• 【高周波基板】高速デジタル基板 製品画像

    【高周波基板】高速デジタル基板

    PRそれぞれに適した高周波回路基板設計を実施!お客様にご満足して頂ける製品…

    SDKが取り扱う『高速デジタル基板』をご紹介します。 お客様から頂いた仕様条件を元に、アナログ及びデジタルの高周波特性を 満たす基板材料を選定。 それぞれに適した高周波回路基板設計を行い、お客様にご満足して頂ける 製品を提供致します。また部品実装・調達までワンストップで実行することで御社の工程管理負担を代行いたします。 【仕様概略(一部)】 ■CPU:PEZY-SCプロセッ...

    • 2022-07-08_16h35_12.png
    • 高速デジタル回路基板.jpg

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社SDK

  •  特長的な基板にも対応可能な!3D局所加熱のIHはんだ付け装置 製品画像

    特長的な基板にも対応可能な!3D局所加熱のIHはんだ付け装置

    PR大きな熱量の出力も可能なため幅広い基板に"1台"で…

    『S-WAVE301H』は、大きな熱量を要するプリント基板を スポット加熱する製品です。 バスパー、パワー半導体、4層基板、高多層基板、厚銅基板、 セラミック基板、金属ベース基板といった特長的な基板にも対応可能。 低消費電力、高い加熱効率などの特長はそのままです。 ご用命の際は、当社へお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■低消費電力、高い加熱効率 ■大きな熱量を要...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社富山技販

  • 4層ベローズ 製品画像

    4層ベローズ

    高耐圧と低いバネ定数を兼ねそろえた4層ベローズ、強度を保って抜群のやわ…

    4層ベローズ』は、高圧下で柔らかさ、超寿命が求められる、振動配管・ 真空振動乾燥機の振動吸収用ベローズです。 高い使用圧力にも拘らずベローズの長さに制限があり、バネ定数に 制約のある、バルブ・...

    メーカー・取り扱い企業: 三元ラセン管工業株式会社

  • 原子層堆積装置『AFALD-8』 製品画像

    原子層堆積装置『AFALD-8』

    優れた段差被覆性と精密な膜厚制御!高品質な成膜が可能

    『AFALD-8』は、複雑な三次元構造に原子レベルで膜厚制御された成膜が できる原子層堆積装置です。 ミリ秒単位で高品質な薄膜成膜が可能なため、低ダメージで安定した成膜を 実現。 操作性に優れたソフトウェアや、自由度の高いオプション構成ができます。 【特長】 ■段差被覆性 ■高精密な膜厚制御 ■ピンホールフリー ■低ダメージ ■原料コスト削減 ※詳しくはカタロ...

    メーカー・取り扱い企業: JSWアフティ株式会社

  • 原子層堆積装置 「ALD-Series」 製品画像

    原子層堆積装置 「ALD-Series」

    複雑な形状の基板への成膜に最適で、低温成膜で樹脂基板にも対応します。ま…

    ALD(Atomic Layer Deposition)とは原子層堆積法という単原子層を1サイクルで成膜する手法で、サイクルを繰り返すことにより薄膜を形成します。 一原子層レベルの均一なレイヤーコントロールが可能となり、高品質かつ段差被覆性の高い薄膜を形成する事が可能です。 【特徴】 ○複雑な形状の基板への成膜に最適 ○低温成膜で樹脂基板にも対応 ○ガスバリア性に優れた薄膜が得られる...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社昭和真空

  • フラックスレス蟻酸リフロー装置 製品画像

    フラックスレス蟻酸リフロー装置

    200mm/300mmウェーハ、ガラス、250mmのサブストレートPK…

    260℃ (最大450℃) ■温度分布:±3℃以下 (9-point 測定) ■省スペースフットプリント: 4.95m2 / L x W x H =1.8 x 2.75 x 2.55 m 4層シングルウエハーチャンバー設計により、高精度なプロセス制御を実現 ...

    メーカー・取り扱い企業: Yield Engineering Systems, Inc.

  • ALD装置(原子層堆積装置)『P-300B』 製品画像

    ALD装置(原子層堆積装置)『P-300B』

    高品質のALD膜を作り出す!MEMS機器の生産や3Dオブジェクトの成膜…

    『P-300B』は、プリントヘッド、センサー、マイクなどのMEMS機器の生産やレンズ、光学部品、機械部品、ジュエリー、コイン、医療用インプラントといった3Dオブジェクトの成膜に適した装置です。 当社が特許取得済みの高温壁設計と完全に分離した投入口を組み合わせる ことにより、優れた生産性、低パーティクルレベル、電気性能や光学性能の優位性を実現した、高品質のALD膜を作り出すことができます。 ...

    メーカー・取り扱い企業: PICOSUN JAPAN株式会社

  • ALDプロセス用高速高耐久バルブ『TDFシリーズ』 製品画像

    ALDプロセス用高速高耐久バルブ『TDFシリーズ』

    高速開閉・高い応答安定性!特殊面間寸法や弁形状、耐腐食性材料ボディなど…

    『TDFシリーズ』は、ALD(原子層堆積)プロセスに必要な高速開閉、高耐久、耐食性、耐熱性、Cv安定性を兼ね備えた高純度ガス対応ダイヤフラムバルブです。 アクチュエータへの熱伝導を低減する構造を採用し、最高220℃までの 高温流体に使用可能。 工場出荷時に全数Cv値を調整しており、使用時のCv値変動率が少なく 安定したガス流量が得られます。 【特長】 ■高速開閉・高い応答安...

    • image_02.png
    • image_03.png
    • image_04.png
    • image_05.png

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社キッツエスシーティー

  • マニュアル露光装置 製品画像

    マニュアル露光装置

    顕微鏡オート移動など、生産性、使い勝手に優れたアライナ

    2インチウエハ対応のマニュアル露光装置です。 オペレータがマニュアルでウエハをセットする露光装置です。4インチのガラスマスクを使用し、フォトマスクとウエハのアライメントマークを顕微鏡で撮像、モニタに写しだされた画像を見ながらの位置合わせと、露光ギャップ設定を行うことで、露光が可能です。 なお、露光スイッチを押すと自動で顕微鏡が退避、ランプハウスが所定の位置に移動し、設定光量露光、自動退避までを...

    メーカー・取り扱い企業: ウシオライティング株式会社

  • 省スペース型「スピン洗浄装置(多目的洗浄タイプ)」 製品画像

    省スペース型「スピン洗浄装置(多目的洗浄タイプ)」

    1チャンバー型多目的スクラブ洗浄。1チャンバーで異物、金属汚染を取り除…

    各種サイズ、各種ウエハの、界面活性剤、純水スクラブ、薬液スプレー、メガソニックスポットシャワー、スピン乾燥までを1チャンバーで行う枚葉装置です。 1つの洗浄層の中で洗浄が完結できる省スペース型のためスペースの限られた場所にも適しています。 単機能のスクラブ洗浄装置についてはご相談ください。 【特長】 ■洗浄・リンス・乾燥まで1か所で行える ■被洗浄対象ウエハ:シリコン、石英、酸化物、...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ゼビオス(XEVIOS CORP.,)

  • 省スペース型「スピン洗浄装置(多目的洗浄タイプ)」 製品画像

    省スペース型「スピン洗浄装置(多目的洗浄タイプ)」

    1チャンバー型多目的スクラブ洗浄。1チャンバーで異物、金属汚染を取り除…

    各種サイズ、各種ウエハの、界面活性剤、純水スクラブ、薬液スプレー、メガソニックスポットシャワー、スピン乾燥までを1チャンバーで行う枚葉装置です。 1つの洗浄層の中で洗浄が完結できる省スペース型のためスペースの限られた場所にも適しています。 単機能のスクラブ洗浄装置についてはご相談ください。 【特長】 ■洗浄・リンス・乾燥まで1か所で行える ■被洗浄対象ウエハ:シリコン、石英、酸化物、...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社テクニカルフィット

1〜9 件 / 全 9 件
表示件数
45件
  • < 前へ
  • 1
  • 次へ >

※このキーワードに関連する製品情報が登録
された場合にメールでお知らせします。

  • 修正デザイン2_355337.png
  • 4校_0513_tsubakimoto_300_300_226979.jpg

PR