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21件 - メーカー・取り扱い企業
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【MiniLab(ミニラボ)】シリーズフレキシブル薄膜実験装置
PRモジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…
【フレキシブルシステム】 MiniLab薄膜実験装置シリーズは、豊富なオプションから必要な成膜方法・材料に応じて都度、ご要望に適したコンポーネント(成膜ソース、ステージなど)、制御モジュールを組み込み、カスタマイズ品でありながら無駄の無いコンパクトな装置構成を容易に構築することができます。モジュラー式制御ユニットをPlug&Play 感覚で装置を構成することにより応用範囲が広がり、様々な薄膜プロ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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PR上下水・河川のレベル計測、及び潮位計測に好適。 ※御手頃価格です。
■電波計(マイクロ波式、技適認証番号:209-J00487) ■計測レンジ:8m、20mの2機種 ■周波数:63GHz ■ビーム角度:6° ■外径寸法:135mm(高さ) x 102mm(直径) ■重量(センサ本体):1kg ■精度:2mm ■起動時間:ウォームブート5秒、コールドブート10秒 ■IOT接続に好適(河川レベル計測等) ■大気圧稼働温度:-40 °C ~ +80 ...
メーカー・取り扱い企業: デレーコ・ジャパン株式会社
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6,8インチウェーハ対応ソルダーバンプ形成用N2リフローシステム
『NRY-101V6W/LU』は、半田ボール搭載後または印刷後のバンプ形成用 N2リフロー装置です。 加熱方式はホットプレートと上部遠赤外ヒーターの併用。 直接熱伝導により温度分布の均一化が図れます。 【...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社大和製作所
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本製品は運びやすい卓上サイズ。外注に依頼することなく、試作基板が作れる…
VOLTERA社製電子回路プリンタ基本スペック: 装置寸法/重量:L257×W390×H207(mm)/7kg ヒーター能力:最大240℃ 昇温2℃/s ※ワークスペース上でインク焼結、はんだリフローが可能 電源容量:100~120VAC 4.7A(50/60Hz)5...
メーカー・取り扱い企業: テクノアルファ株式会社
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ギ酸ガス・水素ガス還元両対応!鉛フリー、ボイドレス、フラックスレスを実…
【仕様】 <RSO-300> ■装置サイズ:578×490×570mm(W×D×H) ■装置重量:約70kg <RSO-200> ■装置サイズ:505×505×570mm(W×D×H) ■装置重量:約55kg ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお...
メーカー・取り扱い企業: ユニテンプジャパン株式会社
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高効率断熱構造(インナージャケット)!遠赤外線と温風バランスによるチッ…
【仕様(一部)】 ■外形寸法:6510(L)×1060(W)×1440(H) ■パスライン:900±20mm ■搬送速度:0.2~1.6m/min ■対応基板寸法:50mm~400mm(W)×100mm~400mm(L) ■部品高さ:基板上20mm...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社弘輝テック
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100V電源対応!Φ4inch、100mm角対応で業界最小クラスのコン…
、フラックスレスを実現した はんだリフロー装置です。 タッチパネル搭載多機能で、大気・窒素・真空・ギ酸・水素などの 各リフローに1台で対応。 装置サイズは260×420×220mm(W×D×H)で、装置重量は約10kgです。 【標準ハードウエア仕様(一部)】 ■有効対象物サイズ(W×D×H):105mm×105mm×35mm ■最大到達温度:400℃ ■最大昇温速度:...
メーカー・取り扱い企業: ユニテンプジャパン株式会社
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近赤外線による加熱方式を採用!酸素濃度を測定しながらのリフロー状態の観…
【仕様】 ■加熱ステップ数:任意に可変可 ■最高使用温度:350℃ ■加熱方式:近赤外線加熱 ■冷却方式:Air又はN2による空冷方式 ■最大基板サイズ:150×150 ■炉内有效寸法:W150×D150×H95 ■電源電庄:単相200V 15A ■設備寸法:[本体]W400×L550×H400 [制御盤]W400×L400×H200 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社九州日昌
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世界最小クラスのリフロー炉(TRF-95)ついに販売開始! ~ 卓上…
【特長】 ■小型軽量リフロー炉(外形:W110mm×D127mm×H16mm 重量346g) ■ホットプレート付リフロー装置(外形:W194×D292×H110mm 3.2Kg) (推奨ホットプレート:アズワン CHP-170DFと...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社タイセー 本社
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特殊フィルタで簡単メンテナンスを実現!熱風/微熱風/微熱風+遠赤の使い…
【仕様(一部)】 ■外形寸法:6510(L)×1060(W)×1440(H)mm ■パスライン:900±20mm ■搬送速度:0.2~1.6m/min ■対応基板寸法:50×100~400×400(W×L)mm ■部品制限:基板上面30mm/下面2...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社弘輝テック
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熱風式リワークステーション XRS-100【デモ機無料貸出可】
RoHS2対応・ハイパワーヒーター1,000W。消し忘れを防ぐ、自動で…
●型番:XRS-100 ●定格電圧:100V AC 50/60Hz ●消費電力:1,000W ●風量範囲:Max 130 L/min ●電源コード長:1.5m (インレット3芯コード) ●温度設定範囲:100–480˚C ●絶縁抵抗:10MΩ以上(500V DC) ●ヒーター:ニ...
メーカー・取り扱い企業: 太洋電機産業株式会社
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Mサイズ(W260)基板対応鉛フリー窒素リフロー装置
【ラインアップ】 ■NRY-626S-8Z ■NRY-626S-8Z/W ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お問い合わせください。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社大和製作所
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L500×W400基板サイズ対応!株式会社VEMSの生産設備をご紹介し…
『Nj0611M82-RLF』は、L500×W400の基板サイズに対応している N2リフロー装置です。 加熱8ゾーン、冷却2ゾーン。 ご用命の際は、当社へお気軽にお問い合わせください。 【生産工程】 1.SMTライン構成 ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社VEMS
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次世代のプロセスに対応し、ボイドレスを実現するバッチ式真空加圧リフロー
【仕様(抜粋)】 ■装置寸法:108(W)×86(D)×104(H)cmモニタ含む ■重量:455kg ■電源:三相208-240V 50/60Hz 50A ■制御温度:100~500℃ ■加熱エリア:305×305mm ■チャ...
メーカー・取り扱い企業: テクノアルファ株式会社
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タッチパネル搭載多機能!大気、窒素、真空、ギ酸、水素などの各リフローに…
【標準ハードウエア仕様(一部)】 ■有効対象物サイズ(W×D×H):620mm×200mm×25mm ■最大到達温度:300℃ ■最大昇温速度:120K/min(2K/sec) ■加熱方式:赤外(IR)光ヒーター ■最大降温速度:60K/min(...
メーカー・取り扱い企業: ユニテンプジャパン株式会社
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ついに販売開始! ~超小型の真空リフロー炉~
【特長】 ■真空環境で電子部品・配線基板の電極・半田の酸化を防止してリフローが可能 ■N2等の不活性ガス雰囲気を長時間維持 ■徹底したコンパクト設計 [サイズ 外形:W145mm×D153mm×H31mm (※ホットプレートは含まず)] により卓上での真空環境や窒素パージしてのリフローが可能 ■超軽量設計 [3.7Kg(リフロー炉+ホットプレート)] で、容易に...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社タイセー 本社
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インターネプコンにも出展!大型製品にも対応した新製品のご紹介 <サン…
田付けを実現 3.低酸素濃度(5ppm以下) 4.急速加熱・急速冷却だけでなく、ステップ加熱や徐冷にも対応 5.バッチ〜中量生産産~大量産まで豊富なラインナップ 【主仕様】 処理寸法:W310×D320×H150mm(バッチ式) 処理温度:100℃〜450℃ MAX500℃ 雰囲気:N2・H2・蟻酸 もしくは真空 真空系:到達圧力1Pa ◎より詳しい掲載内容につきまして...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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重さ390gと小型で軽量なうえ、ローコストでスキマの風速・風温が計れま…
【仕様】 ■本体サイズ:158.5(W)×99(H)×28(D)mm ■重さ:390g ※詳しくは、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: トーニック株式会社
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パワーモジュール金属基板リフローのボイド処理可能!
『NRY-703WSZ/VA』は、単槽(1ゾーン)で予熱、昇温、冷却までが 可能な単槽式真空リフロー装置です。 浮遊ガス抽出加熱(特許第5576577号)により、反りや撓みの影響なく 熱処理が可能。 ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社大和製作所
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コンベアからコンベアへの乗り移りをスムーズに!高さ調整が可能
■対応ワーク:Φ30mm~Φ120mm ■コンベア速度:11mm/秒~500mm/秒 ■ユーティリティ:電源 100V(50/60HZ) ■パスライン:800mm±100mm ■機械寸法:(W)469mm×(D)963mm×(H)878mm~1,078mm ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社スキルエンジニアリング
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200・300mmウェーハ対応ソルダーバンプ形成用N2リフローシステム
『NRY-103V6W/LU』は、メッキバンププロセス後のウェットバック装置としても 対応可能な200・300mm印刷バンプ対応N2リフロー装置です。 プリヒートゾーンのホットプレートピンは、当社独自の昇降式ピン...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社大和製作所
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ギ酸ガス・水素ガス還元両対応!タッチパネル搭載多機能のはんだリフロー装…
0mm角対応で、鉛フリー・ボイドレス・フラックスレスを実現。 大気・窒素・真空・ギ酸・水素などの各リフローに1台で対応出来ます。 【標準ハードウエア仕様(一部)】 ■有効対象物サイズ(W×D×H):155mm×155mm×35mm ■最大到達温度:400℃ ■最大昇温速度:100K/min(約1.7K/sec) ■加熱方式:カートリッジヒーター ■最大降温速度:100K/m...
メーカー・取り扱い企業: ユニテンプジャパン株式会社
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国内実績No.1をもつ真空リフロー装置のスタンダード! <サンプ…
田付けを実現 3.低酸素濃度(5ppm以下) 4.急速加熱・急速冷却だけでなく、ステップ加熱や徐冷にも対応 5.バッチ〜中量生産産~大量産まで豊富なラインナップ 【主仕様】 処理寸法:W310×D320×H150mm(バッチ式) 処理温度:100℃〜450℃ MAX500℃ 雰囲気:N2・H2・蟻酸 もしくは真空 真空系:到達圧力1Pa ◎より詳しい掲載内容につきまして...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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