フォトレジスト | イプロスものづくり

ロールコート方式前処理・乾燥付き！フォトレジストコーティング装置のご紹…

当装置は、銅箔にフォトレジストをコーティングできます。加工面は片面及び両面。ロールコート方式前処理・乾燥付きです。また、装置構成は巻出～前処理～PRC～乾燥～巻取となっています。【スペック】 ...

フォトレジストや有機ポリマ残渣を低温で除去！当社のプラズマ除去装置をご…

プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社で取り扱う、『HDRF』をご紹介いたします。 MEMS、LED、先端パッケージングのデバイス製造段階で特に重要になる、 フォトレジストや有機ポリマ残渣を低温で除去します。ご要望の際は、お気軽にお問い合わせください。【特長】 ■温度・Low temp：50℃ to 150℃ ・High rate：150...

メーカー・取り扱い企業：プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

特許出願中　塗布重量自動計測システム付薄膜積層コーティング装置

特許出願中！微量な塗布重量を瞬時に計測し、管理できます。

llipseを目標に、LED向け蛍光体自動塗布ラインで培った塗布重量自動計測システム付薄膜積層コーティング装置を燃料電池電極形成、次世代二次電池電極形成、MEMSを含むエレクトロニクス分野のフォトレジストコーティング等に展開いたします。常温で反応し経時的に増粘する塗材や、沈殿が激しい不安定なスラーリー等のハンドリングが難しい塗材を、付加価値の高いLEDやLED部材等の被塗物へ塗布する方法と...

メーカー・取り扱い企業：エムテックスマート株式会社

ＰＴＦＥメンブレンカートリッジフィルターＴＣＦタイプ

フォトレジストなどの機能性樹脂や各種有機溶剤およびガスの濾過に適してい…

ＰＴＦＥ製メンブレンフィルターとポリプロピレンまたはポリエチレンから構成された、耐薬品性のあるカートリッジフィルターです。【特長】 ■ＰＴＦＥメンブレンフィルターには、界面活性剤を使用しておりません。フィルターのシールは熱溶融接着のため、クリーンなカートリッジ　フィルターです。 ■ＴＣＦ－０２０ＬタイプはＰＴＦＥと高密度ポリエチレンのみで構成された、低溶出のカートリッジフィルターです。...

メーカー・取り扱い企業：アドバンテック東洋株式会社

ステンレスシリンジホルダー

少容量の濾過に適しています。ルアーフィッティングにより着脱が簡単で…

クレーブ滅菌が可能な、小容量濾過用加圧ホルダーです。点眼剤、血清などの少量濾過やＨＰＬCサンプルの濾過に使用します。 ●ＫＳ－２５ＲＡは、シリコーンウエハーやガラスマスクプロセッサー塗布用のフォトレジスト中に含まれる極微細粒子の除去を行う際に使用します。 ※詳しくはPDFをダウンロードいただくか、お気軽にお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業：アドバンテック東洋株式会社

会社案内

環境に優しい製品をご提供し、皆様の暮らしに貢献します。

レナテックは、酸化チタンを利用した光触媒脱臭機QOLFANによるウィルス・空中浮遊菌の殺菌/浄化、空気清浄から、半導体産業におけるフォトレジスト用剥離剤PURMS、HACLEARによるコーターカップ洗浄まで、光触媒事業、半導体事業、環境事業の３つの事業を中心に環境に優しい製品をご提供し、皆様の暮らしに貢献できる会社を目指しています。詳...

メーカー・取り扱い企業：株式会社レナテック

プラズマ処理装置　WLP600S

6インチと8インチのウエハーに対応！平行平板方式のプラズマ処理装置

ました。コントロール・パネル上の操作のみでDP（ダイレクトプラズマ）モードとRIE（リアクティブイオンエッチング）モードの2種類のプラズマ方式を切り替えられ、ポリイミド系樹脂のエッチングやフォトレジストの表面改質など多様な用途にご利用頂けます。【特徴】 ○容易なプラズマモード切替 ○高速追従性 ○省フットプリント ○多種多様なプロセスに対応 ○多種多様なカスタマイズ性 ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社エスクラフト

Vertical & Spin枚葉リフトオフ装置

有機剥離にもご使用可能！サイクロンや複合金網でフィルター負荷の大幅低減…

ただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。ウエハ、枚葉式洗浄装置、塗布・現象装置、基板洗浄装置、スピン洗浄装置、半導体製造装置、半導体、レジスト剥離装置、メガソニック、洗浄装置、レジスト、フォトレジスト、ウエハ洗浄装置、ウエハ洗浄機、ローダー、アンローダー...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ソフエンジニアリング

《新型》セミオートUDSスピン枚葉装置

RCAは勿論、現像、エッチング、洗浄、剥離、リフトオフなど！各種プロセ…

ただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。ウエハ、枚葉式洗浄装置、塗布・現象装置、基板洗浄装置、スピン洗浄装置、半導体製造装置、半導体、レジスト剥離装置、メガソニック、洗浄装置、レジスト、フォトレジスト、フォトリソ工程、シリコン、スクラブ洗浄装置、スクラブ洗浄、ウエハ剥離装置、ウエハ洗浄装置、ウエハ洗浄機...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ソフエンジニアリング

Degassing Module , 脱気Module

LCD、OLED製造工程、半導体製造工程、精密塗装、食品業界など液体を…

・マイクロバブルの除去、防止します。・液の溶存気体(N2, O2)を取除きます。・有機溶剤(フォトレジスト)及び純水に適用可能です。・水及びガラス表面の気泡(マイクロバブル)を取除く事が出来ます。・溶存酸素による酸化を防止します。・気体除去率80%以上。 ...

メーカー・取り扱い企業：アジアファインテック株式会社韓国本社

脱気モジュール , 短納期, 低価格, 他社との互換性有

LCD、OLED製造工程、半導体製造工程、精密塗装、食品業界など液体を…

・マイクロバブルの除去、防止します。・液の溶存気体(N2, O2)を取除きます。・有機溶剤(フォトレジスト)及び純水に適用可能です。・水及びガラス表面の気泡(マイクロバブル)を取除く事が出来ます。・溶存酸素による酸化を防止します。・気体除去率80%以上。 ...

メーカー・取り扱い企業：アジアファインテック株式会社韓国本社

紫外線強度計UVR-300　レンタル

半導体製造用フォトレジストの光量測定やUVケア製品（医療・医薬・食品分…

度計は、医療、医薬、食品分野などの紫外線殺菌ランプや光化学反応、高分子関係劣化試験などに幅広く利用される測定器で、近年は市場が拡大しているUVケア製品の特性評価や半導体製造におけるG線・I線用フォトレジストなどの光量測定にも用いられています。 UVR-300は、高感度で、ワイドダイナミックレンジ（0.1　- 80,000μW/cm2）を有し、測定用途に応じて異なる測定波長域に対応できる３タイプ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社メジャー

スピン＆コンベア処理装置　（エッチング・洗浄・剥離）

高品質基板を高スループット且つ低コストで提供可能！

ただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。ウエハ、枚葉式洗浄装置、塗布・現象装置、基板洗浄装置、スピン洗浄装置、半導体製造装置、半導体、レジスト剥離装置、メガソニック、洗浄装置、レジスト、フォトレジスト、フォトリソ工程、シリコン、スクラブ洗浄装置、スクラブ洗浄、ウエハ剥離装置、ウエハ洗浄装置、ウエハ洗浄機...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ソフエンジニアリング

《新型》スピンスクラブ自動洗浄装置　（CMP後・研磨後洗浄）

量産現場向け　高信頼性自動スクラブ洗浄装置

洗浄機》カタログも参照ください。ウエハ、枚葉式洗浄装置、基板洗浄装置、スピン洗浄装置、半導体製造装置、半導体、レジスト剥離装置、メガソニック、基板クリーニング装置、洗浄装置、レジスト、フォトレジスト、フォトリソ工程、シリコン、スクラブ洗浄装置、スクラブ洗浄、ウエハ洗浄装置、ウエハ洗浄機、搬送装置...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ソフエンジニアリング

燃料電池機能膜コーティング装置『SIFC型シリーズ』

サブストレート（ウエーブ）形状に対応した薄膜から厚膜のコーティングをご…

特殊アトマイジング方式により、適した微小粒子を積層コーティング。また、貴重サンプル液が数ccでもコーティング可能です。【特長】 ■0.01μm～100μm（程度）の膜厚形成可能（フォトレジスト・FC触媒膜） ■特殊間欠塗布で安定塗布可能（テフロン分散液・FC触媒液・撥水膜他） ■塗布不可能な微細凹凸形状に、良好なコーティング可能 ■数CC程度の少量でもコーティング可能 ■カ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ミックラボ本社

ナノパターン露光装置『PhableR 100』

回折限界を超えた解像度を実現！低コストで周期構造を作製できる露光システ…

『PhableR 100』は、高解像度の周期構造を作製できる低コストの露光システムです。 フォトレジストをコートし、プロキシミティにマスクセットして露光。独自の技術により、回折限界を超えた解像度を実現。サブミクロンスケールのグレーティングや六方配列/三方配列の2Dパターン作製が行...

メーカー・取り扱い企業：株式会社協同インターナショナル