• 半導体レーザ・光デバイス用3Dシミュレーター PICS3D 製品画像

    半導体レーザ・光デバイス用3Dシミュレーター PICS3D

    PR新たにクロスライト社のFDFDが加わり、FDTDより計算がかなり速く高…

    <主な特徴> ■共振器方向の効果が重要なデバイスの設計・解析に適しています ■モード結合理論と多層膜光学理論によりDFB,DBR,VCSELのような回折格子を 含むレーザダイオードが計算可能 <多様な物理モデルや機能> ■ウェーブガイド・グレーティングの結合係数(1次、2次のグレーティング) ■縦方向のキャリア密度分布、主・副縦モードについての光学利得と光強度 ■2次グレーテ...

    メーカー・取り扱い企業: クロスライトソフトウェアインク日本支社

  • セラミック系重防食ライニング『Si-8000』 製品画像

    セラミック系重防食ライニング『Si-8000』

    PR塩酸、硫酸、硝酸、腐食性薬品に耐性があります!金属各種、プラスチックや…

    『Si-8000』は、耐熱複合材の宇宙技術開発から生まれた、画期的な 機能を有するセラミックコーティングです。 SiO2シリカガラスを厚膜化、ヒビや割れに強い、常温~250℃での 低温施工、幅広い基材形状に施工可能、GL機器の代替、補修も可能。 硬いけれども割れず、塩酸や硫酸なども問題なく使用可能な 耐薬品性といった特長が備わっております。 被膜には酸・アルカリ・溶剤等に対...

    メーカー・取り扱い企業: サーフ工業株式会社

  • CZウェーハ 成膜加工 製品画像

    CZウェーハ 成膜加工

    2インチから12インチウェーハへの成膜が可能です。

    株式会社エナテックのCZウェーハ 成膜加工は、膜種により2インチから450mmウェーハへの成膜が可能です。 酸化膜系:熱酸化、RTO、LP-TEOS、HDP-USG、P-TEOS、PSG、BPSG、BSG、LP-CVD、PE-CVD 窒化膜系: HCD-SiN、DCS-SiN、P-SiN、LP-SiN 、LP-CVD、PE-CVD 金属膜系: TaN、Ta、Cu、Al、AlN、...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社エナテック 東京本社

  • 太陽電池セル量産用連続式常圧CVD装置 (AMAX1000S) 製品画像

    太陽電池セル量産用連続式常圧CVD装置 (AMAX1000S)

    結晶Si太陽電池セル量産用 NSG(SiO2)/PSG/BSG膜成膜用…

    AMAX1000Sは、「AMAX」シリーズの実績をもとに、太陽電池(セル)製造用に開発された連続式常圧CVD装置(APCVD装置)です。 【特徴】  ・156mm角/125mm角ウェハ対応  ・1500枚/hの高生産性  ・太陽電池用薄型ウェハ対応 【用途】  ・拡散/インプラ用ハードマスク, 犠牲膜(NSG)  ・パッシベーション膜(保護膜・絶縁膜)(NSG)  ・固相拡散用...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社渡辺商行

  • 真空蒸着加工 製品画像

    真空蒸着加工

    真空蒸着は高真空中で金属や酸化物を加熱蒸発させて基盤表面にデポジション…

    当社は昭和30年代から真空蒸着の技術確立を実施しております。 代表的な蒸着金属はアルミニウムで、ガラス基板やプラスチック成型品の表面にデポジションを行い更にその上に電子ビーム蒸着にてSiO2やTiO2等の酸化膜をコートしてリフレクター等の高反射ミラーとして利用されています。...この技術は日本においても以前から実用化されていましたが、近年21世紀のキーテクノロジーとして新たに薄膜作成技術として注...

    メーカー・取り扱い企業: 安達新産業株式会社 本社

  • 酸化触媒(白金触媒):NAハニカム 製品画像

    酸化触媒(白金触媒):NAハニカム

    白金触媒によって、脱臭・脱煙・空気を浄化するセラミックハニカムフィルタ…

    白金は、自動車の排ガス浄化にも用いられている触媒で、  ・ 高い活性を有する(反応を、より促進する)  ・ 耐久性に優れる といった特長をもちます。 当社の酸化触媒・NAハニカムは、 セラミックハニカムに白金触媒を添着したフィルタで、 ハニカム構造体・担持体を用いることで 白金触媒による浄化処理を 低圧損・高効率で実現します。 ...【基本仕様】  寸法  : □100mm ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社長峰製作所 営業部

  • MEMS受託加工サービスとミニマルファブについて 製品画像

    MEMS受託加工サービスとミニマルファブについて

    WF加工、テストWF作成、貫通配線基板加工など!EB露光、DRIE、 …

    当社は、半導体加工で培った豊富な知識と経験を基に、EB露光、DRIE、陽極接合をはじめとした 各種MEMS(Micro Electro Mechanical Systems〈微小電気機械システム〉)加工受託サービスをご提供しております。 開発品加工、要素技術加工、Si深堀エッチング、各種成膜など幅広く対応いたします。 また、弊社ではミニマルファブについても取り組んでおります。 TSV形成におけ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社M.T.C

  • 高レート イオンビーム・スパッタ高速成膜装置(HR-PVD) 製品画像

    高レート イオンビーム・スパッタ高速成膜装置(HR-PVD)

    誘電体、強磁性体成膜を高レートかつ高品位に高速成膜

    従前のマグネトロンスパッタでは成膜レートが低くなるAl2O3、SiO2などの誘電体、 Feなどの強磁性体の成膜で力を発揮する高速イオンビームスパッタ(IBD)装置です。  ヘリコンプラズマソースをイオン源とし、そこから得られた高密度なイオンをターゲットへのバイアス電圧印加によって加速させる画期的な方法により、高レートかつ直進性の高い成膜を実現します。 ターゲット面全体を高効率で利用するため、貴重・...

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    メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社

  • セラミックス製 構造部品【ミクロンオーダーにも対応可能】 製品画像

    セラミックス製 構造部品【ミクロンオーダーにも対応可能】

    新東独自の成形技術「浸透Vプロセス」で大型形状品や複雑形状部品の一体成…

    浸透Vプロセスは、鋳造で用いられている「Vプロセス法」をセラミックスの成形に応用した技術で、 大型で複雑形状の部品をセラミックスで高品質に製作できる鋳込み成形技術です。 セラミックスの特性を活かし、半導体、FPD、電子部品をはじめとした製造/検査装置の部品から 超精密測定器具など、様々な分野で高い評価を得ています。 お客様の用途や課題に合わせ、材質選定からご提案いたします。 【特...

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    メーカー・取り扱い企業: 新東Vセラックス株式会社

  • 光化合物半導体 プラズマ加工装置 製品画像

    光化合物半導体 プラズマ加工装置

    長年の経験と蓄積された加工ノウハウ!化合物半導体加工向けに1300台以…

    「プラズマ加工装置」は、光化合物半導体のプラズマ・エッチング・ 成膜装置です。 研究・開発から量産とシーンに適したシステムの提供が可能。 また、光電子デバイス製造に必要な幅広い材料を扱うように設計されています。 ご用命の際は、お気軽にお問い合わせください。 【用   途】 VCSEL、LED、μLED、Micro Lens、Wave Guide 【エッチング】 サファイア、...

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    メーカー・取り扱い企業: プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

  • MAX400℃!高温ベーク対応レジスト塗布装置(スピンコーター) 製品画像

    MAX400℃!高温ベーク対応レジスト塗布装置(スピンコーター)

    BARCやその他薬液をスピン塗布後、MAX400℃でベーク可能!高温ベ…

    当製品は、スピンコーティング、HMDS処理、高温ベーク(MAX400℃)、低温ベーク(MAX200℃)、クーリング機能を搭載。 低温ベークと高温ベークの組み合わせでステップベークも可能です。 レジスト以外での薬品でもスピン塗布後に高温ベーク可能! その他、ポジレジスト・ネガレジスト、ポリイミド(PI)、シリコーン、SOG、WAXなどなど多数の薬液に実績ございます! シリコン...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

  • ALD(原子層堆積)装置 製品画像

    ALD(原子層堆積)装置

    2重構造チャンバによるメンテナンス負荷低減と内容積のコンパクト化を実現…

    ワッティーが提供する実験・研究開発向け装置 2inch~8inchモデルまでの装置をご用意し、ユーザーニーズにお応え いたします。 また各種付帯設備をオプションでご用意しており、お客様の導入時の 設備導入負担を軽減します。 安全仕様・プリカーサ本数・プリカーサ導入方法・排気系統、あらゆる 項目についてカスタマイズのご要望にお応えいたします。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、...

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    メーカー・取り扱い企業: ワッティー株式会社

  • 3インチ~12インチまで対応可能 「SOIウェーハ」 製品画像

    3インチ~12インチまで対応可能 「SOIウェーハ」

    3インチ~12インチまで少量対応が可能です。 仕様により高抵抗基板・…

    CZシリコンを使用したSOI以外にも、基板・デバイス層とも高抵抗FZシリコンを使用したSOIウェーハも対応可能です。 直径:3インチ~12インチ SOI層:2-200um程度(抵抗1万Ω以上など高抵抗対応可能) SiO2(酸化膜)層:0.5-2um程度(0.1-10umも対応可能) 支持基板:300-725um程度(直径によりますが抵抗1万Ω以上など高抵抗対応可能) *仕様によります...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社エナテック 東京本社

  • 鋳造用塗型剤『ハードミックス KS-2』 製品画像

    鋳造用塗型剤『ハードミックス KS-2』

    刷毛伸びがよく作業性に優れた鋳鋼用アルコール性塗型剤!

    『ハードミックス KS-2』は、作業環境の改善に貢献する鋳造用塗型剤です。 骨材のジルコンが鋳型へ深く浸透することにより、優れた耐火浸透層を 形成し、耐熱性や耐焼着、差込み等に効果を発揮。 また、刷毛伸びがよく作業性に優れています。 【特長】 ■耐熱性や耐焼着、差込み等に効果を発揮 ■PRTR法適用外 ■フラン、フェノール等の自硬性鋳型に適する ※詳しくはPDFをダ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ツチヨシアクティ 本社

  • 【Nanofurnace】BWS-NANO 熱CVD装置 製品画像

    【Nanofurnace】BWS-NANO 熱CVD装置

    【ホットウオール式熱CVD装置】基礎研究に最適なコンパクトサイズ高性能…

    ◉ グラフェン, カーボンナノチューブ ◉ ZnOナノワイヤ ◉ SiO2等の絶縁膜など その他, ホットウオール式熱CVD装置として幅広いアプリケーションに対応...【特徴】 ◉ コンパクトなシステムでハイクオリティな成膜実験が可能 ◉ ホットウオール式 反応管内を均一に加熱 ◉ 4系統(CH4, Ar, H2, バブラー用)MFC高精度流量制御:精度±1% F.S. ◉ キャパシ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 1インチ以下~450mmで提供可能 「CZウェーハ」 製品画像

    1インチ以下~450mmで提供可能 「CZウェーハ」

    1インチ以下~450mmまで提供が可能です。各種成膜加工、FZウェーハ…

    弊社では、半導体製造装置テスト用のモニターウェーハ・ダミーウェーハ、太陽電池用単結晶シリコンウェーハ・太陽電池用多結晶ウェーハ・SOIウェーハ・拡散ウェーハなどを取り扱っております。 お客様の用途に合わせて適したウェーハをご紹介させていただきます。 CZウェーハは直径1インチ以下から450mmまでご提供が可能です。 また貴社でお持ちのウェーハにEPI成膜を行ったり、SOIウェーハへの加工など...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社エナテック 東京本社

  • 奈良機械製作所 粒子の表面改質 製品画像

    奈良機械製作所 粒子の表面改質

    新規材料への応用へつながる、奈良機械製作所の粒子の表面改質技術

    奈良機械製作所では、粒子の表面改質や複合化を行うことにより、 従来にはない新規材料の創製や大幅な性能向上をもたらすことが可能です。 核となる粒子(母粒子)表面への微粒子(子粒子)の固定化や成膜化を、 3分程度と極めて短時間で行うハイブリダイゼーションシステム。 原材料の組み合わせによって非常に幅広い分野で活躍中です。 また、各種材料のナノ粒子を生成し、その場で微粒子表面にコーティング...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社奈良機械製作所

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