フレキシブル半導体製造装置『SHUTTLELINEシリーズ』

PR薄膜堆積用PECVD・ドライエッチング・故障解析用プロセス対応。多機能…

『SHUTTLELINE(R)シリーズ』は、RIE/ICP-RIE、PECVD/ICP-CVDに対応し コンパクトながら高性能かつ多機能な半導体製造装置です。 成膜とエッチングプロセスを一台で実現し、様々なウエハサイズと形状に対応可能。 シャトルシステムにより、異なるサンプルサイズでもハードウェアの変更が不要です。 世界で広く採用されており、Plasma-Therm LLCの グ...

メーカー・取り扱い企業： プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

Enovasense Field Sensor

PR高速な不透明膜の厚みマッピング、内部欠陥のエリア検出が可能なレーザーフ…

フランスのEnovasense社のセンサは、レーザフォトサーマル技術を使用した 高性能なセンサで、非接触で不透明体の厚みを測定できます。 本新製品は、従来のシングルポイントセンサと異なり、約１１万点を同時に測定できるエリアセンサです。 不透明体の厚みマッピングだけでなく、表面層下の欠陥、欠け、剥がれの有無を検知できます。 ■特長 　・非接触で下記が測定できます。 　　　☆不透明体の厚みマッピング...

メーカー・取り扱い企業： プレシテック・ジャパン株式会社

ロータリーキルン式連続CVD装置

粉体の連続熱／CVD処理、連続CNT合成などに

反応管の傾斜と回転機構により、粉末試料の連続フィード／回収機構を有する連続CVD処理装置です。　粉末試料表面へのカーボコート、熱処理、CVD処理、ドープ処理などの大量生産が可能。 大面積の配向CNT基板や、多収量の粉末タイプCNTの大量生成に適します。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社マイクロフェーズ

管状炉CVD装置

長尺粉体CNTの生成、基板への垂直配向CNTの成長、粉体試料表面へのカ…

オプションで、アンモニアガスや、その他のCVDガスの導入ユニット、CVD反応用の固体や液体前駆体の導入ユニットを追加することにより、窒化処理、カルコゲナイド層状物質の成膜も可能です。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社マイクロフェーズ

回転CVD炉

リチウムイオン電池用Si系や黒鉛系負極材表面への均一なCVDカーボンコ…

炉心管を回転させ、粉体試料を攪拌させながら、CVDプロセスを可能にした装置。攪拌作用により、均一なCVD処理が可能になる。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社マイクロフェーズ

ホットフィラメントCVD成膜装置 MPHF

ホットフィラメント（ホットワイヤー）を搭載したコンパクトな卓上型CVD…

試料近くに設けたWフィラメントを最大2000℃に加熱でき、各種反応ガスの分解を促進します。 ガス分解により生成された活性種（ラジカル）が試料表面に堆積して膜を形成します。...【特徴】 ○メタンなどの炭化水素ガスの高温フィラメント分解により、 導電性と耐食性が両立するダイヤモンドライクカーボン（DLC）膜が作製可能。 ○窒素前駆体をフィラメント加熱機構により加熱分解させることによって、アンモニ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社マイクロフェーズ

卓上CNT／グラフェン成膜装置

長尺粉体CNTや垂直配向CNTやグラフェン膜を簡単に合成できる卓上型C…

有機液体原料はもちろん、アセチレンガスや メタンガスなどの炭化水素原料ガスと、H2還元ガスの導入ポートも標準装備し、各種CNTの合成を簡単に実現できます。また、基板ヒーターの急冷が可能で、グラフェン膜も簡単に成膜できます。...【特徴】 ○触媒前駆体のフィラメント加熱機構を追加 ○配向CNTだけでなく、 粉末タイプCNTの大量合成も可能 〇基板や粉体表面へのグラフェンの成膜が可能 ●そ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社マイクロフェーズ