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16件 - メーカー・取り扱い企業
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193件 - カタログ
703件
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法規制に非該当でも高性能な洗浄剤『AMOLEA AS-300』
PR『AMOLEA(アモレア)』は乾燥工程が短縮でき、不燃性で作業環境濃度…
「地球」を考える「化学」の時代。AGCが提案する新製品!フッ素系溶剤『AMOLEA(アモレア)AS-300』は、各種法規制や環境規制に非該当、安全で使いやすい不燃のフッ素系洗浄剤です。 【特長】 ■環境対応…地球温暖化係数(GWP)1未満で、地球環境に配慮した洗浄剤です。 ■洗浄力…KB値48の優れた洗浄力で、精密・金属部品の脱脂洗浄に使用可能。可燃性溶剤や臭素系、塩素系溶剤の代替として...
メーカー・取り扱い企業: AGC株式会社 化学品カンパニー
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ロータリーダイシリンダー、ロータリーダイユニット<テスト受付中>
PR安定した切れ味と長寿命化を実現。高剛性ダイユニットは刃先のクリアランス…
当社は、紙からチタンまで様々な素材を加工する 技術と製品を有し、多岐にわたる事業を展開しています。 主力製品の1つとして製造を手掛ける「ロータリーダイシリンダー」は、 高精度マシニング加工と独自製法により、安定した切れ味と長寿命化を実現。 印刷、食品包装、医薬品包装、電池、半導体製造など 幅広い分野で採用されており、お客様の生産性向上に貢献しています。 また、本製品を搭載した「...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三條機械製作所
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ヨーロッパ発の技術から生まれた汎用性の高い装置!実験~量産に幅広く対応…
当社は汎用性の高いエッチング装置や、低温低圧条件でも緻密に成膜できる堆積式の成膜装置を取り揃えております。 【ドライエッチング機種(一例)】 Pishowシリーズ: ■シリコン、金属、化合物半導体など、様々な材料...
メーカー・取り扱い企業: 日星産業株式会社
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MRAM用ドライエッチング装置!
反応性イオンエッチング装置(RIE)、誘導結合プラズマ (ICP)エッチング装置、イオンビームエッチング装置(IBE)等のドライエッチング装置など各種取り揃えております。...
メーカー・取り扱い企業: 日星産業株式会社
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コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…
ulseDC 5KW) x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統(Ar, O2, N2)反応性スパッタリング RIEエッチングステージRF300W(メインチャンバー) + <30Wソフトエッチング(LLチャンバー) 基板加熱:Max500℃, 800℃, 又は1000℃(C/C、又はSiCコート) 基板回転・上下昇...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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GaNマイクロLEDメサ加工の結果、GaNマイクロLEDメサ加工中の発…
当資料では、マイクロLED向けのICPエッチングの加工例を ご紹介しています。 実験及び結果として、GaNマイクロLEDメサ加工の結果や GaNマイクロLEDメサ加工中の発光分光データなどを掲載。 ぜひ、ご一読ください。 ...
メーカー・取り扱い企業: サムコ株式会社
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RIBER社EZ-CURVE 真空装置In-situ反りモニター
各種真空装置内でのウエハ応力、反り、曲率、異方性等をリアルタイム、高精…
1) In-situ応力、反り、曲率、異方性等の測定可能 2) 成長メカニズムに関する基礎データ取得にも利用可能。 3) 各種真空成膜装置(CVD, MBE, PVD等)や真空プロセス装置(エッチング、アニーリング等)に対応可能。 4) 従来のレーザー反射計測法と比較して本計測器の計測法は10倍以上の反り測定感度、高速計測周波数(100Hz)を実現 5) AlGaAs/GaAsなどの低格...
メーカー・取り扱い企業: 伯東株式会社 本社
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これまでの加工実績をベースに行ったGaNのトレンチ加工をご紹介します
当社は半導体製造装置メーカーとして、GaN系発光デバイス製造における ICPエッチング装置、CVD装置及びプロセス技術を提供してきた実績があります。 また、4H-SiCパワーデバイスに対してもトレンチ加工、メサ加工等に対応で きる装置を提供。 当資料では、これまでの...
メーカー・取り扱い企業: サムコ株式会社
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プラズマ処理で撥水コーティング。低温処理で樹脂フィルムに対応。サンプル…
エッチング・クリーニングで実績豊富なプラズマ技術で撥水コーティングに対応。樹脂フィルム・ガラス・金属薄膜、多種の基板を撥水処理。 プロセス変更で親水化やクリーニングにも対応 コパクト・リーズナブル・高信頼性、サンプルテストでプロセス開発に協力。 実績と対応のプラズマ表面処理装置...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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常に安定した状態で0.003μmの高濾過精度を有するガスフィルターを開…
製品特徴 ・パーティクル0.003μm以上の高濾過精度 ・推奨流量 10〜200L/min ・エッチングや薄幕形成等に最適な流量・高濾過精度をラインナップ ・メンテナンス・フリーによるコストダウン ・高耐食性...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ピー・ジェイ
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配管形状を選ばず、粉体の析出を抑制し配管内の閉塞を局所集中により防止し…
CVD装置や、ドライエッチング装置の真空ポンプやそこから除害装置間では常にデポ物堆積や、真空ポンプ故障、バルブ閉塞の問題が発生しています。当製品は、問題の発生原因の一つとなるポンプ直後(或いはポンプ内部)の配管内部に局所的に...
メーカー・取り扱い企業: エヴァンリード株式会社
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Aera Transformer デジタルマスフローコントローラ
コスト削減に寄与する汎用性に優れたMFC
CVD、PVD、拡散、エッチングなど様々なアプリケーションに適したAera Transformerデジタルマスフローコントローラ(MFC)とデジタルマスフローメーター(MFM)は、お客様のプロセス改良に寄与し、優れた柔軟性と効...
メーカー・取り扱い企業: 日立Astemo&ナガノ株式会社
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経済性に優れた高精度ラバーシール
半導体、FPD、データ記憶装置、産業用真空機器、工業用コーティング等の市場では、CVD、PVD、エッチング、イオン注入、スパッタリング、熱酸化膜、光学ガラスコーティング、光ファイバー、表面処理、その他のコーティングプロセスを含め、非腐食性ガスを使用したアプリケーションが展開されています。 FC-R...
メーカー・取り扱い企業: 日立Astemo&ナガノ株式会社
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中古半導体製造装置
半導体製造装置の中古買取、リファビッシュ(再生)、販売、立上業務 ・主な取り扱い中古装置 露光機(Stepper、Aligner) CVD装置、PVD装置 蒸着機、洗浄機、エッチング装置 拡散炉、イオン注入機 測定・計測器、 後工程装置(ダイサー、ワイヤーボンダー) 装置在庫の確認、お見積もり、査定等についてお気軽にご相談下さい。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ハイテック・システムズ
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【資料】アクア プラズマ~画期的な銀電極、銅電極の表面処理技術~
Aqua Plasmaの効果として、ESCAによる表面の深さ分析結果な…
当資料では、アクア プラズマの画期的な銀電極、銅電極の表面処理技術を ご紹介しています。 Aqua Plasmaの効果として、銅サンプル表面の酸化深さをESCAで Arビームエッチングを用いながら組成分析した結果などを掲載。 ぜひ、ご一読ください。 【掲載内容】 ■はじめに ■Aqua Plasmaの効果 ■ESCAによる表面―深さ分析結果 ■フォトレジス...
メーカー・取り扱い企業: サムコ株式会社
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ヨーロッパ 発の技術から生まれた汎用性の高い装置!実験~量産に幅広く対…
・ドライエッチング機種 Pishowシリーズ: シリコン、金属、化合物半導体など、様々な材料に対応可能; 幅広く温度の工程に対応可能; エッチングの速度と均一性を精密制御; BOSOH工程に対応可能 ...
メーカー・取り扱い企業: 日星産業株式会社
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スパッタリング装置 多機能スパッタ装置MiniLab-S060A
コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…
lseDC 5KW) x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統(Ar, O2, N2)反応性スパッタリング プラズマエッチングステージRF300W(メインチャンバー) + <30Wソフトエッチング(LLチャンバー) 基板加熱:Max500℃, 800℃, 又は1000℃(C/C、又はSiCコート) 基板回転・上下昇...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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【書籍】先端半導体製造プロセスの動向と微細化(No.2220)
【試読できます】-成膜技術、リソグラフィ、エッチング、CMP、…
株式会社技術情報協会