フッ素膜【フッ素薄膜処理における真空蒸着法とスプレー法の違い】

PR各処理方法のメリット・デメリットを分かりやすく紹介した資料進呈。受託加…

本資料では、ガラスや金属に撥水性・撥油性・防汚性・離型性などを付与できる フッ素薄膜処理について、真空蒸着法とスプレー法の違いを説明しています。 フッ素薄膜処理は、基材の形状やコストなどの条件に応じた 処理方法の選定が求められます。 フッ素薄膜処理をご検討中の方は、ぜひ本資料をご覧ください。 【掲載内容】 ・フッ素薄膜処理とは ・真空蒸着法、スプレー法とは ・真空蒸着法...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社カツラヤマテクノロジー T&K事業部

フッ素膜【フッ素薄膜処理における真空蒸着法とスプレー法の違い】

PR各処理方法のメリット・デメリットを分かりやすく紹介した資料進呈。受託加…

本資料では、ガラスや金属に撥水性・撥油性・防汚性・離型性などを付与できる フッ素薄膜処理について、真空蒸着法とスプレー法の違いを説明しています。 フッ素薄膜処理は、基材の形状やコストなどの条件に応じた 処理方法の選定が求められます。 フッ素薄膜処理をご検討中の方は、ぜひ本資料をご覧ください。 【掲載内容】 ・フッ素薄膜処理とは ・真空蒸着法、スプレー法とは ・真空蒸着法...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社カツラヤマテクノロジー T&K事業部

スピンタイプ洗浄装置WULFシリーズ「高精細フォトマスク対応」

機能水を使用したスピン洗浄ユニットを装備！RCA洗浄液に変わる洗浄液・…

弊社グループ会社の洗浄装置はフォトマスク／レチクル製品のハイクリーン化と歩留向上に寄与し、より完成度の高い製品の生産にご協力致します。 【特徴】 　・ハイクリーン化と歩留向上に貢献 　・検出限界レベルまで有機物・金属イオ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行

フォトマスク洗浄装置｜PDP・大判フォトマスク用 TW-1000

スモールサイズからラージサイズまで、スクラブ洗浄・リンス・乾燥を1台で…

テクノビジョンのフォトマスク洗浄装置は、スクラブ洗浄・リンス・乾燥を一台で行いフォトマスクに付着したゴミや汚れを洗浄するマスククリーナーです。 弊社では多様なお客様からのご要望にお応えするため、スモールサイズからラージ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社テクノビジョン 本社

UV-LED光源！半導体製造用自動露光装置|マスクアライナー

光源を水銀ランプからLEDへ置き換えた露光装置です。 自動平行調整、…

当製品は、UV-LED光源搭載の自動一括等倍露光装置（マスクアライナー）です。 弊社の特徴として、フォトマスクとウエハを完全非接触でステージとマスクの自動平行調整が行えます。 超精密UVW駆動ステージを搭載し高性能画像処理を行う事で フォトマスクとウエハのアライメントも正確に行います。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

『フォトマスク・有機EL用　基板搬送ケースの製作サービス』

クラス100以下の清浄度を保持するタイプや、大型ガラス基板対応など品揃…

当社ではお客様のニーズや仕様に合わせて基板搬送用のケースを製作する 『フォトマスク・有機EL用　基板搬送ケースの製作サービス』を提供しています。 基板を効率良く収納できる「アルポリケース」をはじめ、 クラス100以下の清浄度を保持する「クリーンケース」、 ガラス...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ディー・アール・エス（DRS)

フォトマスク洗浄装置（セミオート）

シリーズ累計200台以上のロングセラ機種です。

資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 枚葉式洗浄装置、塗布・現象装置、基板洗浄装置、スピン洗浄装置、半導体製造装置、半導体、レジスト剥離装置、メガソニック、洗浄装置、レジスト、フォトレジスト、フォトリソ工程、マスク洗浄装置、ウエハ洗浄装置...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ソフエンジニアリング

多光子励起光造形装置『MPF-330』

材料が熱的な損傷を受けない！フェムト秒レーザーを用いた多光子励起光造形…

『MPF-330』は、フェムト秒レーザーを用いた多光子励起光造形装置です。 750～900nmの超短パルスレーザー光を励起光源として用いることにより、 紫外～可視領域に吸収を持つ物質の2光子励起が可能です。 従来の高出力レーザーによる光造形より高空間分解能で、 ナノスケールの光造形ができます。 【特長】 ■フェムト秒レーザーを用いた多光子励起光造形装置 ■紫外～可視領域に...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社フォトサイエンス

LED光源マスクレス露光装置　DL-1000シリーズ

世界で初めて最小画素1μm（オプション：0.5um対応可能）の自由度の…

D-light DL-1000シリーズは、レジストの三次元加工を容易に実現できる機能を搭載したフォトマスクが不要なマスクレス露光装置です。 本装置は、グレースケールデータを効率的に作成・変更できるソフトウエアとDMD（Digital Micromirror Device）に転送されたグレースケ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ナノシステムソリューションズ

マニュアル露光装置

顕微鏡オート移動など､生産性､使い勝手に優れたアライナ

2インチウエハ対応のマニュアル露光装置です｡ オペレータがマニュアルでウエハをセットする露光装置です｡4インチのガラスマスクを使用し､フォトマスクとウエハのアライメントマークを顕微鏡で撮像､モニタに写しだされた画像を見ながらの位置合わせと､露光ギャップ設定を行うことで､露光が可能です｡ なお､露光スイッチを押すと自動で顕微鏡が退避､...

メーカー・取り扱い企業： ウシオライティング株式会社

フォトマスク洗浄装置｜簡易型マスク洗浄装置TWC-302

「スクラブ洗浄＋リンス」＆「Hot純水乾燥」の2槽式簡易型マスク洗浄装…

マスクに付着した1μm以上のパーティクルを除去する簡易型のマスク洗浄装置。 2槽式のマスク洗浄装置で、1槽目で専用ブラシによるスクラブ洗浄と リンスを行い、2槽目ではホット純水乾燥を行う簡易型のマスク洗浄装置です 1層目のスクラブ洗浄において、専用薬液による洗浄もオプションとして提供しております。専用薬液を使用すると、レジスト残渣を除去することも可能になります。...■主な特長 ・ワーク...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社テクノビジョン 本社

株式会社コシブ精密　『薄膜製品』　総合カタログ

株式会社コシブ精密　『薄膜製品』　総合カタログ

「株式会社コシブ精密　『薄膜製品』　総合カタログ」のご案内です。 ■□■掲載内容■□■ 　 ■レーザー直接描画装置スタンダードスケール ■フォトマスク ■ロータリーエンコーダスリット板 ■光学レチクル ■薄膜生産設備 ●その他詳細については、カタログをダウンロードもしくはお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社コシブ精密 長野工場

オート式露光装置

190WPHの高スループットを実現したマスクアライナ

の複合サーチを行うオートアライメントを採用しました｡また､安定した視認性を実現するために､顕微鏡のハロゲン照明は画像処理により､照度減衰もフィードバックする新機構も搭載しています｡ オペレータはフォトマスクとウエハをセットし､あらかじめ記憶されている露光レシピを選択するだけで､ウエハ搬送からフォトマスクとの位置合わせ､露光までをオートで行うことから､オペレータや使用経験に依存しない､安定した精...

メーカー・取り扱い企業： ウシオライティング株式会社

マスクレス露光装置「MXシリーズ」

半導体製造等の露光工程における、開発/納期の短縮とコスト削減に貢献しま…

半導体製造工程・マイクロセンサー（加速度センサー、圧力センサー、温度センサー、ガスセンサー）製造工程・プリント基板製造工程における露光技術では、フォトマスクを使用し、それを基盤に転写する方式が主流です。 一方、マスクレス露光装置「MXシリーズ」は、DMD（デジタル・マイクロミラー・デバイス）を用いた独自のポイントアレイ方式で、CADデータから...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社大日本科研

マスクレス露光装置『 ME-120F』

最大12インチウエハに対応！汎用CAD対応の直接描画なので、フォトマス…

◆直接描画でフォトリソの課題を解消 マスクレス露光装置は、DMD(Digital Micromirror Device)により、ワークに直接描画を行う装置です。 フォトマスクの製作に必要とされていた莫大な費用と...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ピーエムティー 本社・工場

【高品質・高性能】『スピンスクラブ洗浄装置シリーズ』のご紹介！

量産向け新型【自動スクラブ洗浄装置】と、シリーズ累計200台以上の【フ…

「Final洗浄」等に好適！ 　◆「反転機能」「ブラシ押込み量設定機能」「CO2イオナイザー」等々 　　豊富なオプションに対応可能です。 　◆各種カスタマイズにも対応します。 《２》【フォトマスク洗浄装置】 　◆マスクサイズに応じてのシリーズ対応した装置です。 　◆シリーズ累計200台以上のロングセラー機種です。 　◆国内マスクでは業界シェア90％以上の豊富な実績！ 　◆デバ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ソフエンジニアリング

高速レーザー描画装置『VPG⁺ シリーズ』

高速パターン・ジェネレータ

ンサー、MEMS、先端パッケージング、LED生産、ライフサイエンス、および微細加工を必要とするの分野にお役立て頂けます。 【特長】 ■高分解能 ■高画質 ■高速なスループット ■高速フォトマスク生産に最適 ■どんな平面基板にも直接描画に対応可能 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社