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25件 - メーカー・取り扱い企業
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PRはんだ不濡れ・はんだはじきのトラブル事例を多数収録。原因・解決策を分か…
はんだ付け不良の大きな原因のひとつは「はんだ不濡れ」です。 部品電極や基板パッドに溶融したはんだがなじまず、 正常に接合されない状態のことを言います。 この不良にフォーカスした事例集の第2弾を制作いたしました。 発生原因や対策など事例を交えて掲載した、 プリント基板の実装・はんだ付けに関わる方にとって必読の一冊です。 ※事例集は「PDFダウンロード」からすぐにご覧いただけます。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社弘輝(KOKI)
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ギ酸還元対応 卓上型真空リフロー装置『VSS-450-300』
PR課題解決事例を進呈中!ギ酸還元でボイドレス・フラックス残渣ゼロの高信頼…
『VSS-450-300』は、はんだリフローや酸化還元処理の他、ペーストの 焼結など、様々なアプリケーションにも柔軟に対応した 卓上型真空はんだリフロー装置です。 有効加熱エリアは300×300×50mmですので、高さのある部品実装にも 余裕で対応することができます。 【特長】 ■フラックスレスはんだ(還元方式)・フラックス入りはんだ両対応 ■卓上型サイズながら、最大到達温度...
メーカー・取り扱い企業: ユニテンプジャパン株式会社
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洗浄が必須とされていたのはなぜか。無洗浄はんだの洗浄需要などについて解…
当資料では、はんだの進化と洗浄についてご紹介しております。 なぜはんだ付けを行なった後、製品の洗浄が必要とされていたのか の解説や、無洗浄はんだを洗浄することはなぜ難しいのかについて掲載。 また、はん...
メーカー・取り扱い企業: ゼストロンジャパン株式会社
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【無洗浄はんだの洗浄】無洗浄はんだをなぜ洗浄する必要性があるのか
無洗浄はんだを洗浄する必要性について!プロジェクト改善事例をご紹介
無洗浄はんだは、電子部品実装の際に使用されるはんだの一種で、 洗浄工程が不要な特性を持っています。 無洗浄はんだは主に低活性なフラックスをベースとして構成され、 製品を組み立てた後にもフラックス残渣...
メーカー・取り扱い企業: ゼストロンジャパン株式会社
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はんだ接合後のフラックス残渣における 形態変化と洗浄性への影響について…
はんだペーストは、自動車産業などの高信頼性領域において、 ハロゲンフリー、高い濡れ性などの特性が要求されます。 しかし、高信頼性分野においては、無洗浄タイプであっても残渣フリーが 求められ、洗浄が必要とされる場面もあります。このペーストでは、 性能向上のため、従来の「溶解洗浄」では効果的な洗浄が難しい難溶性物質を 添加しており、洗浄における課題が見えてきました。 そこで、ペーストの開発者様と共同で洗...
メーカー・取り扱い企業: ゼストロンジャパン株式会社
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金属塩(Bi塩)の形成における課題解決策などを掲載!洗浄性検証を共同で…
様々なメリットがあるSn-Bi系はんだペーストですが、高信頼性分野では 洗浄が必要とされる場面があり、洗浄課題として焼結後 の金属塩(Bi塩)の 形成があります。 Bi塩は、マイグレーション発生の原因になる可能性があり、有機溶剤に ...
メーカー・取り扱い企業: ゼストロンジャパン株式会社
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はんだ接合後のフラックス残渣における形態変化と洗浄性への影響
【共同研究】形態変化と洗浄性への影響を共同研究!詳しい解説と画像でご紹…
進化し続ける無洗浄タイプのはんだペーストですが、5GデバイスやEV向けの 高出力パワーデバイスなどの分野では発生する熱量が大きく、環境的負荷が 増すことで、安定化しているフラックス残渣であっても、長期にわたる 経年変化を注視する...
メーカー・取り扱い企業: ゼストロンジャパン株式会社
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洗浄方法・洗浄剤には抜本的な変革が求められています!洗浄ノウハウをご紹…
スマートフォンをはじめとする5G対応通信機器やEV向けの制御ユニット等に みられる先進電子デバイスは小型化・薄層化が進んでおり、それに伴い 微細接合向けはんだペーストの開発がより活況を見せています。 このような電子デバイスは長期的な高信頼性が求められ、フラックス洗浄が 必要となる場合も増加傾向にあります。 高密度実装や搭載部材の多様化により低スタン...
メーカー・取り扱い企業: ゼストロンジャパン株式会社
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ギ酸リフローについて詳しく解説!洗浄ノウハウをご紹介します
ギ酸リフローとは、対応する専用はんだを使用しフラックスレスで はんだ接合ができる画期的な接合プロセスです。 フラックスの作用の1つである還元作用をギ酸で代替することで大幅に フラックス成分を低減化できます。 パワーデバイスの分野...
メーカー・取り扱い企業: ゼストロンジャパン株式会社
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高いコンタミ許容量!長い液寿命、低いメンテナンスコスト、洗浄部品あたり…
201』は、低スタンドオフ部品下部など微細空間において スプレー洗浄で優れた性能を発揮するフラックス洗浄剤です。 低濃度で使用し、MPCベース洗浄剤である当製品は共晶・鉛フリー 無洗浄はんだのフラックス残渣除去に特に好適。 洗浄後に添加物なしで光沢のあるはんだ接合面を保ちます。 また、フリップチップおよびCMOSから粘着性フラックスを 除去するのに適しています。 【特...
メーカー・取り扱い企業: ゼストロンジャパン株式会社
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二極化する洗浄需要と水系洗浄剤への新たなる着目!課題などを解説
当資料では、水系洗浄剤の定義や溶剤系洗浄剤の技術的課題について 解説しております。 はんだ・フラックスの技術的動向の観点から改めて「イオン残渣」 に対して着目し、「水系洗浄剤」との技術的関連性をご紹介。 水系洗浄剤について知りたい、昨今のはんだ・フラックス組成について 知りた...
メーカー・取り扱い企業: ゼストロンジャパン株式会社
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【パワーエレクトロニクス向け洗浄剤】VIGON PE 305N
有機物や酸化膜を除去することが可能!複雑なパワーモジュール製造での使用…
『VIGON PE 305N』は、パワーエレクトロニクス向けに開発された 中性の水系洗浄剤(MPC)です。 高信頼性、高耐熱性のはんだペーストからフラックス残渣を 除去することができ、銅の酸化膜除去にも優れる製品。 はんだ付け後(ダイアタッチやヒートシンクはんだ付けなど)の パワーモジュール洗浄に適しています。 ...
メーカー・取り扱い企業: ゼストロンジャパン株式会社
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クリーム半田やSMTボンドを確実に洗浄。印刷機の裏拭き用としても使用可…
SC 200はメタルマスク洗浄用として開発された常温タイプの水系洗浄剤です。 スプレー式や超音波式洗浄機に適しており、試し刷り基板の洗浄もできます。 フラックスのタイプによっては、片面が既にはんだ付けされている印刷ミス基板にも使用できます。 【特長】 ■フラックスを洗浄液中から分離除去できるため、洗浄液の長寿命化及びコスト低減 ■洗浄液の交換が不要のため、メンテナンスの省力化 ...
メーカー・取り扱い企業: ゼストロンジャパン株式会社
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【コーティング欠陥検出】Coating Layer Test
呈色反応により可視化!コーティング欠陥検出テストのご紹介
陥を黒色反応で視覚的に示すテストです。 クローズドまたは高密度コーティングの欠陥を迅速に検出することにより、 コーティング厚さ測定を標準化することが可能。指示薬は、半田付けの 前に部品のはんだ付け性を確認するためにも使用できます。 また、どちらのアプリケーションも生産工程中に使用可能で、 費用対効果の高いサンプリングを行うことができます。 【利点】 ■迅速かつ簡便、費用...
メーカー・取り扱い企業: ゼストロンジャパン株式会社
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【メタルマスク・印刷ミス基板洗浄剤】VIGON SC 202
クリーム半田やSMTボンドを除去!水系洗浄剤のため引火点がなく、高い安…
半田やSMTボンドを確実に除去する水系洗浄剤です。 また、印刷ミス基板の洗浄にも優れています。 スプレー洗浄機及び超音波洗浄機での使用を推奨します。 【特長】 ■樹脂・接着剤・インキ・はんだペースト・フラックス汚れを効果的に除去 ■水系洗浄剤のため引火点がなく防爆仕様不要 ■1液で洗浄・リンス可能 ■界面活性剤非含有 ■ハロゲン化合物含有なし ※詳しくはPDF資料をご覧...
メーカー・取り扱い企業: ゼストロンジャパン株式会社
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無洗浄はんだにも効果あり!手拭き洗浄における作業時間を大幅削減
『VIGON EFM』は、しっかり洗浄でき素早く、乾燥する 手拭き用基板洗浄剤です。 手拭き洗浄における作業時間を大幅削減し、 時間が半分以下になった例もございます。 また、無洗浄はんだにも効果がございます。 リワーク・リペア洗浄としても使用可能です。 ハロゲンフリーの有機溶剤で、速乾性があり残留物を残しません。 さらに、腐食性がなく、ほとんどのポリマーに適合します。 ご用命...
メーカー・取り扱い企業: ゼストロンジャパン株式会社
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【コ・ソルベント工程向け洗浄剤】ZESTRON CO 150
HFE系洗浄剤と組み合わせ、水を使わない工程となる!残渣のない素早い乾…
に、HFE系洗浄剤との組み合わせでプレ洗浄、 もしくはコ・ソルベント用として使用可能。 特に電子部品、パワーモジュール、リードフレームベースの ディスクリート部品から共晶・鉛フリー無洗浄はんだの フラックス残渣を洗浄するのに適しています。 【特長】 ■共晶・鉛フリーはんだに対し洗浄性が優れる ■ワイヤーボンディング・モールディングの品質が向上 ■沸騰しにくい組成のため、安...
メーカー・取り扱い企業: ゼストロンジャパン株式会社
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洗浄用はんだペースト・フラックスを選択することでより確実な洗浄性の確保…
」となります。 また、原料要因だけでなく環境要因も含め多岐に渡る混入経路から 供給されるため、残留量を0にすることは技術的に大変困難です。 今回は、実装部品ごとのイオン残留量を見極めるために、はんだメーカー様に ご協力をいただきました。 ※詳細内容は、関連リンクより閲覧いただけます。 ※PDF資料はイオン残渣の課題と分析方法について解説した技術資料です。...
メーカー・取り扱い企業: ゼストロンジャパン株式会社
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粘着性フラックスを除去することで、ボイドのないアンダーフィルに!画像解…
特に短い処理時間が要求される高圧インライン洗浄装置に好適。 また、パワーLEDやフリップチップパッケージ、CMOS、 BGAにも効果を発揮します。 【特長】 ■先進の鉛フリー・共晶はんだフラックス残渣などをより素早く除去 ■マイルドな組成のため、はんだ付け部やパッド外観の輝きを保つ ■パワーLEDの光変換や寿命、ワイヤーボンディングの質を向上させる ■エタノールアミン他の有...
メーカー・取り扱い企業: ゼストロンジャパン株式会社
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SMTボンド除去用、着脱可能なディスペンサーノズルであれば、簡単に洗浄…
『ZESTRON HC』は、ディスペンサーノズルなどの治具からSMT ボンド 除去用として開発された改良アルコール系洗浄剤です。 マウンターノズルのはんだ粒子やダスト除去にも使用可能。 手拭き洗浄にて手軽にご使用いただけるようエアゾール缶で ご提供しております。 【特長】 ■ディスペンサーノズルや治具からSMT ボンドを確実に除去 ...
メーカー・取り扱い企業: ゼストロンジャパン株式会社
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リーク電流の発生や絶縁抵抗性の悪化に直接的に起因!洗浄ノウハウをご紹介
はんだを使用した接合工程において優れた無洗浄技術が確立している 日本市場ではありますが、 様々な課題が生じるケースが増加しており、 年々洗浄の需要は高まっています。 増加し続ける洗浄需要の背景の一つとして、イオン残渣への対応が あげられます。 イオン残渣は、基本的に視認が難しい残渣であり、時間の経過とともに さまざまな形態に変化する可能性があり、リーク電流の発生や絶縁抵抗性の 悪化に直接的に起因しま...
メーカー・取り扱い企業: ゼストロンジャパン株式会社
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リフロー炉内・チェーン・コンベア爪洗浄に好適の水系フラックス洗浄剤。作…
VIGON RC 303 はリフロー炉・はんだ槽から、あらゆる種類の焼き付いたフラックス残渣を除去ことができます。 堆積固着したフラックスや基板からの発散物をしっかりと除去します。 【特長】 ■優れた洗浄性 ■残渣なしの成分組成 ...
メーカー・取り扱い企業: ゼストロンジャパン株式会社
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【パレット・フラックス回収装置洗浄剤】ATRON SP 200
引火点がなく安全、低VOCで環境に良い!液寿命が長く、洗浄性が安定した…
ATRON SP 200はフラックス回収装置、はんだパレットなどから焼付いたフラックスを除去するために開発された水系洗浄剤です。 液寿命が長く、安定した洗浄性能でお使いいただけます。 低VOC・低臭気で環境に配慮した製品です。 処理液は引火点...
メーカー・取り扱い企業: ゼストロンジャパン株式会社
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【パワー半導体向けフラックス洗浄剤】VIGON PE 215N
効果的なリンスにより、銅基板の再酸化を防ぐ!活性化された銅基板を長期間…
置用として専用設計された 中性の水系洗浄剤です。 MPCテクノロジーにより、パワーエレクトロニクス部品から フラックス残渣を確実に除去することができ、特にダイアタッチ後や ヒートシンクはんだ付け後のパワーモジュールの洗浄に好適。 また、材料適合性と銅酸化膜除去に優れており、次工程の ワイヤボンディング/接着ボンディングやモールディングの 作業向上をはかるため、銅基板の酸化皮...
メーカー・取り扱い企業: ゼストロンジャパン株式会社
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インラインまたはバッチ式洗浄装置にて高中水圧で使用可能!
が高い金属に対し優れた材料適合性を示します。 【特長】 ■低濃度・低温でも優れた洗浄性を発揮 ■幅広い種類における先進鉛フリー・共晶フラックスの素早い除去が可能 ■マイルドな組成によりはんだ付け部及びパッドの光沢を保つ ■粘着性フラックスを除去し、ボイドのないアンダーフィルを保つ ■パワーモジュールのワイヤボンディング品質が向上 ■長寿命かつVOC 値が低い ※詳しくはP...
メーカー・取り扱い企業: ゼストロンジャパン株式会社
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洗浄方法と洗浄後の分析が昨今の課題!フラックス残渣がもたらす不具合例な…
フラックス残渣は、はんだ付け後のワーク上に残るフラックス由来の残渣 (コンタミ)のことで、成分はイオン、金属塩、有機物などがあります。 洗浄ペーストは洗浄する前提で成分を配合しているため、そのままにして おくと...
メーカー・取り扱い企業: ゼストロンジャパン株式会社
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困難さが増しているイオン残留課題について!洗浄ノウハウをご紹介
技術の研究開発がますます 進んでおり、新たな接合技術であるシンターも本格的に量産稼働の動きが 見えてくるなど、パワー半導体デバイスの勢いは衰えません。 今回のテーマであるイオンはドーピング工程やはんだペースト中の 活性剤などとして広く使用されており、電子デバイスにとっては不可欠な 存在となります。 また、最近の研究ではドーピング剤としてナトリウム・カリウムを イオン性物質として使用する新型半...
メーカー・取り扱い企業: ゼストロンジャパン株式会社
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