【遠心分離機】産業排水用 デカンタ型遠心脱水機 pro

PRコンパクトなデザインの目詰まりの無い連続式自動デカンタ型遠心脱水機!

世界大手の遠心分離機メーカーのデカンタ型遠心脱水機です。 デカンタ型の特徴 ・目詰まりが無い ・洗浄水が少ない ・クローズタイプで臭気が少ない ・汚泥性状（濃度）の変動にも幅広く対応 ・自動運転で手間が掛からない ・小設置スペース...弊社デカンタの特徴 ・処理量　　　　　　：数百L/h～90m3/h（豊富なラインナップ） ・高遠心力　　　　　：最大3400G～4060G（機種により異なります）...

メーカー・取り扱い企業： GEAジャパン株式会社 本社

高圧ジェットで高速レジスト剥離！半導体製造用リフトオフ装置

PR【超高圧ジェットでメタル＆レジスト除去】ASAP専用ノズルで、枚葉によ…

【特長】 ■最大20MPaの超高圧ジェットを噴射 ■リフトオフ時のバリの除去 ■メタルの再付着なし！ ■薄いウエーハでも割れる心配なし ■レジスト、ポリマー、 マスクの洗浄としても使用可能 ■薬液のリサイクルシステム （オプション） 超高圧ジェットリフトオフは熱やプラズマの影響で取れづらくなったレジストをきれいに除去可能！ 昔はDIPプロセスで簡単に除去できていたものがだん...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

スプレー/パドル兼用 小型スピン現像装置（デベロッパー)

高品質・低価格・省スペースを追求 スイングスプレー式、パドル方式の両…

6インチウエハ対応の小型スピン現像装置。スイング式ノズルによるスプレー現像の他、パドル現像も行なえます。 プログラム入力により現像→リンス→振り切りの一連動作を連続して行なうセミオート方式デベロッパーです。...

メーカー・取り扱い企業： アクテス京三株式会社 技術センター

薄膜電子部品工程『フォトリソグラフィープロセス装置』

生産設備・研究開発向け！薄膜電子部品工程における一連のプロセスを提供！

電子部品工程 における一連のプロセスを高精度高信頼性で提供するシステムです。 洗浄・コーター・現像・剥離・エッチングなどの生産設備および 研究開発向けの設備を提供します。 「全自動スピンエッチング装置」は、ウエハを1枚ずつ取り出し、 自転させながら薬液を吹き付け、エッチングから乾燥までを 自動処理する装置です。 【特長】 ■薄膜電子部品工程の一連のプロセスを提供 ■...

メーカー・取り扱い企業： 大村技研株式会社

小型現像装置

スプレー及びパドル現像が行なえる、小型卓上タイプのスピンデベロッパー

現像→リンス→振り切り等を任意設定のプログラムにより連続処理が行なえるスピンデベロッパー。 プログラムは最大99ステップ×50パターン保存可能。 スプレーとパドルが1台で行なえる。...

メーカー・取り扱い企業： アクテス京三株式会社 技術センター

自動レジスト現像装置（枚葉式） デベロッパー Developer

枚葉式のためプロセスの再現性が高く、薬液使用量も少なく済みます。品質向…

【主な仕様】 ■カセットステージ：2組 ■スピン現像ユニット：2組 ■ウエハサイズ：Φ2"～Φ12" ■現像ノズル：1組/CUP ■リンスノズル：1組/CUP ■ベークユニット：4組（Max200℃） ■クーリングユニット：2組 ■...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

半自動フォトレジスト現像装置（セミオートデベロッパー）

自動機を購入するほど生産量が多くないが、プロセスの再現性を求めるお客様…

【主な仕様】 ■スピン現像ユニット：1組 ■ウエハサイズ：Φ2"～Φ12" ■現像ノズル：1組/CUP～ ■リンスノズル：1組/CUP ■ベークユニット：1組（Max200℃） ■クーリングユニット：1組 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

逆テーパー角を一定に！PEB対応レジスト現像装置（デベロッパー）

逆テーパー角度を一定に！ネガレジストやイメージリバーサル用のレジストに…

【主な仕様】 ■カセットステージ：2組 ■スピン現像ユニット：2組 ■ウエハサイズ：Φ2"～Φ12" ■現像ノズル：1組/CUP ■リンスノズル：1組/CUP ■ベークユニット：2組（Max200℃） ■クーリングユニット：1組 ■...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

コンパクト！手動フォトレジスト現像装置（マニュアルデベロッパー）

少量多品種生産、開発用途向けのコンパクトレジスト現像装置です。枚葉式の…

【主な仕様】 ■スピン現像ユニット：1組 ■ウエハサイズ：Φ2"～Φ12" ■現像ノズル：1組/CUP～ ■リンスノズル：1組/CUP ■装置サイズ：（例）1200×800×1800(Φ4"本体・薬液供給一体)...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

自動現像/エッチング装置

簡単操作のCtoCロボット搬送付き現像/エッチング装置。用途によりデベ…

スピン・スプレー方式現像/エッチング装置に搬送ロボットを搭載することにより、セットされた基板カセットから自動的にローダー・アンローダーを行い連続処理を行ないます。...

メーカー・取り扱い企業： アクテス京三株式会社 技術センター

自動フォトレジスト塗布・現像装置（コーター・デベロッパー）

低粘度～高粘度レジスト対応！小口径～大口径まで、どのウェハサイズの装置…

テム ■多彩な薬液に実績あり ■フットプリントの低減（省スペース化） ■レジスト削減で多数のオプション ■生産量に合わせたラインアップ 【ASAPのコーター・デベロッパー機能】 ●スピンコーティング ●HMDS処理 ●ベーク ●クーリング ●現像 ●リンス 設計から製造・販売まで自社で行っているので、低価格を実現しました！ 【ASAPの特長・実績】 ●ポジ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

ウエハー洗浄装置（スピン式）※テスト可能機種あり

生産規模に応じて複数チャンバーに対応。ウエハーの均一なエッチングを実現…

自動酸・アルカリ洗浄装置。 対応ワークサイズ　φ2～12インチ。角型基板などの特殊サイズもご相談ください。 2流体混合ノズルにより直接2種類の原液を使用した洗浄処理を実現。混合比率を調整することにより反応熱で狙いの温度に昇温することが可能。 【その他特長】 ■ブラシ洗浄機能付き装置の製作が可能。 ■フォトマスク洗浄装置の製作が可能。 ■薬液供給、回収ユニットの装置本体組込みが可能。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ダルトン

高圧ジェットで高速レジスト剥離！半導体製造用リフトオフ装置

【超高圧ジェットでメタル＆レジスト除去】ASAP専用ノズルで、枚葉によ…

ました！ 2流体スプレーの圧力を上げて高圧ジェットと呼んでいる会社もありますが、弊社の超高圧ジェットの圧力は脅威の20MPa！ 使い方によってはガラスも削れます。 もちろん弊社のスピン技術と組み合わせて正しく使用すれば、がんこなレジストも簡単に除去できます。 また、DIP処理で問題となるバリやメタルの再付着がありません！ 厚膜のメタル、酸化膜など、エッチングで困難な...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

2流体スプレー方式自動フォトレジスト現像装置（デベロッパー）

高い圧力から霧状の柔らかい圧力まで自由自在！2流体スプレーレジスト現像…

【主な仕様】 ■カセットステージ：2組 ■スピン現像ユニット：2組 ■ウエハサイズ：Φ2"～Φ12" ■現像ノズル：1組/CUP ■リンスノズル：1組/CUP ■ベークユニット：4組（Max200℃） ■クーリングユニット：2組 ■...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

1流体スプレー方式自動フォトレジスト現像装置（デベロッパー）

厚膜現像や処理時間短縮に効果を発揮する1流体現像装置です。スプレー形状…

【主な仕様】 ■カセットステージ：2組 ■スピン現像ユニット：2組 ■ウエハサイズ：Φ2"～Φ12" ■現像ノズル：1組/CUP ■リンスノズル：1組/CUP ■ベークユニット：2組（Max200℃） ■クーリングユニット：1組 ■...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

リフトオフ（イメージリバーサル）対応フォトレジスト現像装置

多彩な薬液に実績あり！低価格の理由は、設計から販売まで自社で行っている…

【主な仕様】 ■カセットステージ：2組 ■スピン現像ユニット：2組 ■ウエハサイズ：Φ2"～Φ12" ■現像ノズル：1組/CUP ■リンスノズル：1組/CUP ■ベークユニット：2組（Max200℃） ■クーリングユニット：1組 ■...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

静止現像式（パドル）自動フォトレジスト現像装置（デベロッパー）

多彩な薬液に実績あり！低価格の理由は、設計から販売まで自社で行っている…

【主な仕様】 ■カセットステージ：2組 ■スピン現像ユニット：2組 ■ウエハサイズ：Φ2"～Φ12" ■現像ノズル：1組/CUP ■リンスノズル：1組/CUP ■ベークユニット：4組（Max200℃） ■クーリングユニット：2組 ■...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ