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【納入事例】X線計測実験真空容器用高真空排気システム

PRドライ真空ポンプは排気流路に油を用いず、オイルフリーでクリーンな排気を…

関西光量子科学研究所(木津)に、「X線計測実験真空容器用高真空排気システム」を納入した事例をご紹介いたします。本排気ユニットは、真空容器に直接取り付けられる300L/sクラスの磁気軸受形ターボ分子ポンプTG390Mと、ピラニ型と冷陰極電離真空計の複合型真空計、そしてそれらのコントローラと補助ポンプ等を載せたカートから成ります。真空容器に取り付けるターボ分子ポンプは磁気軸...

メーカー・取り扱い企業：株式会社大阪真空機器製作所
これからの季節省エネ対策は万全ですか？

PR【省エネ・脱炭素】これから気温が上昇します。「Miラクルコイル」は夏場…

★令和4年度先進的省エネルギー投資促進支援事業費補助金「（A）先進事業」における『先進設備・システム』の認定製品として採択されました。「Miラクルコイル」は、冷凍サイクル上の凝縮器を出て膨張弁までの間の冷媒の液配管に接続します。凝縮器で液化できなかった冷媒ガスが「Miラクルコイル」を通過すると液化⇒過冷却が起こり、冷・暖房能力が向上し、圧縮機の負荷を軽減します。【特徴】...

メーカー・取り扱い企業：イー・ティー・エー株式会社
RTP装置『AS-Master 200』

ターボポンプ搭載可能！低温(1100℃)/高温(1300℃)パイロメー…

急速冷却機構のRTP装置です。最大200mm径基板対応(基板上部ランプ加熱式)しており、真空又は大気搬送装置及びロードロック搭載可能。また、大気・真空下プロセスに対応しており、ターボポンプ搭載可能。ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。【特長】 ■最大200mm径基板対応(基板上部ランプ加熱式) ■低温(1100℃)/高温(1300℃)パイロメーター ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ハイテック・システムズ
DLI-CVD/DLI-ALD装置『MC-050』

ランプ加熱式の為にRTP、RTCVD処理可能！クオーツ製チューブ型チャ…

、最大50mm径基板対応のDLI-CVD/DLI-ALD装置です。最大成膜温度は1100℃(ランプ加熱方式)で、最大6×DLI気化器を搭載可能。また、マスフローコントローラーは最大8、ターボポンプ搭載可能です。ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。【特長】 ■最大50mm径基板対応 ■最大成膜温度：1100℃(ランプ加熱方式) ■最大6x DLI気化器を搭...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ハイテック・システムズ
RTP装置『AS-One 100/150』

アニール処理後急速冷却機構！Annealsys社の高速熱処理装置をご紹…

『AS-One 100/150』は、大気・真空下プロセス対応のRTP装置です。 ターボポンプを搭載可能で、マスフローコントローラーは最大5となっております。ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。【特長】 ■アニール処理後急速冷却機構 ■大気・真空下プロ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ハイテック・システムズ
アニール炉『ANNEALウエハーアニール装置』

Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"、又は6"基板…

◉ 最大3系統マスフローコントローラ（オプション） ◉ 7"HMIタッチパネル ◉ 高精度ワイドレンジ真空ゲージ 10-9〜1000mbar ◉ USB端子付、PCデータロギング機能 ◉ ターボ分子ポンプ：EXT75DX（Edwards社） ◉ ロータリーポンプ：RV3/RV8（Edwards社）（*ドライポンプへの変更可能） ◉ Kタイプ熱電対（ヒーター制御用）付属...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
大型真空オーブン

　高真空でも大気圧でも均一加熱、安定加熱　乾燥・脱ガス・ベーキング・ア…

６００ｍｍ□×６００ｍｍＨ／バッチの大量バッチ処理炉内全面ヒーターの均一加熱ドライポンプ＋ターボ分子ポンプの完全ドライ排気系高真空・低真空・大気圧の各圧力下での加熱処理対応基板と目的に合わせて排気系・ガス系・処理温度・炉内構造・治具選択可能 ...

メーカー・取り扱い企業：神港精機株式会社東京支店
スパッタリング装置『MiniLab-060』

蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み…

様】・SUS304 60ℓ容積 400x400x400mm フロントローディングチャンバー *ラージチャンバーオプションMiniLab-070（450 x 450 x 450）・ポンプ：ターボ分子ポンプ, ロータリーポンプ（ドライポンプも可）・最大基板サイズ：Φ8inch ・真空排気：真空/ベント自動制御・抵抗加熱蒸着：最大4源（Model. TE1～TE4蒸着源）・有機...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
真空蒸着装置『MiniLab-090』（グローブボックス用）

グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置高さ570m…

【主仕様】・最大基板サイズ：Φ10inch ・SUS304 80ℓ容積 400x400x570mm フロントローディングチャンバー・ポンプ：ターボ分子ポンプ, ロータリーポンプ（ドライポンプも可）・真空排気：真空/ベント自動制御・抵抗加熱蒸着：最大4源（Model. TE1～TE4蒸着源）・有機蒸着：最大4源（Model. LT...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
スパッタ・蒸着ソース複合型成膜装置【nanoPVD-ST15A】

スパッタカソード・蒸着ソース混在型薄膜実験装置コンパクトフレームに…

2. スパッタカソード + 有機蒸着源x2 3. スパッタカソード + 抵抗加熱源x1 + 有機蒸着源x1（*DCスパッタのみ）・蒸着範囲：Φ4inch/Φ100mm ・真空排気系：ターボ分子ポンプ + 補助ポンプ（ロータリー、又はドライスクロールポンプ）・基板回転、上下昇降ステージ・Max500℃基板加熱ヒーター・水晶振動子膜厚センサー・7”タッチパネルHMI操作...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
TCF-C500 超高温小型実験炉Max2900℃

コンパクト・省スペース・省エネルギー！高性能 R&D用超高温実験炉

様：AC200V 75A NFB 50/60HZ（C-500）・Max2900℃（カーボン炉）、2400℃（メタル炉）、・プログラム温度調節計、C熱電対 ◆オプション◆ ・記録計・ターボ分子ポンプ・るつぼ ◆主なアプリケーション◆ ・新素材開発・燃料電池・その他...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
横型水素アニール装置（可変雰囲気熱処理装置）

小径ウェハ（４インチ）や化合物半導体のニッチプロセスに対応。結晶プロセ…

横型石英管タイプのホットウォール型の専用アニール装置。 ターボ分子ポンプとドライ真空ポンプによるクリーンバキューム＆大気圧水素雰囲気による高純度還元熱処理を実現。石英管急冷機構を標準装備。短タクト処理を実現。拡張機能により６インチウェハまで対応。 ...

メーカー・取り扱い企業：神港精機株式会社東京支店
MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉2000℃

SiC3, TiC3コーティングヒーター採用：様々なプロセス環境に対応…

ジ（3 cycle）〜ベントまでを自動シーケンス制御（標準）・手動プロセス圧力制御（標準）：手動ベローズバルブ調整・有効加熱範囲：φ4-φ8inch（その他サイズ可能）・高真空対応（ターボ分子ポンプ） ◆オプション◆ ・フルオート自動プロセス運転（オプション）・自動APC制御（オプション）： -1) Upstreamコントロール：MFC供給量をPIDループ自動制御、又は ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
RTP装置『AS-Premium』

最大156mm×156mm基板対応！真空又は大気搬送装置及びロードロッ…

特長】 ■最大156mm×156mm基板対応 ■低温(1100℃)/高温(1300℃)パイロメーター ■アニール処理後急速冷却機構(上部ランプ加熱式のみ) ■大気・真空下プロセス対応 ■ターボポンプ搭載可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ハイテック・システムズ
真空蒸着装置『MiniLab-026』

小型、省スペース! 研究開発に最適蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…

◉ 19inchシングル式ラックに全てを収納 ◉ 抵抗加熱蒸着源（最大4源）、有機蒸着源（最大4源）、又はΦ2"マグネトロン（最大3基）、基板加熱ステージなどを搭載 ◉ 高精度膜厚制御 ◉ ターボ分子ポンプ+ロータリーポンプ（ドライポンプオプション） ◉ グローブボックス連結仕様（*要仕様協議） ◉ 豊富なオプション：基板加熱/冷却, 回転, 特型基板ホルダ, etc.. ＊その...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
◆ANNEAL◆ ウエハーアニール装置

Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"、又は6"基板…

◉ 最大3系統マスフローコントローラ（オプション） ◉ 7"HMIタッチパネル ◉ 高精度ワイドレンジ真空ゲージ 10-9〜1000mbar ◉ USB端子付、PCデータロギング機能 ◉ ターボ分子ポンプ：EXT75DX（Edwards社） ◉ ロータリーポンプ：RV3/RV8（Edwards社）（*ドライポンプへの変更可能） ◉ Kタイプ熱電対（ヒーター制御用）付属...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
アニール炉『MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉』

SiC3, TiC3コーティングヒーター採用：様々なプロセス環境に対応…

ジ（3 cycle）〜ベントまでを自動シーケンス制御（標準）・手動プロセス圧力制御（標準）：手動ベローズバルブ調整・有効加熱範囲：φ4-φ8inch（その他サイズ可能）・高真空対応（ターボ分子ポンプ） ◆オプション◆ ・フルオート自動プロセス運転（オプション）・自動APC制御（オプション）： -1) Upstreamコントロール：MFC供給量をPIDループ自動制御、又は ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
□■□【MiniLab-026】フレキシブル薄膜実験装置□■□

小型、省スペース! 研究開発に最適蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…

◉ 19inchシングル式ラックに全てを収納 ◉ 抵抗加熱蒸着源（最大4源）、有機蒸着源（最大4源）、又はΦ2"マグネトロン（最大3基）、基板加熱ステージなどを搭載 ◉ 高精度膜厚制御 ◉ ターボ分子ポンプ+ロータリーポンプ（ドライポンプオプション） ◉ グローブボックス連結仕様（*要仕様協議） ◉ 豊富なオプション：基板加熱/冷却, 回転, 特型基板ホルダ, etc.. ＊その...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社