アルマイトなのに電気が通る！ 独自開発『導電アルマイト』

PRアルミの表面処理をしても電磁波シールド性と導電性を保持！硬さ、耐摩耗性…

電気は通したい…けど、マスキングは手間とコストがかかる…とお悩みの方は必見！ ☆当製品『導電マイト』は、マスキングなしで通電可☆ 導電性を必要とする部品や電磁波シールド性が必要な部品などお使いいただける電気が通るアルマイトです。 アルミニウム展伸材のみならず、鋳物やアルミダイカストにも対応できます！ 導電アルマイトは、「シールド効果」をはじめ、「カラー対応」「耐摩耗性」「帯電防...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アート１

インスタントにDX！3分で点検リモート化　※改善事例プレゼント！

PR現場も改善も止めない後付カンタンな「インスタントDX」の最適解

点検業務のリモート化を検討したくても、費用と手間がネックで、改善が進まなかったご経験はありませんか？ リリースから約3年半で、約4,600台 約600施設 約400部門※1、 日本国内で導入されたリモート点検ツール。 バッテリー駆動、かつLTEモバイルネットワーク内蔵のため、電源・ネットワーク工事不要で即日起ち上げ可能。 WEBブラウザソフト(LiLz Gauge)までを一...

メーカー・取り扱い企業： 【公式】LiLz（リルズ）株式会社

【エッチング装置/アッシング装置部品の保護膜に】Y5O4 F7膜

Y5O4 F7膜は表面フッ素量変化が小さいのでエッチング装置のエージン…

のようなプロセス条件の変動を緩和するため、従来技術では製品処理前に類似ウェハを処理して堆積物をコーティングすることによってチャンバ内表面状態を安定させる手法（エージング）が適用されていました。Y5O4 F7膜はY2O3膜に比べてプラズマ処理前後の表面フッ素量変化が小さいのでエッチング装置のエージング時間を大幅に短縮し、装置稼働時間を上げることに寄与します。 ...

メーカー・取り扱い企業： つばさ真空理研株式会社 横浜ラボラトリー

スパッタリング装置『MiniLab-026』

小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…

込む事により無駄が無く、小型省スペース・シンプル操作・ハイコストパフォーマンスを実現した、フレキシブルR&D用薄膜実験装置です。 マグネトロンスパッタ（最大3源）もしくは抵抗加熱蒸着（金属源 最大4、有機材料x4）に対応します、又基板加熱ステージを設置しアニール装置、プラズマエッチングも製作可能。 グローブボックス収納タイプもございます（*要仕様協議）。 フレキシブルにカスタマイズが可能な...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

【MiniLab-SA125A】 多元マルチスパッタ装置

高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ（Φ4inch用）…

【主仕様】 ・基板サイズ：Max12inch対応 ・チャンバー：SUS304 UHV対応、500 x 500 x500mm ・到達真空度：5 x 10-5pascal ・スパッタカソード：Φ24;（最大6）、Φ34;（最大4） ・プラズマ電源：RF150W, 300W, ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

【基礎知識】フッ素樹脂コーティングとは？

フッ素樹脂（別名：テフロン）とは、様々な特性があるが、一言でいうと熱に…

られない物理特性、化学特性、電気特性 などの 優れた特性を兼ね備えています。 その用途は多岐に渡り、家庭用の調理機器から最先端の宇宙機器に至ります。 【フッ素樹脂の種類】 ■PTFE（4フッ化エチレン樹脂） ■PFA（4フッ化エチレンパーフロロプロピルビニルエーテル） ■FEP（4フッ化エチレン6フッ化プロピレン共重合体） ■ETFE（4フッ化エチレン共重合体） ■ECTF...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社YMM コーティング事業部

光化合物半導体　プラズマ加工装置

長年の経験と蓄積された加工ノウハウ！化合物半導体加工向けに1300台以…

ご用命の際は、お気軽にお問い合わせください。 【用　　　途】 VCSEL、LED、μLED、Micro Lens、Wave Guide 【エッチング】 サファイア、GaN、GaAs、Si3N4、SiO2など 【成　　　膜】nSiO2、Si3N4、a-Si、SiCなど ※英語版カタログをダウンロードいただけます。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

カフマン　グリッドタイプ イオンソース

ＫＲＩグリッドイオンソースはDCタイプ、RFタイプがあります。

カフマン型グリッドイオンガン 　RFICPイオン源グリッドサイズ：4cm, 10cm, 14cm, 22cm, 36cm 　DCイオン源グリッドサイズ：1cm, 4cm, 8cm, 10cm, 16cm The versatile gridded serie...

メーカー・取り扱い企業： アールエムテック株式会社

卓上プラズマエッチング装置『TP-50B』

独自のスポットプラズマ技術で局所加工が可能な卓上プラズマエッチング装置

【仕様（抜粋）】 ■装置寸法：240mm(W)×390mm(D)×350mm(H) ■重量：20kg ■真空ポンプ：ドライポンプ（15L） ■加工範囲：28mm×28mm(オプションステージ使用時) 0.5~4mm ■対応...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三友製作所 テクノセンタ

[チラー]モジュール式チラー　M-Pakシリーズ

-70℃～+200℃まで幅広い温度管理を実現可能なチラ―！

ATSジャパン株式会社より、マルチチャンネルチラー「ENシリーズ」のご案内です。 ■最大4種類のモジュールの組み合わせが可能（-70℃～+200℃） ■各種循環液に対応可能 ■各種インターフェースに対応 ATSジャパン(株）のチラーは半導体業界を中心に導入実績があります。これま...

メーカー・取り扱い企業： ATSジャパン株式会社

ナイトライドエッチ用　石英ナイトライド・リフラックス・システム　ACCUBATH

ナイトライドエッチ用　石英ナイトライド・リフラックス・システム　ACC…

供給量により、安定した沸点管理を実現 ○±0.2℃の温度管理を実現 ○アクシアシールTM（オプション）によるシール部の冷却機構により長寿命化、 　30ヶ月の保証を実施 ○Si3N4エッチ（ナイトライドエッチ）のもっとも有効で、信頼性と安定性に富んだ 　システム ●その他の機能や詳細については、カタログダウンロード下さい。 　...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ヒロテック 東京営業所

バッチ式プラズマアッシング処理装置（バッチ式プラズマアッシャー）

ウエハ50枚一括のバッチ式プラズマアッシング装置

本装置は、同軸バレル構造をチャンバーに持つ、ウエハ50枚一括のバッチ式プラズマアッシング装置です。 ウエハサイズは、5インチ以下、6インチ、8インチに対応しています。 また、オプションにて4インチと6インチ、5インチと6インチウエハ兼用も可能です。 シリコンウエハ上に形成されたフォトレジスト薄膜を高周波プラズマ励起により、低ダメージアッシング（灰化除去）や表面改質等、多様なプロセス用...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社リバティー

化合物半導体プロセス用　ICPエッチング装置

化合物半導体プロセス用　ICPエッチング装置

体プロセス用多数枚処理エッチング装置 【特徴】 ○Φ330mmの大型トレーに対応 　Φ2インチウェハーなら27枚、Φ2.5インチウェハーなら17枚、 　Φ3 インチウェハーなら12枚、Φ4インチウェハーなら7枚、 　Φ6インチウェハーなら3枚同時の処理が可能 ○新型のICPソースであるSSTC（Symmetrical Shieled Tornade Coil）電極の 　採用によ...

メーカー・取り扱い企業： サムコ株式会社

高品質、短納期　メタルエッチング特長

高品質、短納期に加え、コストパフォーマンスのよさが特長です。

ル・アルミなど、ほとんどの金属材料に対して高精度の加工ができます。精密プレス加工と比較すると、金型が要らないためイニシャルコストが安くすみます。また、図面変更の容易です。試作品などの小ロット品なら、4日で製作することができます。 詳しくはお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： 伸光写真サービス株式会社

ドライエッチング装置・XeF2エッチング装置

XeF2エッチング装置

VPE-4Fは、MEMSプロセスにおける自立デバイス形成時の犠牲層（Si）エッチングを主目的とするXeF2エッチング装置です。完全ドライプロセスであるため、ウエットプロセスで問題となるスティクション（張り付き...

メーカー・取り扱い企業： サムコ株式会社

プリント基板　納期早見表

伸光写真サービスのプリント基板製造の一般的な納期をご紹介致します。

【特徴】 [納期早見表] ○片面基板 →実働3日 ○両面基板 →実働5日 ○4層基板 →実働10日 ○フレキシブル基板 →実働7日 ○メタル品 →実働4日 ●詳しくはお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： 伸光写真サービス株式会社

蒸着/スパッタ・デュアルチャンバーシステム【MiniLab】

2台の薄膜実験装置をロードロック機構で連結。異なる成膜装置（スパッタ、…

:7ccるつぼ x 6 ・抵抗加熱蒸着 x 2 ・有機蒸着限 x 2 2. MiniLab-S060A（スパッタリング装置） ・基板サイズ：Φ8inch ・Φ24;マグネトロンカソード x 4源同時スパッタ ・DC, RF両電源対応 3. Load Lockチャンバー ・プラズマエッチングステージ ロードロック室では「RF/DC基板バイアスステージ」による基板表面のプラズマクリー...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社