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PR【国内製造】特殊な光学部材や電気制御部を完全に排除!低価格での提供を可…
『iQoM』は、半導体レーザーの連続出力を導入するだけで、超短パルス光を 発生することができる全光ファイバ光学モジュールです。 (パルス圧縮によりフェムト秒パルスの出力も可能) 消耗部品であるSESAMを使用しない独自のアプローチにより、長寿命性と 高い信頼性を実現。 さらに、すべて偏波保持ファイバで構成することで、振動や温度変化に対する 環境安定性に優れています。 【特...
メーカー・取り扱い企業: セブンシックス株式会社
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3DDX有効活用セミナー 開催のご案内<フォローアップセミナー>
PR3Dデータを有効活用できる製品を一同展示!事例も含めてご紹介
ミルトス株式会社は、「建築・土木・測量・モノづくり環境における3D DX 有効活用セミナー(CSPI2024フォローアップセミナー)」を開催いたします。 CSPI2024にご来場いただいたお客様及びご事情により当社ブースにご来場 いただけなかったお客様に展示会場ではご説明しきれなかった各種展示製品 (スキャナ関連、ソフトウェア関連)等を改めて事例も含めてご紹介および展示。 現在業...
メーカー・取り扱い企業: ミルトス株式会社
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◉ 短時間 1バッチわずか30分で容易にグラフェン合成実験が可能 ◉…
◉ コールドウオール式による高効率・高精度プロセスコントロール ◉ 急速昇温:1100℃/約3分間 ◉ 高精度温度制御:±1℃ ◉ 高精度APC自動圧力制御システム:ガス3系統(Ar, H2, CH4) ◉ グラフェン作成用標準レシピ付属 ◉ コンパクトサイズ:405(W) x 41...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…
高機能 ハイパフォーマンス RF/DCマグネトロンスパッタリング装置 ● 到達圧力5 x 10-5Pa(*1x10-4Paまで最速30分!) ● スパッタ源 x 3:連続多層膜膜制御, 同時成膜 ● 膜均一性±3% ● 多彩なオプション:上下・回転、ヒータ、磁性材用カソード、他 ◉ nanoPVDは、最大スパッタ源3...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉(カーボン炉、…
温度調節計以外の全ての操作を行います。 煩わしいバルブ開閉・ポンプ起動操作が不要、焼成作業前の「真空/パージ」サイクルと焼成作業後の「ベント」を1ボタンで自動シーケンスで行います。 ◉MFC最大3系統 自動流量制御(又は手動調整) ◉APC自動圧力コントロール ◉作業中の安全を確保 冷却水異常・チャンバー温度異常・過圧異常を監視SUS製 堅牢な水冷チャンバー、最高温度で連続使用中でも安...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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ローコスト 必要最小構成(手動制御)管状炉・拡散炉・熱CVDとして応用…
小片試料〜3inch waferまでの小基板用 サセプタ手動昇降式縦型実験炉 大学・企業研究室での基礎実験用に最適な基礎実験用ローコスト版縦型炉 【用途】 ◉ 半導体・太陽電池・燃料電池・電子基板等の...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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Φ6〜8inch超高温ウエハーアニール装置 研究開発から小規模生産ま…
運転(オプション) ・タッチパネル操作、操作が分散せず一元管理が可能です。 ◾️ プロセス圧力制御 ・APCコントロール(MFC流量、又は自動開度調整バルブ PIDループ制御) ・MFC最大3系統流量自動制御、又はフロートメーター/ニードルバルブの手動調整 ◾️ PLOT画面グラフ表示、CSVデータ出力...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、434;、又は634;基板…
高真空水冷式SUSチャンバー内に設置した加熱ステージにより最高1000℃までの高温処理が可能です。チャンバー内にはヒートシールドが設置されインターロックにて安全を確保。マスフローコントローラは最大3系統まで増設が可能、精密に調整されたプロセスガス圧力での焼成作業が可能です(APC自動プロセス制御システムオプション)。 又、フロントビューポート、ドライスクロールポンプ、特殊基板ホルダー、熱電対...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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スパッタ・蒸着ソース複合型成膜装置【nanoPVD-ST15A】
スパッタカソード・蒸着ソース混在型薄膜実験装置 コンパクトフレームに…
抵抗加熱蒸着源(金属蒸着)、有機蒸着源(有機材料)、マグネトロンスパッタ(金属・絶縁材)、3種類の成膜コンポーネントをチャンバー内に設置、様々な薄膜実験装置に1チャンバーで対応が可能です。 ◉組み合わせは3種類 1. スパッタカソード + 抵抗加熱蒸着源x2 2. スパッタカソード ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…
Play感覚で1934;コンパクトラックに組込む事により無駄が無く、小型省スペース・シンプル操作・ハイコストパフォーマンスを実現した、フレキシブルR&D用薄膜実験装置です。 マグネトロンスパッタ(最大3源)もしくは抵抗加熱蒸着(金属源 最大4、有機材料x4)に対応します、又基板加熱ステージを設置しアニール装置、プラズマエッチングも製作可能。 グローブボックス収納タイプもございます(*要仕様協議)...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み…
省スペース、ハイスペック薄膜実験装置 下記蒸着源から組合せが可能 ・抵抗加熱蒸着源 x 最大4 ・有機蒸着源 x 最大4 ・電子ビーム蒸着 ・2inchスパッタリングカソード x 4(又は3inch x 3, 4inch x 2) ・プラズマエッチング:メインチャンバー、ロードロックチャンバーのいずれでも設置可能 【スモールフットプリント・省スペース】 ・デュアルラックタイ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ(Φ4inch用)…
組み合えることが可能、様々な用途に柔軟に対応 高温基板加熱ステージ(二重ジャケット水冷式)オプション -1) Max600℃(ランプ加熱) -2) Max1000℃(C/Cコンポジット) -3) Max1000℃(SICコーティング) ロードロック内逆スパッタステージ -1) 300W、又は -2) Soft-Etching(<30W) システム主制御:39;IntelliDep39;制...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…
Φ2inchカソード x 4基搭載 同時成膜:3元同時成膜(RF500W or DC850W)+ HiPIMS(PulseDC 5KW) x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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不純物なく金属・絶縁物等を堆積するRF, DC, パルスDC対応高効率…
【特徴】 ・高真空対応 ・Φ2inch、Φ3inch、Φ4inchサイズ ・クランプリング式を採用、ボンディングが不要 ・メンテナンス性に優れ、容易にターゲットの交換が可能 ・シャッター、チムニーポート、ガスインジェクション、磁性材用高...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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スパッタ・蒸着源複合型 薄膜装置 【nanoPVD-ST15A】
真空蒸着(金属・有機蒸着源)、スパッタリングカソードの混在設置が可能な…
ースを有効活用いただけます。 顕微鏡用試料作成用コーターではありません、電子回路基板、電池、MEMS、新素材開発などの研究開発用途で求められる高品質な薄膜を作成することができます。 ガス系統最大3系統(プロセス圧力APC自動制御)、連続自動製膜(最大20層)、2源同時成膜など豊富な機能を備え、更に基板加熱ヒーター(500℃)、ドライスクロールポンプなど豊富なオプションも用意。 真空引き・成...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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ウエハースケール グラフェン合成装置【nanoCVD-WGP】
Φ3inch、Φ4inch ウエハーサイズ対応プラズマCVD 装置。不…
Φ3inch、Φ4inch ウエハーサイズ対応プラズマCVD 装置。不純物を抑制し清浄・高品質なグラフェンを高速合成。 熱CVD、低温~高温プラズマCVD いずれの方法でも利用可能。マスフローガス供給...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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【SH 高温基板ヒーター】PVD, CVD用 Max1100℃
CVD, PVD(蒸着, スパッタ等)均熱性・再現性に優れた高真空 超…
BN型 ◎ 対応基板サイズ ・1〜6inch(*1, 1.6inchはインコネルタイプのみ) ◎ 使用雰囲気 ・SH-IN:真空(1x10-7Torr), 不活性ガス, 大気, O2, NH3, SiH4, CH4他 ・SH-BN:真空(1x10-7Torr), 不活性ガス, H2, He, CH4, C(*O2不可) ◎ 基板固定用サンプルクリップ付属 ◆オプション仕様◆ ◎ ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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『2024 知財・情報フェア&コンファレンス』出展・セミナー開催
会期は2024年10月2日(水)~10月4日(金)!10月3日…
株式会社デンネマイヤー -
設置面積は僅か0.5m2!省エネ改善に貢献する小型射出成形装置
コンパクトサイズで軽量にも関わらずスーパーエンプラまで成形でき…
エプソンテックフオルム株式会社 -
共和精機株式会社 事業紹介
技術、納期、数量など、まずは何でも、ご相談ください!
共和精機株式会社 -
電気自動車用バッテリー向けレーザ溶接/光計測ソリューション
高精度・高速光計測センサ、レーザ溶接、溶接中モニタリングなどバ…
プレシテック・ジャパン株式会社 -
タンク気密漏洩検査<ガス加工法・微加圧法・その他>
タンク内の油を抜き取ってから検査する方法と貯蔵したまま検査する…
株式会社油水分離 -
『真空成型 立体POP』※年賀状サンプル進呈
平面のPOPに浮き出る立体感を加え、より一層印象的に。型作りか…
株式会社ランスロットグラフィックデザイン -
『真空成型 立体POP』※年賀状サンプル進呈
平面のPOPに浮き出る立体感を加え、より一層印象的に。型作りか…
株式会社ランスロットグラフィックデザイン -
高効率プリント基板搬送システム【GENIUS】
【GENIUS】は搬送、製品のバッファリング/アキュームレーシ…
ジーディー自動機械株式会社 フレックスリンク事業部 -
透過密閉型 マイクロフォーカスX線源『G-511シリーズ』
先端半導体パッケージの非破壊検査に対応可能な 高解像度の X線…
キヤノンアネルバ株式会社 栗木本社 -
スピード量産も実現する「RP砂型積層造型手法」
新型砂積層3Dプリンターの導入により、さらなるスピードアップを…
北陸軽金属工業株式会社 埼玉工場