SIO2 | イプロスものづくり

弊社にてデモ可能！市場初投入の新技術。大気圧プラズマでＣＶＤ。 …

今まで減圧下で行っていたプラズマCVDによるＳｉＯ２製膜を大気圧下で行えます。厚みは処理条件によりコントロール可能。（速度、液量、距離など）今までの大型CVD装置では対応しきれない少量生産や、細かな条件変更を可能にし、製膜コストを安く抑える事が可能です。操作はタッチパネルでの簡単操作。条件設定を記憶させる事で次回以降も同じ条件で製膜をする事が可能です。プラズマ処理装置を用い...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ケー・ブラッシュ商会本社

内外径複合研削盤　MCG-500SIO

内外径を同時加工可能なセンタレスグラインダ

センタレス研削盤をベースに外周面、内周面の同時研削を実現することで、精度の向上、工程の短縮、加工コストの低減、機械設備の低減そして省スペース化を実現する複合研削盤です。...【内外径同時研削加工】・外周面研削工程中に内周面研削工程が完結する圧倒的パフォーマンス！・高精度に仕上げられた外周面を回転基準とした理想の内周面加工で得られる高い同心度！【ワークのセンタレス支持方式】・1 回の...

メーカー・取り扱い企業：ミクロン精密株式会社

SiO2厚膜形成用プラズマCVD装置

厚膜形成用プラズマCVD装置。高速かつ低ストレス（特許出願中）

● 独自のセルフバイアス法の採用により高速（3000〜5000Å/min）かつ低ストレスの成膜が可能。（特許出願中） ● 室温〜350℃程度の低温成膜が可能。また、プラスチック上への成膜が可能。 ● 反応室に独自の工夫を施しているためパーティクルの発生を抑制。 ● 液体ソースのTEOSを用いるLS-CVD法によりステップカバレージと埋め込み効果に優れた成膜が可能。 ...

メーカー・取り扱い企業：サムコ株式会社

流体せん断装置『SIO』※資料進呈＆ロボドリル用キット無料貸出中

水の水素結合を壊して加工液の浸透・冷却・潤滑性UP。「FANUC ロボ…

『SIO』は、特殊な内部構造で水を分子レベルで細分化し、加工液の浸透・冷却・潤滑性を改良できる装置です。砥石や工具、ワークにまとわりつくような加工液により、加工効率を高めることが可能です。現在、水分子と水素結合について解説した資料を進呈中。本製品がなぜ加工効率アップに貢献できるのかを紹介しています。【SIOの特長】 ■水の水素結合を壊して加工液を活性化し、せん...

メーカー・取り扱い企業：株式会社塩業務基地

鉱物『タルク（3MgO4SiO2H2O）』

粒子表面の大部分が親油性であり、扁平粒子！様々な分野で使用されている鉱…

『タルク』は、滑石と呼ばれる天然鉱物の中で柔らかい扁平結晶構造の鉱物です。特に粒子表面の大部分が親油性であり、扁平粒子であることが大きな特長で様々な分野で使用されています。良質のタルク原料は、中国、豪州、米国等で産出され、さらに産地を限定した原料を輸入して粉砕、分級加工して製品化します。【ラインアップ（一部）】 ■PS-IC ■PS ■雪 ■CS ■S-1...

メーカー・取り扱い企業：ソブエクレー株式会社

1インチ以下～450ｍｍで提供可能　「CZウェーハ」

1インチ以下～４５０ｍｍまで提供が可能です。各種成膜加工、ＦＺウェーハ…

弊社では、半導体製造装置テスト用のモニターウェーハ・ダミーウェーハ、太陽電池用単結晶シリコンウェーハ・太陽電池用多結晶ウェーハ・ＳＯＩウェーハ・拡散ウェーハなどを取り扱っております。お客様の用途に合わせて適したウェーハをご紹介させていただきます。 CZウェーハは直径1インチ以下から450mmまでご提供が可能です。また貴社でお持ちのウェーハにＥＰＩ成膜を行ったり、SOIウェーハへの加工など...

メーカー・取り扱い企業：株式会社エナテック東京本社

高性能枚葉式常圧CVD(APCVD)装置 (A200V)

少量・多品種向け　NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用　枚葉式…

A200Vは、層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)・犠牲膜等のシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした枚葉式常圧CVD装置(APCVD装置)です。【特徴】　・絶縁膜・拡散/インプラマスクの成膜に好適　・枚葉式Face-down成膜による低パーティクル成膜　・密閉式チャンバーによる高い安全性と成膜安定性　・ウェハ反り矯正機能（特許取得済）によるSiCウェハ対応　...

メーカー・取り扱い企業：株式会社渡辺商行

高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX800V)

量産向け　NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用　高生産性　連続…

「AMAX」シリーズは、層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)・エピタキシャル(Epitaxial)ウェハ用バックシール等のシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした、連続式常圧CVD装置(APCVD装置)です。【特徴】　・最大100枚/hの高生産性 (対応ウェハサイズ: ～8インチ) 　・真空・プラズマ不要 (熱CVD) 　・SiCトレー採用による重金属汚染(メタルコンタミ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社渡辺商行

小規模生産・開発用常圧CVD(APCVD)装置 (D501)

試作・開発・小ロット生産向け　NSG(SiO2)/BSG/PSG/BP…

D501は、少量生産/テストや不定形基板へのシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした、バッチ式(複数枚同時処理)の常圧CVD装置(APCVD装置)です。【特徴】　・異形状・サイズ基板の同時処理　・高い成膜速度　・シンプルメンテナンス　・省フットプリント　・低CoO(低ランニングコスト) 【用途】　・層間絶縁膜(NSG/PSG/BPSG) 　・拡散/インプラ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社渡辺商行

高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX1200)

量産向け　NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用　高生産性　連続…

「AMAX」シリーズは、層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)・エピタキシャル(Epitaxial)ウェハ用バックシール等のシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした、連続式常圧CVD装置(APCVD装置)です。【特徴】　・～56枚/hの高生産性 (対応ウェハサイズ: ～12インチ) 　・真空・プラズマ不要 (熱CVD) 　・SiCトレー採用による重金属汚染(メタルコンタミネ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社渡辺商行

ガラス基板成膜装置「低温成膜」「フレキシブル基板対応」

FPDなどリジット/フレキシブルデバイスに対応した4.5世代ガラス基板…

FPDなどリジット/フレキシブルデバイスに対応した4.5世代ガラス基板成膜装置です。【特徴】　・低温(150～300℃)成膜　・4.5世代ガラス基板に250℃で100nmのSiO2膜をスループット 25枚/h以上の成膜　・シンプルメンテナンス　・低CoO(低ランニングコスト) 　・高品質なSiO2膜の形成: 低ストレス、プラズマダメージレス、小パーティクル　・導入・維...

メーカー・取り扱い企業：株式会社渡辺商行

2サイズ兼用自動レジストコーター・デベロッパー（塗布・現像）

段取り替え不要、2サイズのウエハ兼用装置です。低粘度～高粘度レジス…

当製品は、スピンコーティング、HMDS処理、ベーク、クーリング機能を搭載。設計から製造・販売まで自社で行っているので、低価格を実現しました！ポジ・ネガレジスト、ポリイミド、SOG、WAX、シリコーンなど、多彩な薬液に実績があります。 Si（シリコン）、GaAs、InP、GaN、SiC、サファイア、セラミック、SiO2（ガラス）など多数の基板搬送実績もあります。 GaAs...

メーカー・取り扱い企業：株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

マグネトロンスパッタ装置『scia Magna 200』

最大200mm径基板！ダブルリングマグネトロン(Fraunhofer …

『scia Magna 200』は、回転式単体マグネトロンのマグネトロンスパッタ装置です。アプリケーションは、TC-SAW向け温度補償膜(SiO2)、AlN等圧電膜、光学用高・低屈折膜、絶縁膜(Si3N4, SiO2, Al2O3)です。また、プロセスはマグネトロンスパッタとなっております。ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。【特長】 ■最大200mm...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ハイテック・システムズ

PVD装置

ダブルリングマグネトロンDRM400を搭載したPVD装置

独scia Systems GmbH（スキアシステムズ社）は、独Roth&Rau AG, MicroSystems GmbHのイオンビームトリミング（トリミング加工、IBF）装置IonScan装置のソフトウエア、ハードウエハを開発した主要なスタッフにて設立されました。スキアシステムズ社はユニークで且つ独自の最先端のイオンビームやプラズマ技術を開発し、研究開発装置から量産向け装置を取り扱っております...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ハイテック・システムズ

ThetaMetrisis社　非接触ポータブル膜厚計

膜厚の測定に好適。多層膜厚み同時測定も可能な非接触ポータブル膜厚計

非接触ポータブル膜厚計は、PC（USBポート）から電源供給。研究現場や製造現場に持ち込み、瞬時に測定できます。研究室のみならず、現場でも使いやすいThetaMetrisis社の非接触型の膜厚計です。【特長】 ○多層膜厚み同時測定も可能！ →例：PMMA/poly-Si/Si3N4/SiO2 10層までの膜厚を測定できます。 ○リアルタイムモニタリングなど未乾燥の塗膜、硬化収...

メーカー・取り扱い企業：オーテックス株式会社

フォトエッチング

ガラス基板や光学フィルム、各種高機能フィルムへの微細加工！

当社で行っています「フォトエッチング」について、ご紹介いたします。精密写真技術により、ガラス基板・石英・シリコン・フィルム・ウェハー蒸着膜の微細精密写真の一貫加工、ハイリゾを含む光学系フィルムと各種高機能光学フィルムの微細加工も承ります。また、レーザー直描画による原版・フォトマスクも加工いたします。ご用命の際は、お気軽にお問い合わせください。【ラインアップ】 ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社東亜理化学研究所

プラズマCVD装置

パワーデバイス、LED、MEMS等の量産で多数の実績がある装置です。

膜質の制御範囲が非常に広く、様々なお客様の求める膜質に対応します。また、化合物ウエハや特殊ウエハなど、従来の装置では問題があった安定した自動搬送を実現し、歩留まり向上に貢献します。当社では、お客様のご要望を出来るだけ装置に反映するため、装置毎のカスタマイズを積極的に行います。社内にデモ機を常設していますので、お気軽にご相談ください。...当社の装置は1回の処理で複数枚のウエハに成膜を実施する、バッ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社日本生産技術研究所

『匣鉢・セッター・台板』

焼成物に合わせた材質・形状があり、低温域から高温域までご利用可能！多孔…

株式会社アコーセラミックでは、様々な用途に合わせ最適な材質、サイズ、形状を選定してご提案致します。プレス成型、圧力鋳込み成型、不定形成型など様々な成型方法を駆使し、アルミナ、ムライト、コージェライト、マグネシア、ジルコニアなど焼成物に合わせた材質、形状を有しており、低温域から高温域までご利用頂いております。【特徴】 ■様々な成型方法を駆使し低温域から高温域まで使用可能 ■...

メーカー・取り扱い企業：株式会社アコーセラミック株式会社アコーセラミック　本社営業部

自動フォトレジスト塗布装置（スピンコーター）Coater

レジスト膜の面内均一性やウエハ間の平均膜厚の差が少ないコーターです。低…

ロボット搬送による全自動レジスト塗布装置です。高均一性、省薬液、複数薬液使用可能な仕様です。低粘度～高粘度レジストまで要求仕様に合わせてカスタムいたします。ポジ・ネガレジスト、ポリイミド、SOG、WAX、シリコーンなど、多彩な薬液に実績があります。 Si（シリコン）、GaAs、InP、GaN、SiC、サファイア、セラミック、SiO2（ガラス）など多数の基板搬送実績もあります。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

研究開発用スパッタリング装置

高水準な仕様と豊富なオプションで様々な成膜用途に適した研究開発用スパッ…

特長 ■クリーンなサイドスパッタ方式を採用 ■ロードロック式タイプ、バッチ式タイプの2機種をご用意 ■タッチパネルで簡単な操作・成膜条件管理、メンテナンスも容易な装置コンセプト ■設置スペースを取らないコンパクトな装置 ■お客様のご要望・用途に応える豊富なオプション ■低温・高温スパッタにも対応 ■広範囲に分布が良いスパッタ源を標準搭載（±5%以内（SiO2でφ170mm以内）） ...

メーカー・取り扱い企業：芝浦メカトロニクス株式会社

L/S 2μm対応『室温スパッタ装置』

半導体、プリント基板、表面処理に！高い密着力を実現する室温スパッタ装置

L/S 2μm対応『室温スパッタ装置』は、基板とプラズマ領域が分離されており、熱ダメージを抑えつつ、高い密着力を実現する装置です。 510mm×610mm（最大730mm×920mm）の大型基板に対応し、基板2枚並行処理も可能です。各種薄膜形成、シード層形成（過マンガン酸・無電解めっきからの置換）などの用途に適しています。【特長】 ○精密有機パッケージ基板に最適 ○高い生産性 ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社サーマプレシジョン

【nanoCVD-8G/8N】グラフェン/CNT合成装置

◉ 大型製造装置設備を使わず、短時間で容易にグラフェン・CNT（SWN…

◉ コールドウオール式による高効率・高精度プロセスコントロール ◉ 急速昇温：RT→1100℃/約3分間 ◉ 高精度温度流量制御・再現性に優れたハイパフォーマンス機...◆特徴◆ ・簡単操作! 5inchタッチパネルによる操作・レシピ管理・最大30レシピ，30stepのプログラム作成可能・専用ソフトウエア標準装備，CSVファイルで出力PCでデータロギング・USBケーブル接続，PC...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

CPUボード『BCRX630_144』

高速で動作！CPU動作周波数：最大100MHｚのCPUボードをご紹介！

当社は、ルネサスアライアンスゴールドパートナー登録会社です。ルネサス独自のRX CPUコア、内部32ビットデータバス幅マイクロコンピュータ 3.3V 100MHz動作が可能なCPUボード『BCRX630_144』を取扱っています。当製品は、12ビット分解能×21のA/Dコンバータと、 10ビット分解能×2のD/Aコンバータを搭載。基板、部品、半田付け全ての工程でRoHS指...

メーカー・取り扱い企業：有限会社ビーリバーエレクトロニクス

モリブデンの酸化防止・耐食コーティング　『SIBOR』

SIBORコーティングは1600度まで酸化を防止します。（プランゼ…

大気中では基材側で硬い拡散層が形成されると共に、大気との反応により表面に形成される SiO2層が部材における酸化の進行を防止しています。 SIBORコーティングを施したモリブデン部材は、モリブデン固有の耐熱性と耐食性に高温での耐酸化性能が付与されている為、ガラス炉における理想的な部材です。...SIBORコーティングは1600度まで酸化を防止します。大気中では基材側で硬い拡散層が形...

メーカー・取り扱い企業：プランゼージャパン株式会社

エッチング受託加工

ドライとウェットの両プロセスから適した方法を提案！お客様の課題を解決し…

協同インターナショナルでは『エッチング受託加工』を承っております。回路形成/テストパターン作製/表面改質/条件出し等に必要な、さまざまなエッチング加工のニーズにお応え。ドライ(RIE、ICP)とウェットの両プロセスから適した方法を提案しお客様の課題を解決します。【特長】 ■さまざまなエッチング加工のニーズにお応え ■フォトリソ～エッチング～レジスト除去までの一連...

メーカー・取り扱い企業：株式会社協同インターナショナル

ウエットエッチングによる金属膜パターニング加工サービス

クロム膜や薄いガラスの金属膜、SiO2膜などのパターニングに対応してい…

当社は、『ウエットエッチングによる金属膜パターニング加工サービス』を行っています。金属膜多層配線をはじめ、クロム膜や薄いガラスの金属膜、SiO2膜などのパターニングに対応。ご用命の際はお問い合わせください。【特長】 ■金属膜多層配線のパターニング・透明金属膜：ITO膜・白色金属膜：AL合金膜（W/10μm） ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気...

メーカー・取り扱い企業：株式会社KISO　WAVE

チャンバーなどの半導体製造装置部材のコーティングに！シリカコート

金属に高純度シリカガラスをコーティング！酸化が抑えられ耐食性が向上！金…

チャンバーなどの半導体製造装置部材のコーティングに実績が多数ある『シリカコート Quartzace』では、基材は金属、樹脂、ゴム、生体など、様々な基材に対応でき、基材の特長を活かしたまま、表面のみシリカガラスの特性が得られます。例えば、金属にコーティングすれば、塩酸ガスなどに対してシリカガラスの優れた耐食性が得られます。また、高温での金属の酸化も防ぐことが可能。金属表面が合成石...

メーカー・取り扱い企業：株式会社コンタミネーション・コントロール・サービス

塗装サービス『セラミック系塗装』

建築部品や厨房用品などにおすすめ！優れた耐久性を有する、硬くて丈夫な塗…

『セラミック系塗装』は、当社がご提供する塗装サービスです。硬度の高い無機質化粧膜が特長。SiO2を主成分とした無機質塗料で、耐熱性・耐候性・耐薬品性に優れています。さらに、優れた耐久性や高い防腐効果を有するほか、汚れがつきにくく紫外線にも強いです。建築部品をはじめ、フライパンなどの厨房用品に安心して使用できます。【特長】 ■硬度の高い無機質化粧膜 ■各種...

メーカー・取り扱い企業：株式会社技研本社

プラズマＣＶＤ成膜

ガスを化学反応させることで緻密な薄膜を形成！低温加工も可能です。

プラズマＣＶＤ法は、膜としたい元素を含むガスを、プラズマにより励起や分解をさせて、基板表面で吸着、反応等を経て膜を形成する方法です。プラズマを用いるため熱ＣＶＤに比べて低温での製膜が可能です。また、イオンプレーティング法、真空蒸着法、スパッタリング法と比べて凹凸への付きまわりがよいのも特徴です。弊社では、イオンプレーティング法、真空蒸着法に加え、プラズマＣＶＤ法によるコ...

メーカー・取り扱い企業：東邦化研株式会社

自動塗布・露光・現像一貫プロセス装置（フルオートリソグラフィ）

レジスト塗布～露光～現像処理を一気通貫。自動で処理可能な装置です。フォ…

当製品は、スピンコーティング、一括等倍露光、現像処理を自動で行う装置です。HMDS処理、ベーク、クーリング機能を搭載可能。設計から製造・販売まで自社で行い、コーター、アライナ、デベロッパのフォトリソ装置をラインナップしている当社だからこそ実現出来た装置です。対応レジストは、ポジ・ネガレジスト、ポリイミド、など、多彩な薬液に実績があります。 Si（シリコン）、GaAs、InP、...

メーカー・取り扱い企業：株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

CZウェーハ　成膜加工

2インチから12インチウェーハへの成膜が可能です。

株式会社エナテックのCZウェーハ成膜加工は、膜種により2インチから450ｍｍウェーハへの成膜が可能です。酸化膜系：熱酸化、RTO、LP-TEOS、HDP-USG、P-TEOS、PSG、BPSG、BSG、LP-CVD、PE-CVD 窒化膜系： HCD-SiN、DCS-SiN、P-SiN、LP-SiN 、LP-CVD、PE-CVD 金属膜系： TaN、Ta、Cu、Al、AlN、...

メーカー・取り扱い企業：株式会社エナテック東京本社

株式会社neop　事業紹介

レンズ研磨技術を通して21世紀の情報通信産業に貢献致す所存でおります

株式会社neopは、レンズの試作・量産を行います。特徴は次の通りです。・小量多品種、試作、量産（月産／3000位）」「ピッチ研磨による高精度研磨に対応・SiO2、合成石英、各種難硝材に対応しております・硝材手配、芯取り、コート、接合までお請けしております・干渉計にてほぼ全数波面検査の上納入（凸：0～442R、凹：０～255R）・面精度アスクセ0.25量産致して居ります・...

メーカー・取り扱い企業：株式会社neop

Guangdong Well Nanotech コロイダルシリカ

高品質低コスト　コロイダルシリカ

Guangdong Well Nanotech社は、1998年に設立され、6つの生産拠点を持つ中国のコロイダルシリカサプライヤーのリーディングカンパニーです。同社の高品質なコロイダルシリカとCMPスラリーは、精密鋳造、セラミック、製紙、コーティング、触媒、電池、食品、研削、研磨など様々な産業で利用されています。弊社では一部製品を国内にて在庫しております。詳細はお問い合わせください。 HS...

メーカー・取り扱い企業：株式会社パイロテック・ジャパン

太陽電池セル量産用連続式常圧CVD装置 (AMAX1000S)

結晶Si太陽電池セル量産用　NSG(SiO2)/PSG/BSG膜成膜用…

AMAX1000Sは、「AMAX」シリーズの実績をもとに、太陽電池(セル)製造用に開発された連続式常圧CVD装置(APCVD装置)です。【特徴】　・156mm角/125mm角ウェハ対応　・1500枚/hの高生産性　・太陽電池用薄型ウェハ対応【用途】　・拡散/インプラ用ハードマスク, 犠牲膜(NSG) 　・パッシベーション膜(保護膜・絶縁膜)(NSG) 　・固相拡散用...

メーカー・取り扱い企業：株式会社渡辺商行

真空蒸着加工

真空蒸着は高真空中で金属や酸化物を加熱蒸発させて基盤表面にデポジション…

当社は昭和３０年代から真空蒸着の技術確立を実施しております。代表的な蒸着金属はアルミニウムで、ガラス基板やプラスチック成型品の表面にデポジションを行い更にその上に電子ビーム蒸着にてSiO2やTiO2等の酸化膜をコートしてリフレクター等の高反射ミラーとして利用されています。...この技術は日本においても以前から実用化されていましたが、近年21世紀のキーテクノロジーとして新たに薄膜作成技術として注...

メーカー・取り扱い企業：安達新産業株式会社本社

酸化触媒（白金触媒）：NAハニカム

白金触媒によって、脱臭・脱煙・空気を浄化するセラミックハニカムフィルタ…

白金は、自動車の排ガス浄化にも用いられている触媒で、　・高い活性を有する（反応を、より促進する）　・耐久性に優れるといった特長をもちます。当社の酸化触媒・NAハニカムは、セラミックハニカムに白金触媒を添着したフィルタで、ハニカム構造体・担持体を用いることで白金触媒による浄化処理を低圧損・高効率で実現します。 ...【基本仕様】　寸法　　： □100mm ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社長峰製作所営業部

MEMS受託加工サービスとミニマルファブについて

WF加工、テストWF作成、貫通配線基板加工など！EB露光、DRIE、 …

当社は、半導体加工で培った豊富な知識と経験を基に、EB露光、DRIE、陽極接合をはじめとした各種MEMS（Micro Electro Mechanical Systems〈微小電気機械システム〉）加工受託サービスをご提供しております。開発品加工、要素技術加工、Si深堀エッチング、各種成膜など幅広く対応いたします。また、弊社ではミニマルファブについても取り組んでおります。 TSV形成におけ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社M.T.C

セラミックス製構造部品【ミクロンオーダーにも対応可能】

新東独自の成形技術「浸透Vプロセス」で大型形状品や複雑形状部品の一体成…

浸透Ｖプロセスは、鋳造で用いられている「Vプロセス法」をセラミックスの成形に応用した技術で、大型で複雑形状の部品をセラミックスで高品質に製作できる鋳込み成形技術です。セラミックスの特性を活かし、半導体、FPD、電子部品をはじめとした製造／検査装置の部品から超精密測定器具など、様々な分野で高い評価を得ています。お客様の用途や課題に合わせ、材質選定からご提案いたします。【特...

メーカー・取り扱い企業：新東Vセラックス株式会社

高レートイオンビーム・スパッタ高速成膜装置（HR-PVD）

誘電体、強磁性体成膜を高レートかつ高品位に高速成膜

従前のマグネトロンスパッタでは成膜レートが低くなるAl2O3、SiO2などの誘電体、 Feなどの強磁性体の成膜で力を発揮する高速イオンビームスパッタ（IBD)装置です。　ヘリコンプラズマソースをイオン源とし、そこから得られた高密度なイオンをターゲットへのバイアス電圧印加によって加速させる画期的な方法により、高レートかつ直進性の高い成膜を実現します。ターゲット面全体を高効率で利用するため、貴重・...

メーカー・取り扱い企業：ティー・ケイ・エス株式会社

MAX400℃！高温ベーク対応レジスト塗布装置（スピンコーター）

BARCやその他薬液をスピン塗布後、MAX400℃でベーク可能！高温ベ…

当製品は、スピンコーティング、HMDS処理、高温ベーク（MAX400℃）、低温ベーク（MAX200℃）、クーリング機能を搭載。低温ベークと高温ベークの組み合わせでステップベークも可能です。レジスト以外での薬品でもスピン塗布後に高温ベーク可能！その他、ポジレジスト・ネガレジスト、ポリイミド（PI）、シリコーン、SOG、WAXなどなど多数の薬液に実績ございます！シリコン...

メーカー・取り扱い企業：株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

光化合物半導体　プラズマ加工装置

長年の経験と蓄積された加工ノウハウ！化合物半導体加工向けに1300台以…

「プラズマ加工装置」は、光化合物半導体のプラズマ・エッチング・成膜装置です。研究・開発から量産とシーンに適したシステムの提供が可能。また、光電子デバイス製造に必要な幅広い材料を扱うように設計されています。ご用命の際は、お気軽にお問い合わせください。【用　　　途】 VCSEL、LED、μLED、Micro Lens、Wave Guide 【エッチング】サファイア、...

メーカー・取り扱い企業：プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

鋳造用塗型剤『ハードミックス KS-2』

刷毛伸びがよく作業性に優れた鋳鋼用アルコール性塗型剤！

『ハードミックス KS-2』は、作業環境の改善に貢献する鋳造用塗型剤です。骨材のジルコンが鋳型へ深く浸透することにより、優れた耐火浸透層を形成し、耐熱性や耐焼着、差込み等に効果を発揮。また、刷毛伸びがよく作業性に優れています。【特長】 ■耐熱性や耐焼着、差込み等に効果を発揮 ■PRTR法適用外 ■フラン、フェノール等の自硬性鋳型に適する ※詳しくはPDFをダ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ツチヨシアクティ本社

ALD（原子層堆積）装置

2重構造チャンバによるメンテナンス負荷低減と内容積のコンパクト化を実現…

ワッティーが提供する実験・研究開発向け装置 2inch～8inchモデルまでの装置をご用意し、ユーザーニーズにお応えいたします。また各種付帯設備をオプションでご用意しており、お客様の導入時の設備導入負担を軽減します。安全仕様・プリカーサ本数・プリカーサ導入方法・排気系統、あらゆる項目についてカスタマイズのご要望にお応えいたします。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、...

メーカー・取り扱い企業：ワッティー株式会社

3インチ～12インチまで対応可能　「SOIウェーハ」

3インチ～12インチまで少量対応が可能です。仕様により高抵抗基板・…

CZシリコンを使用したSOI以外にも、基板・デバイス層とも高抵抗FZシリコンを使用したSOIウェーハも対応可能です。直径：3インチ～12インチ SOI層：2－200um程度（抵抗1万Ω以上など高抵抗対応可能） SiO2(酸化膜）層：0.5－2um程度(0.1-10umも対応可能）支持基板：300-725um程度（直径によりますが抵抗1万Ω以上など高抵抗対応可能）＊仕様によります...

メーカー・取り扱い企業：株式会社エナテック東京本社

【Nanofurnace】BWS-NANO 熱CVD装置

【ホットウオール式熱CVD装置】基礎研究に最適なコンパクトサイズ高性能…

◉ グラフェン, カーボンナノチューブ ◉ ZnOナノワイヤ ◉ SiO2等の絶縁膜などその他, ホットウオール式熱CVD装置として幅広いアプリケーションに対応...【特徴】 ◉ コンパクトなシステムでハイクオリティな成膜実験が可能 ◉ ホットウオール式反応管内を均一に加熱 ◉ 4系統（CH4, Ar, H2, バブラー用）MFC高精度流量制御：精度±1% F.S. ◉ キャパシ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社