油圧ホース加締機【油圧ホースが壊れても、10分で直せる！】

PR油圧ホースが壊れても、その場で10分で直せる加締機！予備ホースの在庫も…

『S2AC(100V)ホース専用加締機』は、油圧ホース／高圧ホースが壊れても、あっという間に修理・自作できる機械です。所要時間はたったの10分。予備ホースも減らせ、コスト約50%削減可能です（実績有り）。ホース製作方法など、丁寧にご案内いたします。お客様ごとにホース、金具を選定いたします。金具や継手も、1個から当日出荷いたします。 【特長】 ■軽量、コンパクト ■25-350Kまで加締可...

メーカー・取り扱い企業： プロフレックス株式会社

『液冷式冷凍』超高速凍結機 ZERO-03

PR『液冷式冷凍』常識を超える超高速凍結機　（従来の液冷タイプと比較し熱交…

ZER0-03超高速凍結機は超低温の液体に商品を漬け込む事により瞬間で凍結する液体凍結機になりますが、商品の熱を取り去る吸熱と排熱に新しい技術（特許技術）を導入する事により、従来の液冷タイプに比べて熱交換効率が4倍と飛躍的に高くなり、凍結ムラや解凍後の再現性、1時間当たりの生産性、運用コストなどが安くなりました。 1, 1時間当たりの生産量比較​では、ゼロカラ凍結機は他社同等機種と比べた場合、空冷...

メーカー・取り扱い企業： 双日マシナリー 株式会社 環境・生活産業システム本部

多機能スパッタリング装置 【MiniLab-S060】

コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

Φ2inchカソード x 4基搭載 同時成膜：3元同時成膜（RF500W or DC850W）+ HiPIMS（PulseDC 5KW） x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング RIEエッチングステージRF300W（メインチャンバー） + <30Wソフトエッチング（LLチャ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

小規模生産・開発用常圧CVD(APCVD)装置 (D501)

試作・開発・小ロット生産向け　NSG(SiO2)/BSG/PSG/BP…

D501は、少量生産/テストや不定形基板へのシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした、バッチ式(複数枚同時処理)の常圧CVD装置(APCVD装置)です。 【特徴】 　・異形状・サイズ基板の同時処理 　・高い成膜速度 　・シンプルメンテナンス 　・省フットプリント 　・低CoO(低ランニングコスト) 【用途】 　・層間絶縁膜(NSG/PSG/BPSG) 　・拡散/インプラ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行

定温度型ピラニゲージコントローラ　PG-30

熱伝導を圧力に変換して、真空計測を行えます。

帯域（1.0×10-1Pa）?（1.0×10　4Pa）の低真空を測定できる、ピラニ真空計です。...（特長） 　・（1.0×10-1Pa）?（1.0×10　4Pa）の測定範囲 　・故障に強い定温度型 　・小型なボディーで省スペース化が可能 （仕様） ・出力信号 ：a)制御出力　リレー接点出力容量 AC100Vmax、1Amax 　　 　 　 　 　b)アナログ出力　0?5V　F....

メーカー・取り扱い企業： 東京電子株式会社

高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX800V)

量産向け　NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用　高生産性　連続…

「AMAX」シリーズは、層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)・エピタキシャル(Epitaxial)ウェハ用バックシール等のシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした、連続式常圧CVD装置(APCVD装置)です。 【特徴】 　・最大100枚/hの高生産性 (対応ウェハサイズ: ～8インチ) 　・真空・プラズマ不要 (熱CVD) 　・SiCトレー採用による重金属汚染(メタルコンタミ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行

高性能枚葉式常圧CVD(APCVD)装置 (A200V)

少量・多品種向け　NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用　枚葉式…

A200Vは、層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)・犠牲膜等のシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした枚葉式常圧CVD装置(APCVD装置)です。 【特徴】 　・絶縁膜・拡散/インプラマスクの成膜に好適 　・枚葉式Face-down成膜による低パーティクル成膜 　・密閉式チャンバーによる高い安全性と成膜安定性 　・ウェハ反り矯正機能（特許取得済）によるSiCウェハ対応 　...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行

高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX1200)

量産向け　NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用　高生産性　連続…

「AMAX」シリーズは、層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)・エピタキシャル(Epitaxial)ウェハ用バックシール等のシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした、連続式常圧CVD装置(APCVD装置)です。 【特徴】 　・～56枚/hの高生産性 (対応ウェハサイズ: ～12インチ) 　・真空・プラズマ不要 (熱CVD) 　・SiCトレー採用による重金属汚染(メタルコンタミネ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行

ウエハースケール グラフェン合成装置【nanoCVD-WGP】

Φ3inch、Φ4inch ウエハーサイズ対応プラズマCVD 装置。不…

Φ3inch、Φ4inch ウエハーサイズ対応プラズマCVD 装置。不純物を抑制し清浄・高品質なグラフェンを高速合成。 熱CVD、低温～高温プラズマCVD いずれの方法でも利用可能。マスフローガス供給系統、基板加熱ヒーターなどご要望により構成をカスタマイズ致します。...【装置構成例】 ・基板：Cu, Ni, 他..（フィルム, フォイル） ・原料：CH4, C2H4, solids (P...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

太陽電池セル量産用連続式常圧CVD装置 (AMAX1000S)

結晶Si太陽電池セル量産用　NSG(SiO2)/PSG/BSG膜成膜用…

AMAX1000Sは、「AMAX」シリーズの実績をもとに、太陽電池(セル)製造用に開発された連続式常圧CVD装置(APCVD装置)です。 【特徴】 　・156mm角/125mm角ウェハ対応 　・1500枚/hの高生産性 　・太陽電池用薄型ウェハ対応 【用途】 　・拡散/インプラ用ハードマスク, 犠牲膜(NSG) 　・パッシベーション膜(保護膜・絶縁膜)(NSG) 　・固相拡散用...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行

常圧CVD装置「AMAX800V」

優れた膜厚・不純物濃度の均一性。高生産性と低価格を実現した常圧CVD装…

常圧CVD装置「AMAX800V」は、φ200mmウェーハ対応、モノシランガスの反応特性を応用したUSG、PSG、BPSG等の絶縁膜およびシリコン基板の裏面保護膜を形成する連続式常圧CVD装置です。 搬送機構の改良により高スループットを実現しました。 SiCトレーの採用により重金属汚染は発生しにくくなり、また熱による経年変化が少なく安定したプロセス性能が得られます。 【特徴】 ○高スル...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社天谷製作所

枚葉式常圧CVD装置『A200V』

装置サイズを可能な限りコンパクト化！安定した成膜処理と低パーティクルを…

『A200V』は、少量多品種から大量生産までカバーするφ150・φ200mm ウェーハ対応の枚葉式常圧CVD装置です。 フェイスダウン式成膜方法の採用により優れた膜厚均一性、パーティクル 制御、埋め込み性能を発揮し、SiH4をベースとしたシリコン酸化膜を成膜。 また、TEOS-O3、SiH4-O3もオプション対応が可能な装置です。 【特長】 ■フェイスダウンポジション ■...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社天谷製作所

ガラス基板成膜装置「低温成膜」「フレキシブル基板対応」

FPDなどリジット/フレキシブルデバイスに対応した4.5世代ガラス基板…

FPDなどリジット/フレキシブルデバイスに対応した4.5世代ガラス基板成膜装置です。 【特徴】 　・低温(150～300℃)成膜 　・4.5世代ガラス基板に250℃で100nmのSiO2膜をスループット 25枚/h以上の成膜 　・シンプルメンテナンス 　・低CoO(低ランニングコスト) 　・高品質なSiO2膜の形成: 低ストレス、プラズマダメージレス、小パーティクル 　・導入・維...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行

スーパータル　シングルウェハーリアクター

電子・半導体業界用！1枚のウェハー製造用ヒーターモジュール

従来のシリコンデバイス用途のみならず、シリコン系パワーデバイス(IGBT)の熱処理用途や化合物半導体(GaN、SiC)のアニール処理、エピ成長装置としてご検討下さい。 ...半導体ウェハー枚葉熱処理用ヒーターモジュール □■特徴■□ ■耐熱性に優れた断熱材と二珪化モリブデンヒーターの一体型モジュール ■小スペースに大容量の出力が可能 ■精密な温度制御が可能 ■タイプ：SWR...

メーカー・取り扱い企業： アレイマジャパン株式会社 カンタルカンパニー

スパッタリング装置 多機能スパッタ装置MiniLab-S060A

コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

Φ2inchカソード x 4基搭載 同時成膜：3元同時成膜（RF500W or DC850W）+ HiPIMS（PulseDC 5KW） x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング プラズマエッチングステージRF300W（メインチャンバー） + <30Wソフトエッチング（LLチ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

B-A真空計『ミニチュアイオンゲージ　IG-10（ICF70）』

センサー・回路部・ディスプレイが一体型のコンパクトな熱陰極電離真空計で…

【仕様】 ■表示：デジタル表示（仮数部3桁、指数部2桁） ■フィラメント材質：イットリアコートイリジウム ■デガス：4W ボンバード方式 ■ガス種設定：FIL　ON/OFF、デガス ON/OFF、エミッション切替 ■アナログ出力：0?9VDC（ログリニア）：1V/1桁 ■使用温湿度：0?40℃、?95％（結露な...

メーカー・取り扱い企業： 東京電子株式会社