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110件 - メーカー・取り扱い企業
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PR装置全体をコンパクト化し組立た状態で運搬する為設置工事を簡略化 !生…
『Deopo(デオポ)』は、従来の蓄熱燃焼式脱臭装置「RTO」の3塔式と回転式の 優れている要素を併せ持ち、ワンユニットにパッケージ化した装置です。 VOCの処理効率は98%以上、温度効率は95%以上の性能を持ち、従来品に比べ、 パージ部分の体積を最小にすることによりコンパクト化することが出来ました。 また、工場で組立した状態で運搬可能なサイズなので、標準装置の場合は 現地の荷降...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社サーマルプラント
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【SCREEN】”塗る”を極めたスリットコータ ※カタログ進呈
PRラボスケールでの高精度塗布を実現。低粘度から高粘度まで、実験・試作段階…
『リサーチコータ』は、液晶や有機ELディスプレー製造工程で 数多くの採用実績を誇る「コーターデベロッパー」の高度な塗布技術を ラボスケールに展開したスリットコータ(ダイコータ)です。 塗布部にはスリット式塗布装置「リニアコータ(TM)」を搭載。 1~10,000mPa・sの低粘度から高粘度の塗布材料を、ガラス基板、樹脂基板、 フィルム、金属箔など様々な基材に高精度にスリットコートでき...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社SCREENファインテックソリューションズ
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ナノテクノロジーの研究開発をサポートします。
MM3A-EMは、電子顕微鏡(SEM/FIB)装置内に取付けされます。微動モード(nm動作分解能)と粗動モード(長距離移動用)を併せ持ち、ナノスケールの超微細動作を広い領域で行えます。 ● 操作系にジョイスティック(PS2)を採用することで、誰にでも直感的な操作が出来ます。 ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社アド・サイエンス
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10nm分解能で位置決め。スローダウン機能搭載
10nmフィードバックステージと組み合わせて10nm分解能位置決め装置として使用できます。 ステージに内蔵されているリニアエンコーダからの位置情報をもとにフィードバック(フルクローズドループ)制御を行って...
メーカー・取り扱い企業: シグマ光機株式会社
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検査や研究を効率化!5nm分解能で位置決め制御ができます。
5nmフィードバックステージと組み合わせて5nm分解能位置決め装置として使用できます。 ステージに内蔵されているリニアエンコーダからの位置情報をもとにフィードバック(フルクローズドループ)制御を行ってい...
メーカー・取り扱い企業: シグマ光機株式会社
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リニアエンコーダ内蔵により1nm分解能で位置決め 可動範囲最大50mm
光学式リニアエンコーダに対して、1nm分解能と±2nmの再現性を実現した超精密位置決め装置(フィードバックステージシステム)。 ピエゾを利用した位置決め装置と比較し、 『安価』『簡単制御』『大きなストロークがとれる』ため、 幅...
メーカー・取り扱い企業: シグマ光機株式会社
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リニアエンコーダ内蔵により1nm分解能で位置決め 可動範囲最大50mm…
光学式リニアエンコーダに対して、1nm分解能と±2nmの再現性を実現した超精密位置決め装置(フィードバックステージシステム)。 真空度10^-4 Paまでの真空チャンバー内で使用できます。 ピエゾを利用した位置決め装置と比較し、...
メーカー・取り扱い企業: シグマ光機株式会社
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真空チャンバー内での位置決め用途に リニアエンコーダ内蔵により10nm…
ステージ内蔵の光学式リニアエンコーダに対して、10nm分解能と±20nmの再現性を実現した精密位置決め装置(フィードバックステージシステム)。 真空度10^-4 Paまでの真空チャンバー内で使用できます。 ピエゾを利用した位置決め装置と比較し、...
メーカー・取り扱い企業: シグマ光機株式会社
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1nmフィードバックステージ FS-1050UPX / XY
【精密位置決め装置】1nmの高分解能はそのままに、移動速度が早くなりま…
光学式リニアエンコーダを内蔵し、内蔵スケールの読み取り値に対して『1nm』分解能でクローズドループ制御が可能な精密位置決めステージです。 ストロークは『 50mm 』と長く、移動と精密位置決めが1台でできます。 フィードバックステージコントローラ『 FC-9...
メーカー・取り扱い企業: シグマ光機株式会社
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真空対応1nmフィードバックステージFS-1050UPX(V)
[真空対応]1nm高分解能・高再現性・高保持性を持った高性能位置決めス…
設計を実現 ○フルクローズドループ制御により高精度な繰返し位置決めが可能 ○テーブルサイズ:120mm×120mm ○テーブル移動量:50mm ○対応真空度:10-4Pa ○最小分解能:1nm ○最大移動速度:2mm/sec ○対応コントローラ:FC-911 □ 詳しくはカタログをご覧いただくか、お問い合わせください □...
メーカー・取り扱い企業: シグマ光機株式会社
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真空対応1nmフィードバックステージFS-1040UPX(V)
[1nm分解能]真空中で使用できるリニアエンコーダ内蔵ステージ
フルクローズドループ制御により高精度な繰返し位置決めが可能 ○テーブルサイズ:80mm×80mm ○テーブル移動量:40mm ○対応真空度:10-4Pa ○耐荷重:49N ○最小分解能:1nm ○最大移動速度:2mm/sec ○対応コントローラ:FC-911 □ 詳しくはカタログをご覧いただくか、お問い合わせください□...
メーカー・取り扱い企業: シグマ光機株式会社
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【精密位置決め装置】10nmの高分解能・高い位置決め再現性・位置決め後…
光学式リニアスケールをステージ中央に内蔵して検出誤差を少なくした高分解能位置決めステージです。 『 10nm 』分解能(*1)でストロークは『 50mm 』となっております。 自社開発リニアスケールと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、 位置決め後の位置保持性...
メーカー・取り扱い企業: シグマ光機株式会社
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【昇降ステージ】リニアエンコーダ内蔵により10nmの高分解能・高い位置…
光学式リニアエンコーダを内蔵した高分解能Z軸用位置決めステージです。 『 10nm 』分解能(*1)でストロークは『 5mm 』又は『 10mm 』を達成しております。 独自の設計により、Z軸にありがちなテーブル面の傾きの変化を極力抑えた構成になっております。 自社開発リ...
メーカー・取り扱い企業: シグマ光機株式会社
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1nmフィードバックステージ FS-1050SPX(MD)/XY
【精密位置決め装置】1nmの高分解能・高い位置決め再現性・位置決め後の…
光学式リニアスケールをステージ中央に内蔵して検出誤差を少なくした高分解能位置決めステージです。 『 1nm 』分解能(*1)でストロークは『 50mm 』となっております。 自社開発リニアスケールと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、位置決め後の位置保持性を備えて...
メーカー・取り扱い企業: シグマ光機株式会社
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1nmフィードバックステージ FS-1040SPX(MD)/XY
【精密位置決め装置】1nmの高分解能・高い位置決め再現性・位置決め後の…
光学式リニアスケールをステージ中央に内蔵して検出誤差を少なくした高分解能位置決めステージです。 『 1nm 』分解能(*1)でストロークは『 40mm 』となっております。 自社開発リニアスケールと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、位置決め後の位置保持性を備えて...
メーカー・取り扱い企業: シグマ光機株式会社
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【精密位置決め装置】リニアエンコーダを内蔵し、5nm分解能で動作する位…
光学式リニアスケールをステージ中央に内蔵して検出誤差を少なくした高分解能位置決めステージです。 『 5nm 』分解能(*1)でストロークは『 40mm 』となっております。 自社開発リニアスケールと自社独自のフィードバック制御回路によりフルクローズドループ制御を行っているため、高分解能、高い位置決...
メーカー・取り扱い企業: シグマ光機株式会社
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1nmフィードバックステージ FS-1020SPX(MD)/XY
【精密位置決め装置】1nmの高分解能・高い位置決め再現性・位置決め後の…
光学式リニアスケールをステージ中央に内蔵して検出誤差を少なくした高分解能位置決めステージです。 『 1nm 』分解能(*1)でストロークは『 20mm 』となっております。 自社開発リニアスケールと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、位置決め後の位置保持性を備えて...
メーカー・取り扱い企業: シグマ光機株式会社
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400~1700nmの近赤外線領域に高い感度を有するInGaA…
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回転機の過負荷保護に!KTRのトルクリミタ
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銅の溶接に適した波長のレーザー溶接です。2mm深さの溶接などが…
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キャスター付きで移動できる小型触媒式脱臭装置!触媒式だからこそ…
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半導体製造装置用サファイアカスタム品のご提案【技術データ進呈】
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Enapter社「AEM式水電解水素製造装置」
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