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対極型磁選機 無料サンプルテスト実施中!ぜひご利用ください。
PR粉体からの磁性物除去が可能です。1mm以下の原料サイズに対応しています…
<機器概要> 2.8Tの超強磁力で回収が難しい粉体中の様々な 磁性物の分離・除去を実現します。 2.0~2.8Tの強磁場を作ることができ、微量鉄粉の除去が可能です。 対象原料サイズ:1mm以下 化学プラント向けに注目されている磁選機です。 <機器構造> 電磁石を搭載した2本の回転式ローターを搭載しており、ローター間で業界最大級の2.8Tの磁力を発揮します。 無料サンプルテ...
メーカー・取り扱い企業: 日本磁力選鉱株式会社 本社/エンジニアリング事業部
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Micro Point Pro(マイクロポイントプロ)株式会社
PRウェッジボンディングツールをはじめ、世界で9000台以上の実績を持つ卓…
Micro Point Pro(マイクロポイントプロ)株式会社は、設立から40年の経験と専門知識を保有し、 半導体およびマイクロ電子デバイスアセンブリ業界向けの商材を幅広く取り扱っています。 イスラエルに拠点を構え、150名の従業員とグループ企業600名の従業員がサポート。 MPPでは原材料から完成品まで全ての製造プロセスがあり、多くのグローバル企業との実績も多数ございます。 【取扱製品】 ■...
メーカー・取り扱い企業: Micro Point Pro ltd株式会社 本社
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ハイパワー品もシリーズ化しておりますので、効率的に殺菌、除菌が行えます…
ズ化しておりますので、効率的に殺菌、除菌 が行えます。 詳しい仕様をご希望の方はご連絡いただければ各仕様書をお送りします。 お気軽にお問い合わせください。 【ラインアップ】 ■セラミックパッケージ 6.0mm ■セラミックパッケージ 3.5mm ■アルミパッケージ 3.5mm ■プラスチック 5450 PKG 5.4x5.0mm ■プラスチック 3528 PKG 3.5...
メーカー・取り扱い企業: レイトロン株式会社
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当社が培ってきたセラミック技術を応用し、小型・軽量化、高照度化など高い…
N」などラインアップ。 (※)波長385nm/395nm、搬送速度50m/分の場合。 高照度や高積算光量の製品は当社にお任せください。 【京セラ製UV LED光源の特長】 ・内製セラミック基板による高放熱性/高密度実装の実現 ・シミュレーション技術を駆使した製品設計 ・カスタム設計によるフレキシブル対応 【アプリケーション例】 ・枚葉オフセット印刷 ・インクジェット...
メーカー・取り扱い企業: 京セラ株式会社 プリンティングデバイス事業本部
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カラーマッチングが容易!UVインキを燃焼させることが可能なためリサイク…
UV硬化によるガラスの加飾についてご紹介いたします。 複数の色を高速で直接印刷でき、いずれの色も重金属を含まず、高速で シンプルに低コスト硬化が可能。 ガラスやセラミックのデコレーターたちは、UV硬化を用いることにより、 プラスチックのデコレーターがこれまでに得られている利点を享受することが できます。 【特長】 ■生産速度が加速 ■環境に配慮 ...
メーカー・取り扱い企業: エクセリタスノーブルライトジャパン(旧ヘレウスノーブルライトジャパン)株式会社
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110Wの高出力UV洗浄をお手元で手軽に。
製造用レンズ、水晶振動子 用途・効果 レンズ表面の有機系皮膜の除去、樹脂レンズ表面の親水化コーティング、金属系蒸着膜との密着性向上、貼合せ前処理 ・基板 製品 プリント基板、銅基板、セラミック基板ほか 用途・効果 メッキ加工の前処理、レジスト膜表面の有機物除去、はんだとの部品密着性向上 ・樹脂 製品 携帯電話外装、コネクタースイッチ、自動車内装品ほか 用途・効果 塗装...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社あすみ技研
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未来ストーリーを創造するクォークテクノロジー。
は、光を研究し産業応用技術へのチャレンジを続けてまいります。 【事業内容】 ○紫外線照射装置製造販売 ○UV-LED照射装置製造販売 ○半導体製造装置製造販売 ○その他、各種石英、セラミック商品取扱 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社クォークテクノロジー
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光洗浄や光薄膜形成、光改質や光化学修飾など、様々な産業分野への応用が可…
指向性の高いレーザではなく、大面積照射が容易な放電管を用いるため ■高速な処理が可能:光の波長が短く光子エネルギーが高く、光出力も数mW/cm2と高いため ■室温処理が可能:高温焼成が必要なセラミック薄膜形成を、室温程度で行える ■パターニング可能:密着型光マスクを使えば、マイクロメータ単位のパターニングが可能 ■材料を選ばない:光の波長が短く光子エネルギーが高いため、大抵の化学結合を切...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社クォークテクノロジー
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強い酸化作用を利用!照射条件を変えてVUV光を照射したときの膜質につい…
比較的低温の熱処理でシリカ膜を得る方法として、ペルヒドロポリシラザン等の セラミック前駆体ポリマーを大気中あるいは水蒸気中において450℃程度の温度で 焼成する方法が報告されています。 本研究は、TMOSやTEOSと異なりOを含まないPHPSを低温でシリカへ転化させるた...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社クォークテクノロジー
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