛けている当社では、 ガラスの加工だけでなく、セラミックの加工などにも対応しております。 アルミナ、ジルコニア、窒化ケイ素、窒化アルミ、炭化ケイ素(SIC),BN等々の微細加工から大型加工品まで幅広く対応致します。 ★特殊ガラス・セラミックのことでお困りの方はお気軽にお問い合わせ下さい! 【取り扱い材料(一例)】 ■アルミナ ■窒化...

    メーカー・取り扱い企業: 有限会社シャスコテック 寒川営業所

  • GaN成膜装置冶具用ドライ洗浄装置 【無料デモ実施中!】 製品画像

    GaN成膜装置冶具用ドライ洗浄装置 【無料デモ実施中!】

    ドライ洗浄により冶具が長持ち・コスト削減!ウェット洗浄に比べて大幅な時…

    GaN成膜装置冶具用ドライ洗浄装置はMO-CVD装置の冶具などの成膜時に堆積するGaNやAlN等をドライエッチング方式で洗浄する装置です。 パワーデバイス、レーザーダイオード等の化合物・半導体や青色LEDの製造に最適。製造時の製品歩留まりの向上、ランニングコストの削減に効果を発揮します。    ★☆★【無料デモ】実施中!!★☆★ 【特徴】 ●GaN成膜装置に使用する各種冶具のドライ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社メープル

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