切断面もキレイに！【CNCプラズマパイプ自動切断機とは】

PRワンタッチ起動でプラズマ切断可能！枝管切断・母管穴切断など様々な切断仕…

当社では、パイプを装着後にタッチパネルで切断諸元パラメータを設定すると、 ワンタッチ起動でプラズマ切断が行える『CNCプラズマ自動切断機』を 提供しております。 手作業（型紙墨入れ+実切断時間）に比べ、1/60以下に作業を短縮。 さらに、仕上がりも綺麗です。 【切断技術】 ■枝管切断 　・直角切断 　・斜め切断 　・斜め平面切断 ■母管穴切断 ※詳しくはPDFをダ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エトロンシステム

人工衛星推進用スラスターバルブ・パイロットバルブ・比例制御弁

PR2～20N級の人工衛星推進系用スラスターバルブや パイロットバルブ、…

高砂電気工業は、主に医用診断、環境測定などの分析装置分野にバルブ・ポンプを提供して参りました。 Customization（個別設計）、Miniaturization（小型化）、Integration（統合化）を強みとして、10,000種を超える流体制御機器を開発し、少量多品種生産にノウハウを蓄積してきました。 特に医療分野で培った品質管理の経験を活かし、航空宇宙分野においても高品質・高水準な製品...

メーカー・取り扱い企業： 高砂電気工業株式会社

【nanoCVD-8G/8N】グラフェン/CNT合成装置

◉ 大型製造装置設備を使わず、短時間で容易にグラフェン・CNT（SWN…

属（オプション：TMP, Diffusion or Dry Pump） ・ガス供給3系統（標準） ・試料加熱ステージMax1100℃ ・Kタイプ熱電対 ◆Model. nanoCVD-8N（CNT用）◆ ・CNT生成用，常圧プロセス制御 他同上 ※ H2, Ar, N2, Ethanol, CH4等の原料、及び原料供給設備は付属しません。...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

耐熱衝撃性に優れたバランスの良い『窒化珪素(Si₃N₄)』

耐熱性があり、かつ耐熱衝撃性にも優れている『窒化珪素』は、機械的強度も…

曲げ強度などの機械的な特性に優れ、熱的にも急熱・急冷に強く、ワレ・カケ・折れにくいことが特徴です。 高温で使用できるため、溶接治具などに使用すると、他のセラミックの使用に比べて長寿命化が期待できます。 ＜特徴＞ ・耐熱衝撃性に優れた材料で、高温まで強度が低下しない。 ・熱膨張率が低く、耐熱衝撃性が極めて高い。 ・機械的強度、靭性、耐摩耗性、耐食性に優れている。 ※詳しくはカ...

メーカー・取り扱い企業： 有限会社清水商会

小規模生産・開発用常圧CVD(APCVD)装置 (D501)

試作・開発・小ロット生産向け　NSG(SiO2)/BSG/PSG/BP…

す。 【特徴】 　・異形状・サイズ基板の同時処理 　・高い成膜速度 　・シンプルメンテナンス 　・省フットプリント 　・低CoO(低ランニングコスト) 【用途】 　・層間絶縁膜(NSG/PSG/BPSG) 　・拡散/インプラ用ハードマスク, 犠牲膜(NSG) 　・パッシベーション膜(保護膜・絶縁膜)(NSG) 　・太陽電池(セル)向け固相拡散用ソース膜(BSG,PSG)...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行

高効率高周波電源

高効率高周波電源【NR3N-13】【NR3N-13】

NRFが新しく開発した高効率高周波電源【NR3N-13】【NR3N-13】は、従来製の高効率RF電源と比較し、独自の高信頼性パワーアンプにより、飛躍的に耐久性をUPさせました。 高効率アンプの弱点は、構造上、反射電力に弱いことでしたが、、NRFの高効率RF電源は、出力3kWに対して、実に600W以上の耐反射能力を持ち、短絡・開放の急激な負荷変動に耐えます。 また、各種保護回路を設けてお...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ノダRFテクノロジーズ 営業本部

高性能枚葉式常圧CVD(APCVD)装置 (A200V)

少量・多品種向け　NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用　枚葉式…

Cウェハ対応 　・低負荷・長周期メンテナンス 　・コンパクト筐体とミラータイプとの隣接設置による省スペース対応 　・低CoO(低ランニングコスト) 【用途】 　・パワー半導体用層間絶縁膜(NSG/PSG/BPSG) 　・拡散/インプラ用ハードマスク, 犠牲膜(NSG) 　・パッシベーション膜(保護膜・絶縁膜)(NSG) 　・光導波路(NSG/BPSG) ※詳しくはお問い合わ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行

高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX800V)

量産向け　NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用　高生産性　連続…

ー採用による重金属汚染(メタルコンタミネーション)対策 　・シンプルメンテナンス 　・低CoO(低ランニングコスト) 【用途】 　・エピタキシャル(Epitaxial)ウェハ用バックシール(NSG) 　・パワー半導体用層間絶縁膜(NGS/PSG/BPSG) 　・拡散/インプラ用ハードマスク, 犠牲膜(NSG) 　・パッシベーション膜(保護膜・絶縁膜)(NSG) ※詳しくはお問...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行

高電圧パルス放電用セラミックコンデンサ

高電圧パルス放電用セラミックコンデンサ

℃〜+50℃ ○エネルギー散逸： 最大0.5% (@1kHz) ○絶縁試験： 下記DCテスト電圧にて10秒間 ○絶縁抵抗： 20,000MΩ(最小値：@100VDC) ○温度係数： N5500(±1000ppm/℃) ○端子強度： 最大トルク・・20[inch・lbs] ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社コムクラフト

高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX1200)

量産向け　NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用　高生産性　連続…

ー採用による重金属汚染(メタルコンタミネーション)対策 　・シンプルメンテナンス 　・低CoO(低ランニングコスト) 【用途】 　・エピタキシャル(Epitaxial)ウェハ用バックシール(NSG) 　・パッシベーション膜(保護膜・絶縁膜)(NSG) ※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行

太陽電池セル量産用連続式常圧CVD装置 (AMAX1000S)

結晶Si太陽電池セル量産用　NSG(SiO2)/PSG/BSG膜成膜用…

D装置)です。 【特徴】 　・156mm角/125mm角ウェハ対応 　・1500枚/hの高生産性 　・太陽電池用薄型ウェハ対応 【用途】 　・拡散/インプラ用ハードマスク, 犠牲膜(NSG) 　・パッシベーション膜(保護膜・絶縁膜)(NSG) 　・固相拡散用ソース膜(BSG,PSG)/キャップ膜(NSG) ※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行

多機能スパッタリング装置 【MiniLab-S060】

コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

or DC850W）+ HiPIMS（PulseDC 5KW） x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング RIEエッチングステージRF300W（メインチャンバー） + <30Wソフトエッチング（LLチャンバー） 基板加熱：Max500℃, 800℃, 又は1000℃（C/C...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

ウエハースケール グラフェン合成装置【nanoCVD-WGP】

Φ3inch、Φ4inch ウエハーサイズ対応プラズマCVD 装置。不…

【装置構成例】 ・基板：Cu, Ni, 他..（フィルム, フォイル） ・原料：CH4, C2H4, solids (PMMA), etc.. ・プロセスガス：H2, Ar, N2, etc.. ・基板サイズ：Φ4inch ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

ポーラスシリコン形成装置（陽極酸化装置）

従来の陽極酸化装置をさらに応用したポーラスシリコン形成装置。使用薬液・…

【特長】 ■多孔質シリコンを全自動にて形成します。 ■裏面保護用治具を使用しない為カセットto カセットを可能にしました。 ■N型、P型両方に対応出来ます。 ■2～6インチまで各種サイズ対応いたします。8インチ以上はご相談ください。 ナノシリコン技術としてバイオメディカル・二次電池・太陽電池・半導体プロセス分野の新用...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ダルトン

排気配管内Ｎ２ヒーター（コントローラ内蔵型）

配管形状を選ばず、粉体の析出を抑制し配管内の閉塞を局所集中により防止し…

半導体・液晶製造装置の排気ラインは大量のパウダーにより常に汚染や閉塞の危険が伴います。当製品は既設の希釈用Ｎ２ガスを利用してこれらの諸問題を簡単且つ低コストで防止、解消します。また、クライオポンプのオーバーホールサイクルの向上、延命の他、ロードロック室のパージにも優れた効果を発揮します。...ＣＶＤ装置や、ドライエッチング装置の真空ポンプやそこから除害装置間では常にデポ物堆積や、真空ポンプ故障、バ...

メーカー・取り扱い企業： エヴァンリード株式会社

プラズマCVD装置

プラズマCVD装置

PD-220LCは、各種シリコン系薄膜（Si3N4、SiO2等）を形成するための量産型プラズマCVD装置です。トレーカセット方式、真空カセット室を採用し、φ4インチウエハー月間3000枚の高スループットを実現しています。本装置では、化合物半導体プ...

メーカー・取り扱い企業： サムコ株式会社

プラズマCVD装置

プラズマCVD装置

PD-220NLは、納入実績の豊富なプラズマCVD装置『PD-220シリーズ』での経験をもとに開発したロードロック式装置です。本装置は、コンパクトな設計でありながら基板有効径がφ220mmあります。各種シリコン系...

メーカー・取り扱い企業： サムコ株式会社

大流量セラミックガスフィルター

流量500L/minから3,000L/minまでの一次側バルク・ガスラ…

【特徴】 ○濾過精度は0.003μmです。 ○使用可能流体はN2、O2、Ar（バルクガス）です。 ○推奨流量は500〜3,000L/min（60〜180m3/Hr）です。 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ピー・ジェイ

スパッタリング装置 多機能スパッタ装置MiniLab-S060A

コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

or DC850W）+ HiPIMS（PulseDC 5KW） x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング プラズマエッチングステージRF300W（メインチャンバー） + <30Wソフトエッチング（LLチャンバー） 基板加熱：Max500℃, 800℃, 又は1000℃（C/...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社