X10 | イプロスものづくり

PRスリップ・蛇行、歩留不良などのお悩みをロール交換のみで解決！加工・適用…

【展示会情報】『高機能素材Week 第12回 FILMTECH JAPAN（2024/5/8～5/10）』に出展します。 ■会場：インテックス大阪4号館　■ブース番号：14-15 ★非接触式衝撃波クリーナー"ウェイビー"による、持込ワークのクリーニングデモも実施いたします。 ※デモ実施対象：厚さ～150μm、100x150mm程度までの寸法のフィルムロール表面に一様かつ微細な溝加工を施した当...

メーカー・取り扱い企業：若水技研株式会社

無人フォークリフト『SE15/X1』

PRインテリジェンス・ロジスティックス・ソリューション！レーザーSLAM式…

当社で取り扱っている無人フォークリフト『SE15/X1』をご紹介いたします。「SE15」は、生産効率の向上のため、24時間安定した稼働が可能。レーザーSLAM式ナビゲーションで自主走行、停止精度±10mmを実現。また、「X1」は、専門家不要でお客様にて設定が可能です。本体に制御システムを搭載しているため、単体で稼働できます。【特長】＜SE15＞ ■24時間安定...

メーカー・取り扱い企業：株式会社マキテック

【SHシリーズ基板加熱ヒーター】真空成膜用 Max1100℃

CVD, PVD（蒸着, スパッタ, PLD, ALD等）均熱性・再現…

ヒータープレートにインコネルもしくはBNプレートを採用した、熱放射効率が良く、均熱性に優れた成膜装置・真空薄膜実験用高真空対応ホットプレートです。【ラインナップ】 ◎ SH-IN（インコネルプレート）：φ1.0〜φ6.1inch 真空・O2・活性ガス用 ◎ SH-BN（BNプレート, Moカバー）：φ2.1〜φ6.1inch 真空・不活性ガス用【特徴】 ◎ 最高温度1100℃...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

【Nanofurnace】BWS-NANO 熱CVD装置

【ホットウオール式熱CVD装置】基礎研究に最適なコンパクトサイズ高性能…

◉ グラフェン, カーボンナノチューブ ◉ ZnOナノワイヤ ◉ SiO2等の絶縁膜などその他, ホットウオール式熱CVD装置として幅広いアプリケーションに対応...【特徴】 ◉ コンパクトなシステムでハイクオリティな成膜実験が可能 ◉ ホットウオール式反応管内を均一に加熱 ◉ 4系統（CH4, Ar, H2, バブラー用）MFC高精度流量制御：精度±1% F.S. ◉ キャパシ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

放熱単結晶ラボグロウンダイヤモンド

3.0x3.0mmから10.0x10.0mmまでのサイズをラインアップ…

当社が取り扱う『単結晶ラボグロウンダイヤモンド』をご紹介します。横は+0.2/0-0mm、厚さは+/-0.05mm。材料特性は、ホウ素濃度[B] <0.05ppm、窒素濃度 <1ppmです。 3.0x3.0mmから10.0x10.0mmまでのサイズをご用意しております。【仕様と公差（一部）】 ■横：+0.2/0-0mm ■厚さ：+/-0.05mm ■結晶方位(ミスカ...

メーカー・取り扱い企業：合同会社SUPERHARD JAPAN

多結晶メカニカル

0.25mmと0.50mmの厚みをラインアップ！多結晶メカニカルのご紹…

当社が取り扱う『多結晶メカニカル』をご紹介します。破壊靭性は8.5MPa、硬度は80±18GPa@300K。横の許容は+0.2/0-0mm、厚さの許容は+/-0.05mmです。サイズは10.0x10.0mmで、厚みは0.25mmと0.50mmをご用意しています。【仕様と公差】 ■横の許容：+0.2/0-0mm ■エッジ：レーザーカット ■端の特長：<0.2mm ...

メーカー・取り扱い企業：合同会社SUPERHARD JAPAN

LEMO■半導体製造装置用コネクタ

「過酷な環境下の使用」にも耐えるLEMOコネクタ。その信頼と実績により…

LEMOコネクタは、振動・引っ張り・ねじれ・衝撃などにさらされる過酷な環境下での使用に十二分に耐え、狭い場所での作業や短時間での作業などに特に有効に働いています。またステッパーからロボット化した試験装置といった幅広いレンジの装置で数多くのモデルが半導体製造装置で採用されています。 ■下記のような環境下でも使用出来るコネクタをお探しの際は是非お問合せ下さい。・高密度...

メーカー・取り扱い企業：丸紅エレネクスト株式会社

ECRプラズマ成膜装置『AFTEX-6000シリーズ』

複数材料の多層膜が成膜可能！高品質・高結晶性の薄膜形成ができる成膜装置…

『AFTEX-6000シリーズ』は、低圧で高密度のECRプラズマ流と、スパッタ粒子を直接反応させることにより、低温・低ダメージで高品質の薄膜を形成します。 ECRプラズマ源2基を搭載し、全自動搬送・成膜ができ、多層膜形成に最適。【特長】 ■広範囲な膜種による多層成膜 ■高屈折率制御が可能 ■高速で成膜が可能 ■低温・低ダメージで高品質、高結晶性 ■基板および成長面のクリ...

メーカー・取り扱い企業： JSWアフティ株式会社

スパッタリング装置『nanoPVD-S10A』

高機能コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…

高機能ハイパフォーマンス RF/DCマグネトロンスパッタリング装置 ● 到達圧力5 x 10-5Pa（*1x10-4Paまで最速30分！） ● スパッタ源 x 3：連続多層膜膜制御, 同時成膜 ● 膜均一性±3% ● 多彩なオプション：上下・回転、ヒータ、磁性材用カソード、他 ◉ nanoPVDは、最大スパッタ源3源+3系統（MFC制御）、RF/DC PSUの増設（最大2電源まで）...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

アニール炉『ANNEALウエハーアニール装置』

Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"、又は6"基板…

高真空水冷式SUSチャンバー内に設置した加熱ステージにより最高1000℃までの高温処理が可能です。チャンバー内にはヒートシールドが設置されインターロックにて安全を確保。マスフローコントローラは最大3系統まで増設が可能、精密に調整されたプロセスガス圧力での焼成作業が可能です（APC自動プロセス制御システムオプション）。又、フロントビューポート、ドライスクロールポンプ、特殊基板ホルダー、熱電対増設...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

真空環境用ウエハ搬送ロボット『UTVW-R2800H』

【～300mmウエハ用】旋回軸にダイレクトドライブモータを採用！高…

■Z軸が標準搭載されているダブルアームタイプの真空用ウエハ搬送ロボット ■θ軸にダイレクトドライブモータを採用し、ウエハを低振動で搬送することでスループット向上に貢献 ■CVD装置、アニール装置など、高温プロセス装置に対応 ■可搬重量2kgのため、重量物搬送にも対応 ■ウエハセンター位置ずれ補正機能付き ※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。 ...【仕様】 ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ダイヘン

◆nanoPVD-T15A◆ 高性能有機膜・金属膜蒸着装置

限られたラボスペースを有効活用できる小型ベンチトップサイズ装置に、最新…

OLED, OPV, OTFT等の有機材料用・温度応答性/安定性に優れた高性能有機ソースLTE（最大4源）、交換・メンテナンスが容易に行える金属蒸着ソースTE（最大2源）を採用、手動運転モードから、自動連続多層膜、同時成膜の自動モードでの運転も可能です。コンパクトサイズにも関わらず、基本性能・膜質・均一性・操作性の全てを犠牲にせず、スタンドアローン大型機と同様の性能を実現しました。更に...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

LECTROPOL-5

様々な材料に適した10種類の研磨/エッチング条件を内蔵！短い研磨時間と…

『LECTROPOL-5』は、マイクロプロセッサの自動制御による材料微細構造検査用試料の電解研磨と電解エッチングを行う製品です。パラメーター値の調整を簡単にできるスキャン機能を装備。ポリシングテーブルに試料を置き、事前設定された電圧の範囲でスキャンして、電流密度曲線を描きます。この曲線を参照して、電解研磨と電解エッチングの適正な電圧を設定できます。【特長】 ■...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ストルアス

真空炉『Mini-BENCH 超高温卓上型実験炉』

卓上小型サイズ実験炉・省スペース最高使用温度2000℃！還元雰囲…

◉ 卓上サイズ省スペース：328(W) x 220(D) x 250(H)mm（*2inch用チャンバー参考値） ◉ るつぼ内サンプル焼成用（るつぼΦ50 x 100）, 又はΦ1"〜Φ4"ウエハー焼成用フラットヒーター ◉ ハイスペック&ハイコストパフォーマンス ◉ シンプルな構成、優れた操作性実験室での小片試料の超高温加熱実験、新素材研究開発などのさまざまな試料加熱実験が、簡単...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

真空炉『Mini-BENCH-prism 超高温実験炉』

最高使用温度2000℃ セミオート制御超高温実験炉（カーボン炉、…

◉最高使用温度 Max2000℃ ◉PLCセミオートコントロール卓上型Mini-BENCHのセミオート制御式上位機種「真空引き」「ガス置換」「ベント」の各工程を自動制御（ガス流量→ニードルバルブにて手動調整） ◉作業中の安全を確保冷却水異常・チャンバー温度異常・過圧異常を監視SUS製堅牢な水冷チャンバー、最高温度で連続使用中でも安全にご使用いただけます。 ◉小型・省スペース ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

超高真空用ビューイングポート　Glass 7056

最新のグラス-メタル接合技術を使用した、超高真空用ビューイングポート

コストパフォーマンスの良いグラスビューイングポートです。 ■コーニング社の Glass 7056（コバール封着用ホウケイ酸ガラス）を使用 ■最新のグラス - メタル接合技術を使用しています。 ■ハウジングはICF・NWフランジから選べます（真空度・耐熱温度は異なります）。...【特長】 ○コーニング社の Glass 7056（コバール封着用ホウケイ酸ガラス）を使用 ○最新のグラス...

メーカー・取り扱い企業：有限会社テクサム

MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉2000℃

SiC3, TiC3コーティングヒーター採用：様々なプロセス環境に対応…

■Max2000℃（真空中1x10-5Torr, N2, Ar） ■3種類のヒーター材質：・高純度グラファイト：Φ6〜Φ8inch ・SiC3（炭化珪素）コーティング：Φ4〜Φ8inch ・TiC3（チタン・カーバイド）コーティング：Φ4〜Φ8inch ■使用雰囲気：・真空・不活性ガス（グラファイト）・還元雰囲気（TiC3コーティング） ■試料台サイズφ4inch〜φ8inc...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

高電圧ハーメチックコネクタ

ハーメチック構造で最大DC20KVの通電ができる小型コネクタです。

◆機能・定格電圧20kVDC ・小型形状で軽量・ワンタッチロックのバヨネットカップリング・お客様でケーブルアセンブリが可能 (※ケーブル付きでの製作も承ります) ・RoHS対応同軸型高電圧コネクタは、内部に凹凸の構造を持たせることで、小型でありながらも最大限の耐電圧性能を発揮するように専用設計されております。これにより非常に高い耐電圧性能を持ち、且つバイヨネットカップリング...

メーカー・取り扱い企業：株式会社グローブ・テック

超高感度DLTS　バルク内欠陥・界面準位測定装置

不良及び結晶欠陥の解析に有効！幅広いクライオスタット用のインターフェイ…

『DLS-83D/1000』は、温度、周波数スキャン、C-V特性等の測定が可能なバルク内欠陥・界面準位測定装置です。「DLS-1000」は、10^8cm3レベルのバルク内欠陥、界面準位の高感度な測定に対応。ライブラリーを標準装備しておりますので解析が容易に行えます。高感度アナログ／デジタル（測定はアナログ、データ処理はデジタル）ロックイン平均法を採用したユニークなシステ...

メーカー・取り扱い企業：日本セミラボ株式会社新横浜本社

Aera FC-DR980　デジタルマスフローコントローラ

優れた汎用性を備え、多くのシステムに対応する先進のデジタルMFC/MF…

既存の主な制御方式および通信方式に合わせて使用するため、様々な出力形態に応じてアナログまたはデジタル制御を行います。本製品には、お客様のご要望に応じて、シングルガスモデル、マルチガス・マルチレンジモデルをご用意しています。マルチガス・マルチレンジモデルは、スペアMFCの在庫の大幅削減に寄与する事でコストダウンを図っています。また、流量のモニタリングと制御を総合的に行うため、RS-485通信機能...

メーカー・取り扱い企業：日立Astemo＆ナガノ株式会社

Aera FC-R7700シリーズ　マスフローコントローラ

経済性に優れた高精度ラバーシール

半導体、FPD、データ記憶装置、産業用真空機器、工業用コーティング等の市場では、CVD、PVD、エッチング、イオン注入、スパッタリング、熱酸化膜、光学ガラスコーティング、光ファイバー、表面処理、その他のコーティングプロセスを含め、非腐食性ガスを使用したアプリケーションが展開されています。 FC-R7700シリーズは、高い信頼性と優れた性能でプロセスおよび装置エンジニアの業務の円滑化に対応いたしま...

メーカー・取り扱い企業：日立Astemo＆ナガノ株式会社

精密溶接加工実績　ステンレス

極薄板溶接40年の経験と確かな技術力　精密溶接加工実績【ステンレス】

精密溶接（箔溶接・極薄板溶接）で、あらゆる分野の精密溶接加工をお手伝いした実績紹介です。ステンレスの精密加工実績をご紹介します。 ↓↓詳しくはお問合せ、またはカタログをダウンロードしてください↓↓...【実績一例】 ◆ＩＣＦフランジ（SUS304)・ベローズ(SUS316L)の気密溶接【仕様】CF203フランジ　溶接ベローズφ150 【用途】　超高真空装置【リークレート】...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ニッセイ機工

サファイア真空覗き窓(ビュ-ポート）

特許的な異質材質溶接技術で溶接しているサファイア真空覗き窓

日揚科技(Htc)、提供している真空覗き窓はサファイアの窓材を採用していますので、優れた光学品質を持っています。製品は光の透過率が80％以上も達します。特許的な異質材料を溶接技術でステンレスとサファイアを溶接して、良い真空気密性があります。製品はコバールなどの磁性材を使用しないため、周囲の磁力線を変更する恐れがありません。 ...製品特長 ◎窓材はサファイアを採用するため、光の...

メーカー・取り扱い企業：日揚科技股份有限公司

高荷重ウエハボンダー XB8

200mm対応，最大荷重100kNの高性能高荷重ウエハボンダー

ズース・マイクロテックの高荷重ウエハボンダー XB8は，最大荷重100kNの最新ウエハボンダーで，200mmまでの各種サイズ，材質のウエハおよび基板の処理に対応します。金属拡散接合，共晶接合/TLP接合，接着剤接合，フュージョン接合などの各種接合プロセスに柔軟に対応し，先端MEMS，LED，3Dインテグレーションなど，幅広いアプリケーションに最適なウエハボンダーです。...■ 対応ウエハサイズ...

メーカー・取り扱い企業：ズース・マイクロテック株式会社

【資料】真空コネクタソリューション

今後の装置に対して幅広いラインアップの気密封止型製品で「お客様の多様な…

レモのラインナップには真空気密レセプタクルと真空フィードスルーカプラーがあります。これらのモデルは、すべてのシリーズとサイズで提供可能であり、標準型タイプでは80℃までの温度で使用可能です。高温環境では、300℃までにおいて、気密ソリューションをカスタム品として提供出来ます。 He漏れ率は1×10⁻⁸ Pa ㎥/s （1×10⁻⁷mbar.ℓ/s）以下です。より低い漏れ率が必要な場合は、...

メーカー・取り扱い企業：レモジャパン株式会社

単結晶ラボグロウンダイヤモンド

3.0x3.0mmから10.0x10.0mmまでのサイズをラインアップ…

当社が取り扱う『単結晶ラボグロウンダイヤモンド』をご紹介します。横は+0.2/0-0mm、厚さは+/-0.05mm。材料特性は、ホウ素濃度[B] <0.05ppm、窒素濃度 <1ppmです。 3.0x3.0mmから10.0x10.0mmまでのサイズをご用意しております。【仕様と公差（一部）】 ■横：+0.2/0-0mm ■厚さ：+/-0.05mm ■結晶方位(ミスカ...

メーカー・取り扱い企業：合同会社SUPERHARD JAPAN

耐熱単結晶 CVD ダイヤモンド

3.0x3.0mmから10.0x10.0mmまでのサイズをラインアップ…

当社が取り扱う『単結晶ラボグロウンダイヤモンド』をご紹介します。横は+0.2/0-0mm、厚さは+/-0.05mm。材料特性は、ホウ素濃度[B] <0.05ppm、窒素濃度 <1ppmです。 3.0x3.0mmから10.0x10.0mmまでのサイズをご用意しております。【仕様と公差（一部）】 ■横：+0.2/0-0mm ■厚さ：+/-0.05mm ■結晶方位(ミスカ...

メーカー・取り扱い企業：合同会社SUPERHARD JAPAN

【nanoPVD-S10A】マグネトロンスパッタリング装置

高機能コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…

高機能ハイパフォーマンス RF/DCマグネトロンスパッタリング装置 ● 到達圧力5 x 10-5Pa（*1x10-4Paまで最速30分！） ● スパッタカソード x 3：自動連続多層膜, 2源同時成膜 ● 膜均一性±3% ● 多彩なオプション：基板回転・昇降、基板加熱（Max500℃）、磁性材用カソード、他 ◉ nanoPVDは、最大スパッタ3源+3系統（MFC制御）、RF/DC ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

成形ベローズ VG-VF 『CEV-10000』

真空配管用成形ベローズです。JIS規格真空フランジ付きです。

『CEV-10000』は、中日技研工業株式会社が取り扱う、真空配管用成形ベローズです。真空用の柔軟なベローズにJIS規格の真空フランジ（VG･VF）が付いた製品です。真空配管の寸法調整や誤差吸収、及び振動吸収用として使用できます。【特長】 ■バネ定数の小さい柔軟なベローズ ■製作口径：20A～300A ■製作全長（ L ）はご指示ください。 ■繰り返し耐久寿命が...

メーカー・取り扱い企業：中日技研工業株式会社

◆ANNEAL◆ ウエハーアニール装置

Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"、又は6"基板…

高真空水冷式SUSチャンバー内に設置した加熱ステージにより最高1000℃までの高温処理が可能です。チャンバー内にはヒートシールドが設置されインターロックにて安全を確保。マスフローコントローラは最大3系統まで増設が可能、精密に調整されたプロセスガス圧力での焼成作業が可能です（APC自動プロセス制御システムオプション）。又、フロントビューポート、ドライスクロールポンプ、特殊基板ホルダー、熱電対増設...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

真空蒸着装置『nanoPVD-T15A』

限られたラボスペースを有効活用できる小型ベンチトップサイズ装置に、最新…

OLED, OPV, OTFT等の有機材料用・温度応答性/安定性に優れた高性能有機ソースLTE（最大4源）、交換・メンテナンスが容易に行える金属蒸着ソースTE（最大2源）を採用、手動運転モードから、自動連続多層膜、同時成膜の自動モードでの運転も可能です。コンパクトサイズにも関わらず、基本性能・膜質・均一性・操作性の全てを犠牲にせず、スタンドアローン大型機と同様の性能を実現しました。更に...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

アニール炉『MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉』

SiC3, TiC3コーティングヒーター採用：様々なプロセス環境に対応…

◉Max2000℃（真空中1x10-5Torr, N2, Ar） ◉3種類のヒーター材質：・高純度グラファイト：Φ6〜Φ8inch ・SiC3（炭化珪素）コーティング：Φ4〜Φ8inch ・TiC3（チタン・カーバイド）コーティング：Φ4〜Φ8inch ◉使用雰囲気：・真空・不活性ガス（グラファイト）・還元雰囲気（TiC3コーティング） ◉試料台サイズφ4inch〜φ8inc...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

アニール炉『Mini-BENCH-prism 超高温実験炉』

最高使用温度2000℃ セミオート制御超高温実験炉（カーボン炉、…

◉最高使用温度 Max2000℃ ◉PLCセミオートコントロール卓上型Mini-BENCHのセミオート制御式上位機種「真空引き」「ガス置換」「ベント」の各工程を自動制御（ガス流量→ニードルバルブにて手動調整） ◉作業中の安全を確保冷却水異常・チャンバー温度異常・過圧異常を監視SUS製堅牢な水冷チャンバー、最高温度で連続使用中でも安全にご使用いただけます。 ◉小型・省スペース ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

Aera FC-R7800シリーズ　マスフローコントローラ

高精度・信頼性のメタルシールモデル

FC-R7800シリーズは、高精度の流量制御を行うだけでなく、メタルシールによる優れた高い気密性を備え、主要なガス制御アプリケーションに適したシステムです。業界標準またはAera独自の電気系接続部を選択できるため、利便性があり、既存のマスフローコントローラ（MFC）と素早く簡単に交換できます。...特長・高速応答性－設定値入力後1秒未満で流量安定・耐腐食設計・メタルシール採...

メーカー・取り扱い企業：日立Astemo＆ナガノ株式会社