ポータブル脳波・多点筋電計測装置「TMSi」

PRERP、運動時、睡眠時の計測に好適！バッテリ残量など、本体全面をLED…

『APEX』は、ERP、運動時、睡眠時の計測に好適な超小型24ch/32ch対応の 脳波計測装置です。 アナログ帯域はDCから350Hz。リファレンスチャンネルはカスタム可能です。 また、32ch/64chの脳波＆多点筋電対応のモバイルタイプの計測装置 「SAGA」もご用意しております。 【APEX仕様(抜粋)】 ■チャンネル数：24ch/32ch ■解像度：24bit ...

メーカー・取り扱い企業： ゼロシーセブン株式会社

Portwell RS4U-IC1/ICS

PRポートウェルジャパンオリジナルマザーボード搭載！海外輸出対応産業用PC…

当社で取り扱う『Portwell RS4U-IC1/ICS』について、ご紹介いたします。 CCC(中国)、CE(EU加盟国)、FCC(米国)、UL(米国)、KC(韓国)、 BSMI(台湾)、CSA(カナダ)、UKCA(英国)認証を取得。 世界各国への輸出が容易なグローバル産業用PCです。需要の多い中国CCC認証を はじめとした海外の安全規格を取得することで、皆様の製品のグローバル展...

メーカー・取り扱い企業： 菱洋エレクトロ株式会社

【エッチング装置/アッシング装置部品の保護膜に】Y5O4 F7膜

Y5O4 F7膜は表面フッ素量変化が小さいのでエッチング装置のエージン…

のようなプロセス条件の変動を緩和するため、従来技術では製品処理前に類似ウェハを処理して堆積物をコーティングすることによってチャンバ内表面状態を安定させる手法（エージング）が適用されていました。Y5O4 F7膜はY2O3膜に比べてプラズマ処理前後の表面フッ素量変化が小さいのでエッチング装置のエージング時間を大幅に短縮し、装置稼働時間を上げることに寄与します。 ...

メーカー・取り扱い企業： つばさ真空理研株式会社 横浜ラボラトリー

スパッタリング装置『MiniLab-026』

小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…

込む事により無駄が無く、小型省スペース・シンプル操作・ハイコストパフォーマンスを実現した、フレキシブルR&D用薄膜実験装置です。 マグネトロンスパッタ（最大3源）もしくは抵抗加熱蒸着（金属源 最大4、有機材料x4）に対応します、又基板加熱ステージを設置しアニール装置、プラズマエッチングも製作可能。 グローブボックス収納タイプもございます（*要仕様協議）。 フレキシブルにカスタマイズが可能な...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

【MiniLab-SA125A】 多元マルチスパッタ装置

高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ（Φ4inch用）…

【主仕様】 ・基板サイズ：Max12inch対応 ・チャンバー：SUS304 UHV対応、500 x 500 x500mm ・到達真空度：5 x 10-5pascal ・スパッタカソード：Φ24;（最大6）、Φ34;（最大4） ・プラズマ電源：RF150W, 300W, ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

【基礎知識】フッ素樹脂コーティングとは？

フッ素樹脂（別名：テフロン）とは、様々な特性があるが、一言でいうと熱に…

られない物理特性、化学特性、電気特性 などの 優れた特性を兼ね備えています。 その用途は多岐に渡り、家庭用の調理機器から最先端の宇宙機器に至ります。 【フッ素樹脂の種類】 ■PTFE（4フッ化エチレン樹脂） ■PFA（4フッ化エチレンパーフロロプロピルビニルエーテル） ■FEP（4フッ化エチレン6フッ化プロピレン共重合体） ■ETFE（4フッ化エチレン共重合体） ■ECTF...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社YMM コーティング事業部

光化合物半導体　プラズマ加工装置

長年の経験と蓄積された加工ノウハウ！化合物半導体加工向けに1300台以…

ご用命の際は、お気軽にお問い合わせください。 【用　　　途】 VCSEL、LED、μLED、Micro Lens、Wave Guide 【エッチング】 サファイア、GaN、GaAs、Si3N4、SiO2など 【成　　　膜】nSiO2、Si3N4、a-Si、SiCなど ※英語版カタログをダウンロードいただけます。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

カフマン　グリッドタイプ イオンソース

ＫＲＩグリッドイオンソースはDCタイプ、RFタイプがあります。

カフマン型グリッドイオンガン 　RFICPイオン源グリッドサイズ：4cm, 10cm, 14cm, 22cm, 36cm 　DCイオン源グリッドサイズ：1cm, 4cm, 8cm, 10cm, 16cm The versatile gridded serie...

メーカー・取り扱い企業： アールエムテック株式会社

卓上プラズマエッチング装置『TP-50B』

独自のスポットプラズマ技術で局所加工が可能な卓上プラズマエッチング装置

【仕様（抜粋）】 ■装置寸法：240mm(W)×390mm(D)×350mm(H) ■重量：20kg ■真空ポンプ：ドライポンプ（15L） ■加工範囲：28mm×28mm(オプションステージ使用時) 0.5~4mm ■対応...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三友製作所 テクノセンタ

[チラー]モジュール式チラー　M-Pakシリーズ

-70℃～+200℃まで幅広い温度管理を実現可能なチラ―！

ATSジャパン株式会社より、マルチチャンネルチラー「ENシリーズ」のご案内です。 ■最大4種類のモジュールの組み合わせが可能（-70℃～+200℃） ■各種循環液に対応可能 ■各種インターフェースに対応 ATSジャパン(株）のチラーは半導体業界を中心に導入実績があります。これま...

メーカー・取り扱い企業： ATSジャパン株式会社

ナイトライドエッチ用　石英ナイトライド・リフラックス・システム　ACCUBATH

ナイトライドエッチ用　石英ナイトライド・リフラックス・システム　ACC…

供給量により、安定した沸点管理を実現 ○±0.2℃の温度管理を実現 ○アクシアシールTM（オプション）によるシール部の冷却機構により長寿命化、 　30ヶ月の保証を実施 ○Si3N4エッチ（ナイトライドエッチ）のもっとも有効で、信頼性と安定性に富んだ 　システム ●その他の機能や詳細については、カタログダウンロード下さい。 　...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ヒロテック 東京営業所

バッチ式プラズマアッシング処理装置（バッチ式プラズマアッシャー）

ウエハ50枚一括のバッチ式プラズマアッシング装置

本装置は、同軸バレル構造をチャンバーに持つ、ウエハ50枚一括のバッチ式プラズマアッシング装置です。 ウエハサイズは、5インチ以下、6インチ、8インチに対応しています。 また、オプションにて4インチと6インチ、5インチと6インチウエハ兼用も可能です。 シリコンウエハ上に形成されたフォトレジスト薄膜を高周波プラズマ励起により、低ダメージアッシング（灰化除去）や表面改質等、多様なプロセス用...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社リバティー

化合物半導体プロセス用　ICPエッチング装置

化合物半導体プロセス用　ICPエッチング装置

体プロセス用多数枚処理エッチング装置 【特徴】 ○Φ330mmの大型トレーに対応 　Φ2インチウェハーなら27枚、Φ2.5インチウェハーなら17枚、 　Φ3 インチウェハーなら12枚、Φ4インチウェハーなら7枚、 　Φ6インチウェハーなら3枚同時の処理が可能 ○新型のICPソースであるSSTC（Symmetrical Shieled Tornade Coil）電極の 　採用によ...

メーカー・取り扱い企業： サムコ株式会社

高品質、短納期　メタルエッチング特長

高品質、短納期に加え、コストパフォーマンスのよさが特長です。

ル・アルミなど、ほとんどの金属材料に対して高精度の加工ができます。精密プレス加工と比較すると、金型が要らないためイニシャルコストが安くすみます。また、図面変更の容易です。試作品などの小ロット品なら、4日で製作することができます。 詳しくはお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： 伸光写真サービス株式会社

ドライエッチング装置・XeF2エッチング装置

XeF2エッチング装置

VPE-4Fは、MEMSプロセスにおける自立デバイス形成時の犠牲層（Si）エッチングを主目的とするXeF2エッチング装置です。完全ドライプロセスであるため、ウエットプロセスで問題となるスティクション（張り付き...

メーカー・取り扱い企業： サムコ株式会社

プリント基板　納期早見表

伸光写真サービスのプリント基板製造の一般的な納期をご紹介致します。

【特徴】 [納期早見表] ○片面基板 →実働3日 ○両面基板 →実働5日 ○4層基板 →実働10日 ○フレキシブル基板 →実働7日 ○メタル品 →実働4日 ●詳しくはお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： 伸光写真サービス株式会社

蒸着/スパッタ・デュアルチャンバーシステム【MiniLab】

2台の薄膜実験装置をロードロック機構で連結。異なる成膜装置（スパッタ、…

:7ccるつぼ x 6 ・抵抗加熱蒸着 x 2 ・有機蒸着限 x 2 2. MiniLab-S060A（スパッタリング装置） ・基板サイズ：Φ8inch ・Φ24;マグネトロンカソード x 4源同時スパッタ ・DC, RF両電源対応 3. Load Lockチャンバー ・プラズマエッチングステージ ロードロック室では「RF/DC基板バイアスステージ」による基板表面のプラズマクリー...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

半導体製造装置用部品に特化！　海外製セラミックのご紹介

静電チャック、ピンチャック等の調達にお困り事があった方は必見！ 海外…

ESCはパターン製作も対応可能です！ 【対応材質】 アルミナ(Al2O3)　ジルコニア(ZrO2)　イットリア（Y2O3） 窒化アルミ(AlN)　炭化ケイ素（SiC）　窒化ケイ素(SI3N4) などの対応が可能です。 【対応サイズ】 8インチ、12インチサイズ 上記サイズの装置部品の対応が可能です。 【数量ロット】 1個～量産対応可能 【備考】 グリーン加工...

メーカー・取り扱い企業： ナラサキ産業株式会社 メカトロソリューション部　機能材料課

【加工技術】エッチングの工程

パターンフィルム作成から検査・出荷まで！問題のないものをお客様のもとへ…

ど 万全の品質管理を実施し、製品として問題のないものをお客様のもとへ お届けいたします。 【工程内容(一部))】 1.パターンフォルム作成 2.前処理工程 3.レジストラミネート 4.露光 5.現像 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ケミカルプリント

小型・大流量PTFEガスフィルター「メガフロー」

最大1,000lpmまでの流量を確保

量 2×10-11Pa・m3/sec以下 構成部材 ハウジング：SUS316L(電解研磨処理)　　内面粗度：Rmax0.5μm以下 フィルターメディア：PTFE　　サポート：PFA 継手 1/44;、3/84;、1/24;VCR(標準)、Swagelok、その他...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ピー・ジェイ

難燃性/UL取得　同軸RFケーブル

UL,IECの難燃性規格認証済の同軸ケーブルをご提供致します。　

＜対応規格＞ ・UL/NEC/CSA: CMR/MPR/FT4 UL1666 Riser Cable ・UL/NEC/CSA: CMP/FT6 UL910 Plenum Cable ・Flame: Meets IEC-332-1-2, IEC 332...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社コムクラフト

ＲＦフィルタ

高性能でコンパクトなＲＦフィルタ(高周波フィルタ)です。複数チャンネル…

μH～300μH(公称値) ・C：各チャンネル10～25pF(公称値) ・チャンネル間の絶縁は最大AC3kV。 ・標準仕様の時、すべての材料はクラスH 155℃の定格 ・プロトタイプの寸法：4チャンネル　約76mm x 38mm x 38mm 　　　　　　　　　　　7チャンネル　約100mm x 83mm x 38mm...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社グローブ・テック

焼付固着を防止できるボルト『SDCクリーンボルト』【潤滑剤不要】

潤滑剤・めっきを使わず焼付・カジリを防止！クリーン環境に最適な六角ボル…

物なし 焼付き・かじりの問題解決！！ SDCプラズマ表面硬化処理を金属表面に施し、ボルトの焼付き・カジリを防止します。 ■材質　　 SUS316（L）、純チタン・チタン合金（6Al-4V） ■形状　　 六角穴付きボルト（キャップスクリュー）全ねじ 六角穴付きボルト（キャップスクリュー）半ねじ 六角ボルト　全ねじ 六角ボルト　半ねじ 六角ナット　１種形状 ■そ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ＳＤＣ田中

【エージング時間が大幅短縮！】耐プラズマ耐食性YOF保護膜

時代はY2O3からYOFへ！エッチング装置のエージング時間を大幅短縮、…

成膜する基板は、石英、アルミナ、金属アルミで行えることが確認されています。つばさ真空理研株式会社は、イオンアシスト蒸着法によるY2O3やY5O4F7といったドライエッチング装置部品の信頼性を大幅にアップさせる保護膜を成膜できる受託成膜サービス会社として半導体製造装置メーカー、半導体メーカーのお客様から信頼を得ています。...

メーカー・取り扱い企業： つばさ真空理研株式会社 横浜ラボラトリー

試作エッチング装置

様々な条件に対応！搬送方向に対するノズルの配列も千鳥状に並べているため…

フレームを無くした事により、 ノズル両端のオシレーションフレームに直接ノズル管を付け、ノズル交換等の メンテナンス性が向上しております。 【ライン構成】 ■投入 ■エッチング ■水洗4段 ■液切り ■受取 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社トーア電子

銅表面粗化処理装置　マイクロエッチング装置

板厚５０μｍのワークを安定して搬送可能、FPC搬送対応も可能です。

【特徴】 ○板厚５０μｍのワークを安定して搬送可能 ○高い面精度で均一な表面処理を実現 ○FPC搬送対応も可能 【仕様例】 ○装置寸法（L×W×H）　13625 × 4050 × 1350 mm ○基板サイズ（有効幅）　500mm ○処理液　各薬液メーカー対応 ○搬送速度　1～4m/min ●詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社二宮システム

ICPエッチング装置　RIE-800iPC/RIE-400iPC

真空カセット室を備え、プロセス再現性や安定性に優れた本格生産用装置をご…

『RIE-800iPC/RIE-400iPC』は、SiCトレンチ形状の25枚連続加工の安定性を 誇るICPエッチング装置です。 高RFパワー(2 kW以上)を効率よく安定して印加可能で、良好な均一性を実現。 また、反応...

メーカー・取り扱い企業： サムコ株式会社

scia Cube 300/450/750

基板バイアス機構！当社のマイクロウエーブPECVD/エッチング装置をご…

『scia Cube 300/450/750』は、300×300mm、450×450mm、 750×750mm基板対応のマイクロウエーブPECVD/エッチング装置です。 プロセスは、マイクロウエーブPECVD、反応性イオン...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ

半導体エッチング装置の世界市場レポート2024-2030

『無料サンプル』を入手可能！ 関連リンクから詳細をご覧になり、直接お申…

YH Research株式会社（本社：東京都中央区）は調査レポート「グローバル半導体エッチング装置のトップ会社の市場シェアおよびランキング 2024」を2月26日に発行しました。本レポートでは、半導体エッチング装置市場の製品定義、分類、用途、企業、産業チェーン構造に関する情報を提供します。また、半導体エッチング装置市場の開発方針と計画、製造プロ...

メーカー・取り扱い企業： YH Research株式会社

ドライエッチング装置・リアクティブイオンエッチング装置・コンパクトエッチャー・アッシング装置・クリーナー(クリーニング装置)

ドライエッチング装置・リアクティブイオンエッチング装置・コンパクトエッ…

● ワンタッチ操作のみで特別な操作が不要です。 ● 設置スペースが小さく場所を選びません。 ● 試料はφ4インチまで対応可能。 ● 専用機であるため低価格。 ...

メーカー・取り扱い企業： サムコ株式会社

ドライエッチング装置 RIE-10NR（平行平板型RIE装置）

数百台の実績を誇る汎用性に優れたドライエッチング装置。

RIE-10NRは、Si、Poly-Si、SiO2、Si3N4などの各種シリコン薄膜の高精度エッチングを目的としたリアクティブイオンエッチング装置です。本装置は、価格が低廉でありながら搭載されたPLCにより各種エッチング条件の管理を行うことができるコストパフォ...

メーカー・取り扱い企業： サムコ株式会社

エッチング(腐食)銘板の工程

表面クリアー加工や保護シート、両面テープ加工など様々な加工により仕上げ…

当社にて製作し、裏膜面にてフィルム出力などの 工程を行います。 ご用命の際は、お気軽にお問い合わせください。 【工程】 1.データ入稿 2.フィルム出力 3.焼付けおよび腐食 4.色入れ 5.仕上げ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社重森産業社

ウェーハボンディング装置の世界市場の調査レポート

『無料サンプル』を入手可能！ 関連リンクから詳細をご覧になり、直接お申…

2年まで、予測データは2023年から2029年までです。 ■レポートの詳細内容・無料サンプルお申込みはこちら https://www.yhresearch.co.jp/reports/30141/wafer-bonding-equipment グローバルウェーハボンディング装置の市場は2021年の 百万米ドルから2028年には 百万米ドルに成長し、2022年から2028年の間にCA...

メーカー・取り扱い企業： YH Research株式会社

半導体用誘電体エッチング装置の世界市場成長率2024-2030年

半導体用誘電体エッチング装置の世界市場：メーカー、地域、タイプ、アプリ…

グローバル市場調査レポート出版社であるQYResearchは「世界の半導体用誘電体エッチング装置の供給、需要、主要メーカー、2024 ～ 2030 年レポート」レポートには、世界市場、主要地域、主要国における半導体用誘電体エッチング装置の販売量と販売収益を調査しています。同時に、半導体用誘電体エッチング装置の世界主要メーカー（ブ...

メーカー・取り扱い企業： QY Research株式会社 QY Research

エッチングシステムの世界市場成長率2024-2030年

エッチングシステムの世界市場：メーカー、地域、タイプ、アプリケーション…

グローバル市場調査レポート出版社であるQYResearchは「世界のエッチングシステムの供給、需要、主要メーカー、2024 ～ 2030 年レポート」レポートには、世界市場、主要地域、主要国におけるエッチングシステムの販売量と販売収益を調査しています。同時に、エッチングシステムの世界主要メーカー（ブランド）、市場シェア...

メーカー・取り扱い企業： QY Research株式会社 QY Research

石英ナイトライドバス　　QNシリーズ

ご希望通りのプロセスコントロールをお約束でき、安全・確実・合理的で濃リ…

シールされた蓋の組合せ等により手動／自動運転時に正確なフローコントロールと安定した定量作動。 ◆コンスタントなボイリングポイント(酸濃度)、次工程への安定性と円滑な供給。 ◆Si3N4エッチ(ナイトライドエッチ)の最も有効、信頼性と安定性に富んだシステム。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ヒロテック 東京営業所

Oリング FKM-70 (4種D／フッ素ゴム)

Oリングの桜シールは、FKM-70（4種D／フッ素ゴム）ほか多様な材質…

フッ素ゴム（2元系）による材質で、耐熱性や耐薬品性、耐油性、耐候性などに優れています。JIS B2401:2012がFKM-70と定める以前は、4種D（旧JIS規格＝JIS B2401:2005）と呼ばれていました。桜シール株式会社は、JIS規格による一般的な規格サイズは元より、極小Oリングから大...

メーカー・取り扱い企業： 桜シール株式会社 日本本社

真空蒸着装置『MiniLab-080』

蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570…

80ℓ容積 400(W)x400(D)x570(H)mm D型ボックスチャンバーで構成されるML-080は、060と同等の構成で更にチャンバーを高くすることによりTS距離調整範囲が長く、大口径基板での蒸着時の膜均...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

□■□【MiniLab-060】フレキシブル薄膜実験装置□■□

蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み…

コンパクト/省スペース、ハイスペック薄膜実験装置 下記蒸着源から組合せが可能 ・抵抗加熱蒸着源 x 最大4 ・有機蒸着源 x 最大4 ・電子ビーム蒸着 ・2inchマグネトロンスパッタリングカソード x 4 ・プラズマエッチング：メインチャンバー、ロードロックチャンバーのいずれでも設置可能 ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

□■□【MiniLab-090】フレキシブル薄膜実験装置□■□

グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570m…

大気・水分に露出せずグローブボックス内の管理された環境内で一貫した処理ができます。GB, ガス精製機はGBモデルの仕様を参照下さい。 ・最大基板サイズ：Φ10inch ・抵抗加熱蒸着源 x 最大4源 ・有機蒸着源 x 最大4源 ・マグネトロンスパッタリングカソード x 4源 ・電子ビーム蒸着 ・基板加熱ステージ（標準500℃, Max1000℃） ・プラズマエッチング/<30Wソフ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

多元マルチスパッタ装置【MiniLab-S125A】

高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ（Φ4inch用）…

【主仕様】 ・基板サイズ：Max12inch対応 ・チャンバー：SUS304 UHV対応、500 x 500 x500mm ・到達真空度：5 x 10-5pascal ・スパッタカソード：Φ24;（最大6）、Φ34;（最大4） ・プラズマ電源：RF150W, 300W, ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

【MiniLab】 蒸着/スパッタ・デュアルチャンバーシステム

2台の薄膜実験装置をロードロック機構で連結。異なる成膜装置（スパッタ、…

・EB蒸着:7ccるつぼ x 6 ・抵抗加熱蒸着 x 2 ・有機蒸着限 x 2 *Chamber-2. MiniLab-S060A（スパッタリング装置） ・Φ24;マグネトロンカソード x 4源同時スパッタ DC, RF両対応 *Chamber-3. Load Lockチャンバー ・プラズマエッチングステージ ロードロック室で「RF/DC基板バイアスステージ」による基板表面のプ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

【潤滑剤・めっきを使用せずに焼付固着を防止】SDCクリーンボルト

独自の技術であるSDCプラズマ表面硬化処理により、潤滑剤・めっきを使用…

物なし 焼付き・かじりの問題解決！！ SDCプラズマ表面硬化処理を金属表面に施し、ボルトの焼付き・カジリを防止します。 ■材質　　 SUS316（L）、純チタン・チタン合金（6Al-4V） ■形状　　 六角穴付きボルト（キャップスクリュー）全ねじ 六角穴付きボルト（キャップスクリュー）半ねじ 六角ボルト　全ねじ 六角ボルト　半ねじ 六角ナット　１種形状 ■そ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ＳＤＣ田中

低振動・低騒音ペルチェチラー『ThermoRack401』

低振動・低騒音・優れた温度安定性でレーザー装置の温度制御に最適！消費電…

ThermoRack401は、高い信頼性がありレーザーアプリケーションに 最適です。 　冷却能力400WのThermoRack400は室温付近でさえも±0.05℃の温度精度を維持します。駆動部はわずか２か所なので...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

レーザー装置に最適！ペルチェチラー『ThermoRack401』

低振動・低騒音・優れた温度安定性でレーザー装置の温度制御に最適！ 消…

ThermoRack401は、高い信頼性がありレーザーアプリケーションに 最適です。 　冷却能力400WのThermoRack400は室温付近でさえも±0.05℃の温度精度を維持します。駆動部はわずか２か所なので...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

消費電力大幅削減！ペルチェチラー『ThermoRack401』

低振動・低騒音・優れた温度安定性でレーザー装置の温度制御に最適！消費電…

ThermoRack401は、高い信頼性がありレーザーアプリケーションに 最適です。 　冷却能力400WのThermoRack400は室温付近でさえも±0.05℃の温度精度を維持します。駆動部はわずか２か所なので...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社