SIO2 | イプロスものづくり

PRご要望のプリカーサによる各種サンプルへの成膜をお手伝い。ライブデモ、パ…

ワッティーでは、ALD装置を使用した『受託成膜サービス』を行っております。 Al2O3、TiO2、ZrO2、HfO2、RuO2、SiO2、TiN等、各種酸化膜・窒化膜の成膜が可能。成膜可能サイズは小チップからパイプ、フィルム等、300mmの大きさまで対応可能です。ご要望のプリカーサによる各種サンプルへの成膜のお手伝い、お客様立会いによるライブデモや、ご希望のレシピ、パラメータ...

メーカー・取り扱い企業：ワッティー株式会社

簡単大気圧でSiO2コーティング！プラズマコートUL-Colat

弊社にてデモ可能！市場初投入の新技術。大気圧プラズマでＣＶＤ。 …

今まで減圧下で行っていたプラズマCVDによるＳｉＯ２製膜を大気圧下で行えます。厚みは処理条件によりコントロール可能。（速度、液量、距離など）今までの大型CVD装置では対応しきれない少量生産や、細かな条件変更を可能にし、製膜コストを安く抑える事が可能です。操作はタッチパネルでの簡単操作。条件設定を記憶させる事で次回以降も同じ条件で製膜をする事が可能です。プラズマ処理装置を用い...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ケー・ブラッシュ商会本社

内外径複合研削盤　MCG-500SIO

内外径を同時加工可能なセンタレスグラインダ

センタレス研削盤をベースに外周面、内周面の同時研削を実現することで、精度の向上、工程の短縮、加工コストの低減、機械設備の低減そして省スペース化を実現する複合研削盤です。...【内外径同時研削加工】・外周面研削工程中に内周面研削工程が完結する圧倒的パフォーマンス！・高精度に仕上げられた外周面を回転基準とした理想の内周面加工で得られる高い同心度！【ワークのセンタレス支持方式】・1 回の...

メーカー・取り扱い企業：ミクロン精密株式会社

SiO2厚膜形成用プラズマCVD装置

厚膜形成用プラズマCVD装置。高速かつ低ストレス（特許出願中）

● 独自のセルフバイアス法の採用により高速（3000〜5000Å/min）かつ低ストレスの成膜が可能。（特許出願中） ● 室温〜350℃程度の低温成膜が可能。また、プラスチック上への成膜が可能。 ● 反応室に独自の工夫を施しているためパーティクルの発生を抑制。 ● 液体ソースのTEOSを用いるLS-CVD法によりステップカバレージと埋め込み効果に優れた成膜が可能。 ...

メーカー・取り扱い企業：サムコ株式会社

流体せん断装置『SIO』※資料進呈＆ロボドリル用キット無料貸出中

水の水素結合を壊して加工液の浸透・冷却・潤滑性UP。「FANUC ロボ…

『SIO』は、特殊な内部構造で水を分子レベルで細分化し、加工液の浸透・冷却・潤滑性を改良できる装置です。砥石や工具、ワークにまとわりつくような加工液により、加工効率を高めることが可能です。現在、水分子と水素結合について解説した資料を進呈中。本製品がなぜ加工効率アップに貢献できるのかを紹介しています。【SIOの特長】 ■水の水素結合を壊して加工液を活性化し、せん...

メーカー・取り扱い企業：株式会社塩業務基地

鉱物『タルク（3MgO4SiO2H2O）』

粒子表面の大部分が親油性であり、扁平粒子！様々な分野で使用されている鉱…

『タルク』は、滑石と呼ばれる天然鉱物の中で柔らかい扁平結晶構造の鉱物です。特に粒子表面の大部分が親油性であり、扁平粒子であることが大きな特長で様々な分野で使用されています。良質のタルク原料は、中国、豪州、米国等で産出され、さらに産地を限定した原料を輸入して粉砕、分級加工して製品化します。【ラインアップ（一部）】 ■PS-IC ■PS ■雪 ■CS ■S-1...

メーカー・取り扱い企業：ソブエクレー株式会社

高性能枚葉式常圧CVD(APCVD)装置 (A200V)

少量・多品種向け　NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用　枚葉式…

A200Vは、層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)・犠牲膜等のシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした枚葉式常圧CVD装置(APCVD装置)です。【特徴】　・絶縁膜・拡散/インプラマスクの成膜に好適　・枚葉式Face-down成膜による低パーティクル成膜　・密閉式チャンバーによる高い安全性と成膜安定性　・ウェハ反り矯正機能（特許取得済）によるSiCウェハ対応　...

メーカー・取り扱い企業：株式会社渡辺商行

高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX800V)

量産向け　NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用　高生産性　連続…

「AMAX」シリーズは、層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)・エピタキシャル(Epitaxial)ウェハ用バックシール等のシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした、連続式常圧CVD装置(APCVD装置)です。【特徴】　・最大100枚/hの高生産性 (対応ウェハサイズ: ～8インチ) 　・真空・プラズマ不要 (熱CVD) 　・SiCトレー採用による重金属汚染(メタルコンタミ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社渡辺商行

小規模生産・開発用常圧CVD(APCVD)装置 (D501)

試作・開発・小ロット生産向け　NSG(SiO2)/BSG/PSG/BP…

D501は、少量生産/テストや不定形基板へのシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした、バッチ式(複数枚同時処理)の常圧CVD装置(APCVD装置)です。【特徴】　・異形状・サイズ基板の同時処理　・高い成膜速度　・シンプルメンテナンス　・省フットプリント　・低CoO(低ランニングコスト) 【用途】　・層間絶縁膜(NSG/PSG/BPSG) 　・拡散/インプラ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社渡辺商行

高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX1200)

量産向け　NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用　高生産性　連続…

「AMAX」シリーズは、層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)・エピタキシャル(Epitaxial)ウェハ用バックシール等のシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした、連続式常圧CVD装置(APCVD装置)です。【特徴】　・～56枚/hの高生産性 (対応ウェハサイズ: ～12インチ) 　・真空・プラズマ不要 (熱CVD) 　・SiCトレー採用による重金属汚染(メタルコンタミネ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社渡辺商行

ガラス基板成膜装置「低温成膜」「フレキシブル基板対応」

FPDなどリジット/フレキシブルデバイスに対応した4.5世代ガラス基板…

FPDなどリジット/フレキシブルデバイスに対応した4.5世代ガラス基板成膜装置です。【特徴】　・低温(150～300℃)成膜　・4.5世代ガラス基板に250℃で100nmのSiO2膜をスループット 25枚/h以上の成膜　・シンプルメンテナンス　・低CoO(低ランニングコスト) 　・高品質なSiO2膜の形成: 低ストレス、プラズマダメージレス、小パーティクル　・導入・維...

メーカー・取り扱い企業：株式会社渡辺商行

材料別特性詳細

セラミックス材料を好適なレシピで配合！求められる仕様や機能を備えた製品…

千葉セラミック工業株式会社のホームページでは、「材料別特性詳細」を掲載しております。当社はアルミナやジルコニアなど、用途に合わせて好適材料をご提案。電気絶縁体、医療用部品、構造材料など、用途に合わせて、セラミックス材料を好適なレシピで配合、求められる仕様や機能を備えた製品を製造します。ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。【掲載素材】 ■アルミナ系(Al2...

メーカー・取り扱い企業：千葉セラミック工業株式会社愛生工場

2サイズ兼用自動レジストコーター・デベロッパー（塗布・現像）

段取り替え不要、2サイズのウエハ兼用装置です。低粘度～高粘度レジス…

当製品は、スピンコーティング、HMDS処理、ベーク、クーリング機能を搭載。設計から製造・販売まで自社で行っているので、低価格を実現しました！ポジ・ネガレジスト、ポリイミド、SOG、WAX、シリコーンなど、多彩な薬液に実績があります。 Si（シリコン）、GaAs、InP、GaN、SiC、サファイア、セラミック、SiO2（ガラス）など多数の基板搬送実績もあります。 GaAs...

メーカー・取り扱い企業：株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

マグネトロンスパッタ装置『scia Magna 200』

最大200mm径基板！ダブルリングマグネトロン(Fraunhofer …

『scia Magna 200』は、回転式単体マグネトロンのマグネトロンスパッタ装置です。アプリケーションは、TC-SAW向け温度補償膜(SiO2)、AlN等圧電膜、光学用高・低屈折膜、絶縁膜(Si3N4, SiO2, Al2O3)です。また、プロセスはマグネトロンスパッタとなっております。ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。【特長】 ■最大200mm...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ハイテック・システムズ

PVD装置

ダブルリングマグネトロンDRM400を搭載したPVD装置

独scia Systems GmbH（スキアシステムズ社）は、独Roth&Rau AG, MicroSystems GmbHのイオンビームトリミング（トリミング加工、IBF）装置IonScan装置のソフトウエア、ハードウエハを開発した主要なスタッフにて設立されました。スキアシステムズ社はユニークで且つ独自の最先端のイオンビームやプラズマ技術を開発し、研究開発装置から量産向け装置を取り扱っております...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ハイテック・システムズ

ThetaMetrisis社　非接触ポータブル膜厚計

膜厚の測定に好適。多層膜厚み同時測定も可能な非接触ポータブル膜厚計

非接触ポータブル膜厚計は、PC（USBポート）から電源供給。研究現場や製造現場に持ち込み、瞬時に測定できます。研究室のみならず、現場でも使いやすいThetaMetrisis社の非接触型の膜厚計です。【特長】 ○多層膜厚み同時測定も可能！ →例：PMMA/poly-Si/Si3N4/SiO2 10層までの膜厚を測定できます。 ○リアルタイムモニタリングなど未乾燥の塗膜、硬化収...

メーカー・取り扱い企業：オーテックス株式会社