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99件 - メーカー・取り扱い企業
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実験・研究開発用途 受託成膜サービス『ALD（原子層堆積）装置』
PRご要望のプリカーサによる各種サンプルへの成膜をお手伝い。ライブデモ、パ…
ワッティーでは、ALD装置を使用した『受託成膜サービス』を行っております。 Al2O3、TiO2、ZrO2、HfO2、RuO2、SiO2、TiN等、各種酸化膜・窒化膜の成膜が可能。 成膜可能サイズは小チップからパイプ、フィルム等、300mmの大きさまで対応可能です。 ご要望のプリカーサによる各種サンプルへの成膜のお手伝い、お客様立会い によるライブデモや、ご希望のレシピ、パラメータ...
メーカー・取り扱い企業： ワッティー株式会社
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簡単大気圧でSiO2コーティング！プラズマコートUL-Colat
弊社にてデモ可能！ 市場初投入の新技術。大気圧プラズマでＣＶＤ。 …
今まで減圧下で行っていたプラズマCVDによるＳｉＯ２製膜を大気圧下で行えます。 厚みは処理条件によりコントロール可能。（速度、液量、距離など） 今までの大型CVD装置では対応しきれない少量生産や、細かな条件変更を可能にし、製膜コストを安く抑える事が可能です。 操作はタッチパネルでの簡単操作。条件設定を記憶させる事で次回以降も同じ条件で製膜をする事が可能です。 プラズマ処理装置を用い...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社ケー・ブラッシュ商会 本社
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内外径を同時加工可能なセンタレスグラインダ
センタレス研削盤をベースに外周面、内周面の同時研削を実現することで、精度の向上、工程の短縮、加工コストの低減、機械設備の低減そして省スペース化を実現する複合研削盤です。...【内外径同時研削加工】 ・外周面研削工程中に内周面研削工程が完結する圧倒的パフォーマンス！ ・高精度に仕上げられた外周面を回転基準とした理想の内周面加工で得られる高い同心度！ 【ワークのセンタレス支持方式】 ・1 回の...
メーカー・取り扱い企業： ミクロン精密株式会社
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厚膜形成用プラズマCVD装置。高速かつ低ストレス（特許出願中）
● 独自のセルフバイアス法の採用により高速（3000〜5000Å/min）かつ低ストレスの成膜が可能。（特許出願中） ● 室温〜350℃程度の低温成膜が可能。また、プラスチック上への成膜が可能。 ● 反応室に独自の工夫を施しているためパーティクルの発生を抑制。 ● 液体ソースのTEOSを用いるLS-CVD法によりステップカバレージと埋め込み効果に優れた成膜が可能。 ...
メーカー・取り扱い企業： サムコ株式会社
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流体せん断装置『SIO』※資料進呈＆ロボドリル用キット無料貸出中
水の水素結合を壊して加工液の浸透・冷却・潤滑性UP。「FANUC ロボ…
『SIO』は、特殊な内部構造で水を分子レベルで細分化し、 加工液の浸透・冷却・潤滑性を改良できる装置です。 砥石や工具、ワークにまとわりつくような 加工液により、加工効率を高めることが可能です。 現在、水分子と水素結合について解説した資料を進呈中。 本製品がなぜ加工効率アップに貢献できるのかを紹介しています。 【SIOの特長】 ■水の水素結合を壊して加工液を活性化し、せん...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社塩 業務基地
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粒子表面の大部分が親油性であり、扁平粒子！様々な分野で使用されている鉱…
『タルク』は、滑石と呼ばれる天然鉱物の中で柔らかい扁平結晶構造の鉱物です。 特に粒子表面の大部分が親油性であり、扁平粒子であることが大きな特長で 様々な分野で使用されています。 良質のタルク原料は、中国、豪州、米国等で産出され、さらに産地を限定した 原料を輸入して粉砕、分級加工して製品化します。 【ラインアップ（一部）】 ■PS-IC ■PS ■雪 ■CS ■S-1...
メーカー・取り扱い企業： ソブエクレー株式会社
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少量・多品種向け NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用 枚葉式…
A200Vは、層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)・犠牲膜等のシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした枚葉式常圧CVD装置(APCVD装置)です。 【特徴】 ・絶縁膜・拡散/インプラマスクの成膜に好適 ・枚葉式Face-down成膜による低パーティクル成膜 ・密閉式チャンバーによる高い安全性と成膜安定性 ・ウェハ反り矯正機能（特許取得済）によるSiCウェハ対応 ...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行
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高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX800V)
量産向け NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用 高生産性 連続…
「AMAX」シリーズは、層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)・エピタキシャル(Epitaxial)ウェハ用バックシール等のシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした、連続式常圧CVD装置(APCVD装置)です。 【特徴】 ・最大100枚/hの高生産性 (対応ウェハサイズ: ～8インチ) ・真空・プラズマ不要 (熱CVD) ・SiCトレー採用による重金属汚染(メタルコンタミ...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行
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小規模生産・開発用常圧CVD(APCVD)装置 (D501)
試作・開発・小ロット生産向け NSG(SiO2)/BSG/PSG/BP…
D501は、少量生産/テストや不定形基板へのシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした、バッチ式(複数枚同時処理)の常圧CVD装置(APCVD装置)です。 【特徴】 ・異形状・サイズ基板の同時処理 ・高い成膜速度 ・シンプルメンテナンス ・省フットプリント ・低CoO(低ランニングコスト) 【用途】 ・層間絶縁膜(NSG/PSG/BPSG) ・拡散/インプラ...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行
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高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX1200)
量産向け NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用 高生産性 連続…
「AMAX」シリーズは、層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)・エピタキシャル(Epitaxial)ウェハ用バックシール等のシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした、連続式常圧CVD装置(APCVD装置)です。 【特徴】 ・～56枚/hの高生産性 (対応ウェハサイズ: ～12インチ) ・真空・プラズマ不要 (熱CVD) ・SiCトレー採用による重金属汚染(メタルコンタミネ...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行
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FPDなどリジット/フレキシブルデバイスに対応した4.5世代ガラス基板…
FPDなどリジット/フレキシブルデバイスに対応した4.5世代ガラス基板成膜装置です。 【特徴】 ・低温(150～300℃)成膜 ・4.5世代ガラス基板に250℃で100nmのSiO2膜をスループット 25枚/h以上の成膜 ・シンプルメンテナンス ・低CoO(低ランニングコスト) ・高品質なSiO2膜の形成: 低ストレス、プラズマダメージレス、小パーティクル ・導入・維...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行
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セラミックス材料を好適なレシピで配合！求められる仕様や機能を備えた製品…
千葉セラミック工業株式会社のホームページでは、「材料別特性詳細」 を掲載しております。 当社はアルミナやジルコニアなど、用途に合わせて好適材料をご提案。 電気絶縁体、医療用部品、構造材料など、用途に合わせて、セラミックス材料を 好適なレシピで配合、求められる仕様や機能を備えた製品を製造します。 ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。 【掲載素材】 ■アルミナ系(Al2...
メーカー・取り扱い企業： 千葉セラミック工業株式会社 愛生工場
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2サイズ兼用自動レジストコーター・デベロッパー（塗布・現像）
段取り替え不要、2サイズのウエハ兼用装置です。 低粘度～高粘度レジス…
当製品は、スピンコーティング、HMDS処理、ベーク、クーリング機能を搭載。 設計から製造・販売まで自社で行っているので、低価格を実現しました！ ポジ・ネガレジスト、ポリイミド、SOG、WAX、シリコーンなど、多彩な薬液に実績があります。 Si（シリコン）、GaAs、InP、GaN、SiC、サファイア、セラミック、SiO2（ガラス）など多数の基板搬送実績もあります。 GaAs...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ
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最大200mm径基板！ダブルリングマグネトロン(Fraunhofer …
『scia Magna 200』は、回転式単体マグネトロンの マグネトロンスパッタ装置です。 アプリケーションは、TC-SAW向け温度補償膜(SiO2)、AlN等圧電膜、 光学用高・低屈折膜、絶縁膜(Si3N4, SiO2, Al2O3)です。 また、プロセスはマグネトロンスパッタとなっております。 ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。 【特長】 ■最大200mm...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ
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ダブルリングマグネトロンDRM400を搭載したPVD装置
独scia Systems GmbH（スキアシステムズ社）は、独Roth&Rau AG, MicroSystems GmbHのイオンビームトリミング（トリミング加工、IBF）装置IonScan装置のソフトウエア、ハードウエハを開発した主要なスタッフにて設立されました。スキアシステムズ社はユニークで且つ独自の最先端のイオンビームやプラズマ技術を開発し、研究開発装置から量産向け装置を取り扱っております...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ
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膜厚の測定に好適。多層膜厚み同時測定も可能な非接触ポータブル膜厚計
非接触ポータブル膜厚計は、PC（USBポート）から電源供給。研究現場や製造現場に持ち込み、瞬時に測定できます。 研究室のみならず、 現場でも使いやすいThetaMetrisis社の非接触型の膜厚計です。 【特長】 ○多層膜厚み同時測定も可能！ →例：PMMA/poly-Si/Si3N4/SiO2 10層までの膜厚を測定できます。 ○リアルタイムモニタリングなど 未乾燥の塗膜、硬化収...
メーカー・取り扱い企業： オーテックス株式会社
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パワーデバイス、LED、MEMS等の量産で多数の実績がある装置です。
膜質の制御範囲が非常に広く、様々なお客様の求める膜質に対応します。また、化合物ウエハや特殊ウエハなど、従来の装置では問題があった安定した自動搬送を実現し、歩留まり向上に貢献します。当社では、お客様のご要望を出来るだけ装置に反映するため、装置毎のカスタマイズを積極的に行います。社内にデモ機を常設していますので、お気軽にご相談ください。...当社の装置は1回の処理で複数枚のウエハに成膜を実施する、バッ...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社日本生産技術研究所
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焼成物に合わせた材質・形状があり、低温域から高温域までご利用可能！多孔…
株式会社アコーセラミックでは、様々な用途に合わせ最適な材質、サイズ、形状を選定してご提案致します。 プレス成型、圧力鋳込み成型、不定形成型など様々な成型方法を駆使し、 アルミナ、ムライト、コージェライト、マグネシア、ジルコニアなど 焼成物に合わせた材質、形状を有しており、 低温域から高温域までご利用頂いております。 【特徴】 ■様々な成型方法を駆使し低温域から高温域まで使用可能 ■...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社アコーセラミック 株式会社アコーセラミック 本社営業部
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レジスト膜の面内均一性やウエハ間の平均膜厚の差が少ないコーターです。低…
ロボット搬送による全自動レジスト塗布装置です。 高均一性、省薬液、複数薬液使用可能な仕様です。 低粘度～高粘度レジストまで要求仕様に合わせてカスタムいたします。 ポジ・ネガレジスト、ポリイミド、SOG、WAX、シリコーンなど、多彩な薬液に実績があります。 Si（シリコン）、GaAs、InP、GaN、SiC、サファイア、セラミック、SiO2（ガラス）など多数の基板搬送実績もあります。...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ
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高水準な仕様と豊富なオプションで様々な成膜用途に適した研究開発用スパッ…
特長 ■クリーンなサイドスパッタ方式を採用 ■ロードロック式タイプ、バッチ式タイプの2機種をご用意 ■タッチパネルで簡単な操作・成膜条件管理、メンテナンスも容易な装置コンセプト ■設置スペースを取らないコンパクトな装置 ■お客様のご要望・用途に応える豊富なオプション ■低温・高温スパッタにも対応 ■広範囲に分布が良いスパッタ源を標準搭載（±5%以内（SiO2でφ170mm以内）） ...
メーカー・取り扱い企業： 芝浦メカトロニクス株式会社
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半導体、プリント基板、表面処理に！高い密着力を実現する室温スパッタ装置
L/S 2μm対応『室温スパッタ装置』は、 基板とプラズマ領域が分離されており、熱ダメージを抑えつつ、高い密着力を実現する装置です。 510mm×610mm（最大730mm×920mm）の大型基板に対応し、基板2枚並行処理も可能です。 各種薄膜形成、シード層形成（過マンガン酸・無電解めっきからの置換）などの用途に適しています。 【特長】 ○精密有機パッケージ基板に最適 ○高い生産性 ...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社サーマプレシジョン
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◉ 大型製造装置設備を使わず、短時間で容易にグラフェン・CNT（SWN…
◉ コールドウオール式による高効率・高精度プロセスコントロール ◉ 急速昇温：RT→1100℃/約3分間 ◉ 高精度温度流量制御・再現性に優れたハイパフォーマンス機...◆特徴◆ ・簡単操作! 5inchタッチパネルによる操作・レシピ管理 ・最大30レシピ，30stepのプログラム作成可能 ・専用ソフトウエア標準装備，CSVファイルで出力PCでデータロギング ・USBケーブル接続，PC...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
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高速で動作！CPU動作周波数：最大100MHｚのCPUボードをご紹介！
当社は、ルネサス アライアンスゴールドパートナー登録会社です。 ルネサス独自のRX CPUコア、内部32ビットデータバス幅マイクロコンピュータ 3.3V 100MHz動作が可能なCPUボード『BCRX630_144』を取扱っています。 当製品は、12ビット分解能×21のA/Dコンバータと、 10ビット分解能×2のD/Aコンバータを搭載。 基板、部品、半田付け全ての工程でRoHS指...
メーカー・取り扱い企業： 有限会社ビーリバーエレクトロニクス
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SIBORコーティングは1600度まで酸化を防止します。 （プランゼ…
大気中では基材側で硬い拡散層が形成されると共に、大気との反応により表面に形成される SiO2層が部材における酸化の進行を防止しています。 SIBORコーティングを施したモリブデン部材は、モリブデン固有の耐熱性と耐食性に高温での耐酸化性能が付与されている為、ガラス炉における理想的な部材です。...SIBORコーティングは1600度まで酸化を防止します。 大気中では基材側で硬い拡散層が形...
メーカー・取り扱い企業： プランゼージャパン株式会社
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ドライとウェットの両プロセスから適した方法を提案！お客様の課題を解決し…
協同インターナショナルでは『エッチング受託加工』を承っております。 回路形成/テストパターン作製/表面改質/条件出し等に必要な、さまざまな エッチング加工のニーズにお応え。 ドライ(RIE、ICP)とウェットの両プロセスから適した方法を提案し お客様の課題を解決します。 【特長】 ■さまざまなエッチング加工のニーズにお応え ■フォトリソ～エッチング～レジスト除去までの一連...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社協同インターナショナル
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クロム膜や薄いガラスの金属膜、SiO2膜などのパターニングに対応してい…
当社は、『ウエットエッチングによる金属膜パターニング加工サービス』を 行っています。 金属膜多層配線をはじめ、クロム膜や薄いガラスの金属膜、SiO2膜などの パターニングに対応。 ご用命の際はお問い合わせください。 【特長】 ■金属膜多層配線のパターニング ・透明金属膜：ITO膜 ・白色金属膜：AL合金膜（W/10μm） ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社KISO WAVE
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チャンバーなどの半導体製造装置部材のコーティングに！シリカコート
金属に高純度シリカガラスをコーティング！酸化が抑えられ耐食性が向上！金…
チャンバーなどの半導体製造装置部材のコーティングに実績が多数ある『シリカコート Quartzace』では、 基材は金属、樹脂、ゴム、生体など、様々な基材に対応でき、基材の特長を活かしたまま、表面のみシリカガラスの特性が得られます。 例えば、金属にコーティングすれば、塩酸ガスなどに対してシリカガラスの優れた耐食性が得られます。 また、高温での金属の酸化も防ぐことが可能。 金属表面が合成石...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社コンタミネーション・コントロール・サービス
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建築部品や厨房用品などにおすすめ！優れた耐久性を有する、硬くて丈夫な塗…
『セラミック系塗装』は、当社がご提供する塗装サービスです。 硬度の高い無機質化粧膜が特長。SiO2を主成分とした無機質塗料で、 耐熱性・耐候性・耐薬品性に優れています。 さらに、優れた耐久性や高い防腐効果を有するほか、汚れがつきにくく 紫外線にも強いです。 建築部品をはじめ、フライパンなどの厨房用品に安心して使用できます。 【特長】 ■硬度の高い無機質化粧膜 ■各種...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社技研 本社
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自動塗布・露光・現像一貫プロセス装置（フルオートリソグラフィ）
レジスト塗布～露光～現像処理を一気通貫。自動で処理可能な装置です。フォ…
当製品は、スピンコーティング、一括等倍露光、現像処理を自動で行う装置です。HMDS処理、ベーク、クーリング機能を搭載可能。 設計から製造・販売まで自社で行い、コーター、アライナ、デベロッパのフォトリソ装置をラインナップしている当社だからこそ実現出来た装置です。 対応レジストは、ポジ・ネガレジスト、ポリイミド、など、多彩な薬液に実績があります。 Si（シリコン）、GaAs、InP、...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ
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2インチから12インチウェーハへの成膜が可能です。
株式会社エナテックのCZウェーハ 成膜加工は、膜種により2インチから450ｍｍウェーハへの成膜が可能です。 酸化膜系：熱酸化、RTO、LP-TEOS、HDP-USG、P-TEOS、PSG、BPSG、BSG、LP-CVD、PE-CVD 窒化膜系： HCD-SiN、DCS-SiN、P-SiN、LP-SiN 、LP-CVD、PE-CVD 金属膜系： TaN、Ta、Cu、Al、AlN、...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社エナテック 東京本社
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レンズ研磨技術を通して21世紀の情報通信産業に貢献致す所存でおります
株式会社neopは、レンズの試作・量産を行います。特徴は次の通りです。 ・小量多品種、試作、量産（月産／3000位）」「ピッチ研磨による高精度研磨に対応 ・SiO2、合成石英、各種難硝材に対応しております ・硝材手配、芯取り、コート、接合までお請けしております ・干渉計にてほぼ全数波面検査の上納入（凸：0～442R、凹：０～255R） ・面精度アスクセ0.25量産致して居ります ・...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社neop
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Guangdong Well Nanotech コロイダルシリカ
高品質低コスト コロイダルシリカ
Guangdong Well Nanotech社は、1998年に設立され、6つの生産拠点を持つ中国のコロイダルシリカサプライヤーのリーディングカンパニーです。同社の高品質なコロイダルシリカとCMPスラリーは、精密鋳造、セラミック、製紙、コーティング、触媒、電池、食品、研削、研磨など様々な産業で利用されています。 弊社では一部製品を国内にて在庫しております。詳細はお問い合わせください。 HS...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社パイロテック・ジャパン
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太陽電池セル量産用連続式常圧CVD装置 (AMAX1000S)
結晶Si太陽電池セル量産用 NSG(SiO2)/PSG/BSG膜成膜用…
AMAX1000Sは、「AMAX」シリーズの実績をもとに、太陽電池(セル)製造用に開発された連続式常圧CVD装置(APCVD装置)です。 【特徴】 ・156mm角/125mm角ウェハ対応 ・1500枚/hの高生産性 ・太陽電池用薄型ウェハ対応 【用途】 ・拡散/インプラ用ハードマスク, 犠牲膜(NSG) ・パッシベーション膜(保護膜・絶縁膜)(NSG) ・固相拡散用...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行
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真空蒸着は高真空中で金属や酸化物を加熱蒸発させて基盤表面にデポジション…
当社は昭和３０年代から真空蒸着の技術確立を実施しております。 代表的な蒸着金属はアルミニウムで、ガラス基板やプラスチック成型品の表面にデポジションを行い更にその上に電子ビーム蒸着にてSiO2やTiO2等の酸化膜をコートしてリフレクター等の高反射ミラーとして利用されています。...この技術は日本においても以前から実用化されていましたが、近年21世紀のキーテクノロジーとして新たに薄膜作成技術として注...
メーカー・取り扱い企業： 安達新産業株式会社 本社
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白金触媒によって、脱臭・脱煙・空気を浄化するセラミックハニカムフィルタ…
白金は、自動車の排ガス浄化にも用いられている触媒で、 ・ 高い活性を有する（反応を、より促進する） ・ 耐久性に優れる といった特長をもちます。 当社の酸化触媒・NAハニカムは、 セラミックハニカムに白金触媒を添着したフィルタで、 ハニカム構造体・担持体を用いることで 白金触媒による浄化処理を 低圧損・高効率で実現します。 ...【基本仕様】 寸法 ： □100mm ...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社長峰製作所 営業部
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WF加工、テストWF作成、貫通配線基板加工など！EB露光、DRIE、 …
当社は、半導体加工で培った豊富な知識と経験を基に、EB露光、DRIE、陽極接合をはじめとした 各種MEMS（Micro Electro Mechanical Systems〈微小電気機械システム〉）加工受託サービスをご提供しております。 開発品加工、要素技術加工、Si深堀エッチング、各種成膜など幅広く対応いたします。 また、弊社ではミニマルファブについても取り組んでおります。 TSV形成におけ...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社M.T.C
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新東独自の成形技術「浸透Vプロセス」で大型形状品や複雑形状部品の一体成…
浸透Ｖプロセスは、鋳造で用いられている「Vプロセス法」をセラミックスの成形に応用した技術で、 大型で複雑形状の部品をセラミックスで高品質に製作できる鋳込み成形技術です。 セラミックスの特性を活かし、半導体、FPD、電子部品をはじめとした製造／検査装置の部品から 超精密測定器具など、様々な分野で高い評価を得ています。 お客様の用途や課題に合わせ、材質選定からご提案いたします。 【特...
メーカー・取り扱い企業： 新東Vセラックス株式会社
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高レート イオンビーム・スパッタ高速成膜装置（HR-PVD）
誘電体、強磁性体成膜を高レートかつ高品位に高速成膜
従前のマグネトロンスパッタでは成膜レートが低くなるAl2O3、SiO2などの誘電体、 Feなどの強磁性体の成膜で力を発揮する高速イオンビームスパッタ（IBD)装置です。 ヘリコンプラズマソースをイオン源とし、そこから得られた高密度なイオンをターゲットへのバイアス電圧印加によって加速させる画期的な方法により、高レートかつ直進性の高い成膜を実現します。 ターゲット面全体を高効率で利用するため、貴重・...
メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社
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MAX400℃！高温ベーク対応レジスト塗布装置（スピンコーター）
BARCやその他薬液をスピン塗布後、MAX400℃でベーク可能！高温ベ…
当製品は、スピンコーティング、HMDS処理、高温ベーク（MAX400℃）、低温ベーク（MAX200℃）、クーリング機能を搭載。 低温ベークと高温ベークの組み合わせでステップベークも可能です。 レジスト以外での薬品でもスピン塗布後に高温ベーク可能！ その他、ポジレジスト・ネガレジスト、ポリイミド（PI）、シリコーン、SOG、WAXなどなど多数の薬液に実績ございます！ シリコン...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ
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長年の経験と蓄積された加工ノウハウ！化合物半導体加工向けに1300台以…
「プラズマ加工装置」は、光化合物半導体のプラズマ・エッチング・ 成膜装置です。 研究・開発から量産とシーンに適したシステムの提供が可能。 また、光電子デバイス製造に必要な幅広い材料を扱うように設計されています。 ご用命の際は、お気軽にお問い合わせください。 【用 途】 VCSEL、LED、μLED、Micro Lens、Wave Guide 【エッチング】 サファイア、...
メーカー・取り扱い企業： プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社
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刷毛伸びがよく作業性に優れた鋳鋼用アルコール性塗型剤！
『ハードミックス KS-2』は、作業環境の改善に貢献する鋳造用塗型剤です。 骨材のジルコンが鋳型へ深く浸透することにより、優れた耐火浸透層を 形成し、耐熱性や耐焼着、差込み等に効果を発揮。 また、刷毛伸びがよく作業性に優れています。 【特長】 ■耐熱性や耐焼着、差込み等に効果を発揮 ■PRTR法適用外 ■フラン、フェノール等の自硬性鋳型に適する ※詳しくはPDFをダ...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社ツチヨシアクティ 本社
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3インチ～12インチまで少量対応が可能です。 仕様により高抵抗基板・…
CZシリコンを使用したSOI以外にも、基板・デバイス層とも高抵抗FZシリコンを使用したSOIウェーハも対応可能です。 直径：3インチ～12インチ SOI層：2－200um程度（抵抗1万Ω以上など高抵抗対応可能） SiO2(酸化膜）層：0.5－2um程度(0.1-10umも対応可能） 支持基板：300-725um程度（直径によりますが抵抗1万Ω以上など高抵抗対応可能） ＊仕様によります...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社エナテック 東京本社
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2重構造チャンバによるメンテナンス負荷低減と内容積のコンパクト化を実現…
ワッティーが提供する実験・研究開発向け装置 2inch～8inchモデルまでの装置をご用意し、ユーザーニーズにお応え いたします。 また各種付帯設備をオプションでご用意しており、お客様の導入時の 設備導入負担を軽減します。 安全仕様・プリカーサ本数・プリカーサ導入方法・排気系統、あらゆる 項目についてカスタマイズのご要望にお応えいたします。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、...
メーカー・取り扱い企業： ワッティー株式会社
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1インチ以下～４５０ｍｍまで提供が可能です。各種成膜加工、ＦＺウェーハ…
弊社では、半導体製造装置テスト用のモニターウェーハ・ダミーウェーハ、太陽電池用単結晶シリコンウェーハ・太陽電池用多結晶ウェーハ・ＳＯＩウェーハ・拡散ウェーハなどを取り扱っております。 お客様の用途に合わせて適したウェーハをご紹介させていただきます。 CZウェーハは直径1インチ以下から450mmまでご提供が可能です。 また貴社でお持ちのウェーハにＥＰＩ成膜を行ったり、SOIウェーハへの加工など...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社エナテック 東京本社
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【ホットウオール式熱CVD装置】基礎研究に最適なコンパクトサイズ高性能…
◉ グラフェン, カーボンナノチューブ ◉ ZnOナノワイヤ ◉ SiO2等の絶縁膜など その他, ホットウオール式熱CVD装置として幅広いアプリケーションに対応...【特徴】 ◉ コンパクトなシステムでハイクオリティな成膜実験が可能 ◉ ホットウオール式 反応管内を均一に加熱 ◉ 4系統（CH4, Ar, H2, バブラー用）MFC高精度流量制御：精度±1% F.S. ◉ キャパシ...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
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新規材料への応用へつながる、奈良機械製作所の粒子の表面改質技術
奈良機械製作所では、粒子の表面改質や複合化を行うことにより、 従来にはない新規材料の創製や大幅な性能向上をもたらすことが可能です。 核となる粒子（母粒子）表面への微粒子（子粒子）の固定化や成膜化を、 3分程度と極めて短時間で行うハイブリダイゼーションシステム。 原材料の組み合わせによって非常に幅広い分野で活躍中です。 また、各種材料のナノ粒子を生成し、その場で微粒子表面にコーティング...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社奈良機械製作所
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卓上タイプエッチング・成膜装置『Plasma POD シリーズ』
教育機関や小規模施設などに！タッチパネルで簡単操作が可能な卓上型システ…
『Plasma POD シリーズ』は、小型でコンパクトな 卓上タイプエッチング・成膜装置です。 設置スペースに限りがあり、低コストでエッチング・成膜装置の 導入をご検討されている方にお勧め。 ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■装置最大サイズ 80cmx80cmx80cm(高さ） ■タッチパネルで簡単操作 ※英語版カタログをダウンロードいただけま...
メーカー・取り扱い企業： プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社
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平滑なエッチング面と高い加工精度を実現！サンプルテスト対応いたします！
『SERIO』は、Si深掘り、石英の垂直加工、有機膜のエッチングなど 幅広い用途に対応する高密度プラズマエッチング装置です。 実績豊富なICPプラズマ電極を搭載し、平滑なエッチング面と高い 加工精度を実現。スキャロップの無い平滑なエッチングが可能で、 ナノインプリントモールドの作成に適しています。 平滑なエッチング側面、加工面の垂直性、開口部の角度制御などナノイン プリントモールドに必要な多く...
メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店
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『AGXシリーズ』 硬質材料、セラミック向け撹拌擂潰機 自動乳棒
分散、攪拌、すり潰し、混合、練合わせの相乗作用により優れた加工を行う機…
【特長】 ・石川式撹拌擂潰機の特徴そのままに、杵をモータで強制回転させることでより高い擂潰性能を有する。 ・粘度の高い材料の撹拌擂潰にも好適 ・『AGXシリーズ』は、移動に便利な卓上型（AGB型）の他に、足がついている自立型（AGA型）や脱泡や空気との反応を避けた環境での攪拌擂潰が可能な真空型（AGZ型）もあります。 ・卓上型（AGB型）は研究開発分野での実験に適し、ドラフトチャンバー内で...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社石川工場
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Mipox WaferEdgePolisherはSIウエハメーカー、再…
テープ・エッジ・ポリッシャーのメリット ・ウェーハへのダメージが少ない ・ウェーハエッジ上の膜(例：SiO2)の除去が可能 ・ケミカルフリー加工 ・ユーティリティーの接続が簡単 ・様々なエッジ形状の成形が可能 ・粗削りも細かい研磨も可能 ・トップエッジ研磨が可能 ・SiCやGaNなどの難削材料も研磨可能 ・ノッチ、オリフラにも対応可能...STD(NME)タイプ 6,8,12イ...
メーカー・取り扱い企業： 兼松ＰＷＳ株式会社
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50種類以上もの薄膜コーティングを1個からでも対応可能！宇宙開発技術か…
イオンプレーティング法は、真空蒸着法の発展型です。 真空蒸着法と同じように、膜にしたい材料を真空中で蒸発（あるいは昇華）させ、ガラスやシリコンウエハーなどの基板上に堆積させます。 イオンプレーティング法の特徴は、蒸発粒子をプラズマ中を通過させることで、プラスの電荷を帯びさせ、 基板側にマイナスの電荷を印加することで、蒸発粒子を引き付けて基板上に堆積させて、薄膜を形成する方法です。 ...
メーカー・取り扱い企業： 東邦化研株式会社
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＜30W（制御精度10mW）低出力RFエッチングによる、精細でダメー…
【nanoETCH（ナノエッチ）】Model. ETCH5A ＜30W（制御精度10mA）低出力RFエッチングによる、精細でダメージレスなエッチング処理を実現。 2010年グラフェン発見でノーベル賞受賞者率いる マンチェスター大学グラフェン研究グループとの共同開発製品。 ...【特徴・主なアプリケーション】 • 2D（遷移金属カルゴゲナイド, 材料転写後のグラフェン剥離）：表面改質...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
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当社の全ての技術の基礎となり、ナノオーダーの仕上げを実現！多種多様な材…
当社の『単結晶 研磨加工技術』の実績をご紹介いたします。 創業当時から積み上げてきた結晶研磨加工技術。当社の全ての技術の 基礎となり、ナノオーダーの仕上げに対応可能。 潮解性のある材質から、酸化物・金属単結晶にもご対応いたします。 【単結晶研磨加工の工程】 ■原石の方位出し（原石から結晶方位を確認） ■結晶方位の軸だし（ご指定の軸を確認し、面出し作業） ■形成加工（バリ...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社クリスタル光学
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お客様のご要求される表面粗さを確保し常温接合を可能と致します
当社では『接合前CMP受託加工』を承っております。 接合前CMPの加工実績の一例として、半導体及び化合物半導体で使われる材料 Si、Cu、W、Ta、TaN、SiO2、TEOS、GaAs、SiC、GaN、InP 同種接合及びこれら相互の異種材料接合が可能です。 CMP受託加工でお客様のウェーハを処理する以前に、多数の自社実験から 裏付けされた確かな技術でお客様のニーズにお応え致しま...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社D-process
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高品質・低価格・短納期！様々な仕様（波長、入射角、基板材質など）で1品…
当社では、培ってきた成膜技術、精密洗浄技術、光学測定技術、 分析技術を活かして様々な仕様（波長、入射角、基板材質など）で 1品の試作から量産まで対応いたします。 高品質・低価格・短納期で対応します。お気軽にご相談ください。 【概要】 ■波長：波長紫外域、可視域、近赤外域 ■蒸着材料：誘電体酸化物（TiO2、Ta2O5、Nb2O5、Al2O3、SiO2等） 金属（Au、Cu、...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社オプトクエスト 本社工場
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卓上型で実験機に最適。杵をモータで強制回転させる機構を採用し、より高い…
【特長】 ・石川式撹拌擂潰機の特徴そのままに、杵をモータで強制回転させることでより高い擂潰性能を有する。 ・卓上型なので研究開発分野での実験に適し、ドラフトチャンバー内での使用も可能。 ・鉢・杵の材質として、めのう、アルミナ、炭化タングステンを用意しており、お客様の要望に応じた鉢・杵材料を選択可能。 ・防護カバーを標準搭載しており、粉塵の飛散を抑制。 ・また、インターロック機構を搭載して...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社石川工場
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豊富なプロセスレシピを持ちながらも非常に小型な原子層堆積装置
コンパクトな卓上型ALD。 半導体デバイス、有機太陽電池、ナノワイヤー、量子ドットなどへの成膜により、表面保護や改質など様々なデバイス開発にご使用いただけます。 プロセスはALD・CVDの材料開発拠点で開発されたもの。 順次レシピを増やしてゆき、新規のプロセス開発も承っております。...設置面積：48x48cm 基板サイズ： 最大4インチ プレカーサー材料：５系統 方式：ホットウォール...
メーカー・取り扱い企業： ALDジャパン株式会社
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デバイス量産へ、優れたプロセス品質、信頼性、高スループットを提供！
Morpher ALDシステムは、業界標準の枚葉ウエハ真空クラスタプラットフォームを組み込み、ウエハバッチを完全自動処理するように設計されています。 米国特許取得済みのウエハバッチフリップ機構により、他の半導体製造ラインとのシステムの統合が可能で、またSEMI S2/S8認定により、当システムが業界の最も厳しい規格と互換性があることが保証されています。 Morpher ALDシステムは、...
メーカー・取り扱い企業： PICOSUN JAPAN株式会社
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完全な火炎耐性で96％以上の高シリカ純度！高温環境にあるホースやケーブ…
『シリカフレックススリーブ』は、アモルファスシリカファイバー糸で 出来ており、「シリカフレックスブランケット」と同じ耐熱性を有します。 シリカフレックスファイバーは塩酸、燐酸、強アルカリを除いた殆どの エ業界化学物質に対し耐性を保有。 完全な火炎耐性で96％以上の高シリカ純度は、高温環境にあるホースや ケーブルを保護します。 【特長】 ■高温打撃を何回受けても、強力で柔軟性に富んでいる ■...
メーカー・取り扱い企業： 水島ゴム工業用品株式会社
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