エアベアリング ステージ

PRエアステージLBTシリーズ

エアステージLBTシリーズ Class1クリーンルーム対応 ストロークは50ｍｍ～500ｍｍ エンコーダは用途により1um～0.05umまで選択可能 真直度、平面度は0.5um/300mm ピッチング、ヨーイングは±2arc sec コイル、マグネット、エンコーダ無しの状態から全て組込み済み状態での納入も可能 半導体検査装置用途として海外での納入実績は豊富にあり国内では初めての紹...

メーカー・取り扱い企業： TOYO ROBOTICS株式会社

【カタログ進呈！】高性能オシロスコープ　PicoScope

PR先端デバイスの開発など、優れた信号解析性能が要求されるアプリケーション…

高性能オシロスコープPicoScope 6428E-Dは、 既存のPicoScope 6000Eシリーズの性能を拡張したもの。 高エネルギー物理学、LIDAR、VISAR、分光分析、加速器、 および他の高速信号解析に取り組む科学者や研究者にとって理想的なツールです。 【特徴】 ・周波数帯域 ３ GHｚ ・最高サンプリング速度 10 GS/s ・分解能可変8－12ビット ・メモリ４GS ・アナロ...

メーカー・取り扱い企業： Pico Technology Ltd.

ICPECVD『SI 500 D』

ICPパワーによるイオン密度の制御！低温成膜、低ダメージ、高コンフォマ…

『SI 500 D』は、ICPパワーによるイオン密度の制御のICPECVDです。 独自のPTSA200ICPソースによる10＾12[イオン/cm3]の高いプラズマ密度により 低温成膜、低ダメージ、高コン...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ

クラスターツール『3ICP＋2cassetteモジュール』

SI 500-1M、SI 500 PPD-1Mなど搭載可能！搬送チャン…

『3ICP＋2cassetteモジュール』は、さまざまなモジュールを 搭載可能なクラスターツールです。 ICPRIEモジュールの「SI 500-1M」をはじめ、RIEモジュールの 「SI 500 RIE-1M」や、PECVDモジュールの「SI 500 PPD-1M」、 ALDモジュール「SI ALD-1M」などを搭載可能 ご用...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ

多機能スパッタリング装置 【MiniLab-S060】

コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

Φ2inchカソード x 4基搭載 同時成膜：3元同時成膜（RF500W or DC850W）+ HiPIMS（PulseDC 5KW） x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統（Ar, O...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

立体物対応実験用プラズマCVD装置

対応可能膜種はDLC、アモルファスSiC等！基板加熱機構付き（最高設定…

す。ご用命の際はお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■立体物に成膜可能な実験用プラズマCVD装置 ■対応可能膜種：DLC、アモルファスSiC等 ■基板加熱機構付き（最高設定温度：500℃） ■PC操作（シーケンサー制御）で、全自動、データロギング ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社DINOVAC

半導体式マイクロ波電源　5.8GHｚ帯

半導体式マイクロ波電源　5.8GHｚ帯

ップサイズ等、使い易さを考えて新開発したマグネトロンを使用しない、半導体式マイクロ波電源及び加熱試験装置です。 GNUシリーズとして、周波数2.45GHz帯・5.8GH帯・10GHz帯、出力：〜500W、をラインアップいたしました。 各種電池材料の開発・化学合成・反応・低温焼成・乾燥・プラズマ処理等の実験に最適な装置です。 従来の電熱炉等の外部加熱による加熱より、短時間で実験が可能です。（...

メーカー・取り扱い企業： 富士電波工機株式会社 第1機器部

研究・試作に最適な小型プラズマCVD装置『VC-R400G』

独自のLIA方式プラズマ源を採用し、ガラス、金属などの平板基材に超高速…

■　対象基材：ガラス板、金属板などの平板 【仕様(一部)】 ・対象膜：DLC、SiN、SiOなど ・成膜方法：デポダウン、静止成膜(インライン成膜も対応可能) ・温調：ステージ温調＜500℃ ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社SCREENファインテックソリューションズ

研究・試作に最適な小型プラズマCVD装置『VC-R400F』

独自のLIA方式プラズマ源を採用し、樹脂フィルムや金属箔に超高速、高品…

材：樹脂フィルム（PET、PEN）、金属箔 【仕様(一部)】 ・対象膜：DLC、SiN、SiOなど ・成膜方法：デポダウン、静止成膜(インライン成膜も対応可能) ・温調：ステージ温調＜500℃ ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社SCREENファインテックソリューションズ

高電圧パルス放電用セラミックコンデンサ

高電圧パルス放電用セラミックコンデンサ

○静電容量： 500〜4000pF ○静電容量誤差： ±20%以内（高精度モデル有） ○許容温度範囲： -30℃〜+50℃ ○エネルギー散逸： 最大0.5% (@1kHz) ○絶縁試験： 下記DCテス...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社コムクラフト

大流量セラミックガスフィルター

流量500L/minから3,000L/minまでの一次側バルク・ガスラ…

【特徴】 ○濾過精度は0.003μmです。 ○使用可能流体はN2、O2、Ar（バルクガス）です。 ○推奨流量は500〜3,000L/min（60〜180m3/Hr）です。 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ピー・ジェイ

高周波RF電源・高効率パルスRF電源

高効率高周波電源【ローコスト・省電力・コンパクト設計】600W以上の耐…

【マッチングボックス内蔵高周波電源】 独自の構造により、高周波電源の内部に整合器を内蔵した高周波電源を開発しました。 従来の製品と比較し出力を500W→750Wにアップさせましたが、サイズはフルラックサイズから ハーフラックサイズに収まるサイズにし、徹底したコンパクト化を図りました。 ＝特長＝ ■ローコスト ■省電力 ■コンパク...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ノダRFテクノロジーズ 営業本部

ウエハースケール グラフェン合成装置【nanoCVD-WGP】

Φ3inch、Φ4inch ウエハーサイズ対応プラズマCVD 装置。不…

CH4, C2H4, solids (PMMA), etc.. ・プロセスガス：H2, Ar, N2, etc.. ・基板サイズ：Φ4inch ・150W, 13.56MHz RF電源 ・500℃～Max1100℃基板加熱 ・高精度プロセスガス圧力APC制御 ・マスフローコントローラー最大4ch ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

液体ソースプラズマCVD装置

小型でスペース効率の優れた装置！基板はφ4インチ対応で、加熱機構・T/…

チ ■電極構造：平行平板（デポタウン） ■プラズマ電極 　・外径φ150、シャワー式ガス噴射 　・自動整合器マウント ■基板電極 　・外径φ150 　・ヒーター内蔵式、基板加熱Max500℃ ■成膜チャンバー：φ300 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： ケニックス株式会社

枚葉式常圧CVD装置『A200V』

装置サイズを可能な限りコンパクト化！安定した成膜処理と低パーティクルを…

■膜厚均一性：≦±2％(面内、面間) ■温度：300℃～450℃(オゾンプロセスでは150℃～350℃) ■対応ウェーハサイズ：8インチまで可能 ■スループット(参考値)：14枚/hour(500nm成膜時) ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社天谷製作所

酸化シリコン成膜CVD装置

3インチウェハ対応！コンパクトな設計となっており省スペース化を実現しま…

【仕様】 ■真空排気：ターボポンプ ■ヒーター：SiC　MAX1200℃ ■水冷：外周蛇管　上フランジジャケット ■外寸：φ360 x 500H ■内面処理：電解研磨 ■ガスケット：金メッキ銅ガスケット ■チャンバー材質：SUS316 ■ガス吐出基板長間可変：0mm ～ 50mm ※詳しくは外部リンクページをご覧いただくか...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社和泉テック

MOCVD排気濾過用フィルター　（AIXTRON装置用）中国産

MOCVD、フィルター、AIXTRON、LED、中国産、高温真空粉塵濾…

主流ドイツのAIXTRON社のMOCVDの各型番の装置の排気フィルターは全部対応可能です。日本国内にも多数LEDメーカ―とパワーディバイスメーカーに2年以上の採用実績があります。品質面、価格面も高い評価を頂いております。...ドイツのAIXTRON社のMOCVD装置用の排気フィルターシリーズ製品はアメリカ産の高級耐高温ガラス繊維制濾過材（濾過布）と中国産ＳＵＳ３０４を構成した製品。 ガラス繊維制...

メーカー・取り扱い企業： 愛鋭精密科技（大連）有限公司（AIRY TECHNOLOGY CO., LTD.) 中国大連本社

トランスファーロッド（Ｚ-φ軸　KTXシリーズ）

【 4000台販売突破キャンペーン実施中 】 弊社トランスファーロッ…

真空中の試料や機器等に、大気側から直線運動と回転運動を伝達する導入機です。 本製品は、長い距離（500mm～1000mm）での試料等の搬送を行う際におすすめです。 マグネット方式の為、外部との真空封止は完全で、半永久的に安定した動作を得られます。 真空中に取り付けられた直線運動及び回転運度を要...

メーカー・取り扱い企業： 北野精機株式会社

スパッタリング装置 多機能スパッタ装置MiniLab-S060A

コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

Φ2inchカソード x 4基搭載 同時成膜：3元同時成膜（RF500W or DC850W）+ HiPIMS（PulseDC 5KW） x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統（Ar, O...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

【大阪　切削量産】マシニング加工

大阪　切削量産　旋盤加工・マシニング加工【コストダウンはフィリール株式…

♦材質 SUS304　(ステンレス) ♦業界 半導体製造装置 液晶製造装置 ♦加工方法 マシニング加工 ♦表面処理 　－　(日本国内) ♦個数 500個 ♦説明 半導体製造装置のステンレス精密部品となります。 マシニング加工での製作です。 ※是非一度お見積りのご依頼をいただき、御社のご要望にお応えします。 まずはホームページを...

メーカー・取り扱い企業： フィリール株式会社 本社

【大阪　アルミ加工　旋盤　マシニング】

アルミ加工　アルマイト処理　大阪【コストダウンはフィリール株式会社にお…

♦材質 A5052　(アルミ) ♦業界 半導体製造装置 液晶製造装置 ♦加工方法 マシニング加工 旋盤加工 ♦表面処理 　－　(日本国内) ♦個数 500個 ♦説明 半導体製造装置のアルミ精密部品となります。 旋盤加工での製作です。 ※是非一度お見積りのご依頼をいただき、御社のご要望にお応えします。 まずはホームページをご覧の上お...

メーカー・取り扱い企業： フィリール株式会社 本社

【大阪半導体製造装置の精密部品】フィリール株式会社

半導体製造装置の旋盤加工品　A5052　丸【コストダウンはフィリール株…

♦材質 A5052　(アルミ) ♦業界 半導体製造装置 液晶製造装置 ♦加工方法 複合旋盤 ♦表面処理 処理　(日本国内) ♦個数 100～500個 ♦説明 複合旋盤でのワンチャッキングでの加工方法です。 ※是非一度お見積りのご依頼をいただき、御社のご要望にお応えします。 まずはホームページをご覧の上お気軽にご相談をお待ちし...

メーカー・取り扱い企業： フィリール株式会社 本社