ポンプ | イプロスものづくり

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FOOMA JAPANに実機出展！世界で選ばれ続ける真空ポンプ

PR従来の油回転ポンプと比較し最大30%の省エネ(当社比)！まずは評価機で…

【製品説明】世界で300万台以上のR5ロータリーベーン真空ポンプが使用されています。ブッシュのロータリーベーン技術が長きにわたり業界のスタンダードとして確固たる地位を築いてきた理由の一つが、その優れた堅牢性と信頼性です。R5 RDシリーズはその優れた特質を受け継いだ最新モデルです。【特長】 ■ 高いエネルギー効率　従来のロータリーベーン真空ポンプと比較した場合、最大で30%の省エネを実現(...

メーカー・取り扱い企業：日本ブッシュ株式会社
ARO社ダイアフラムポンプ FDA準拠(サニタリー)ポンプ

PR【医薬品・食品業界に！】衛生性（サニタリー）が重要視される現場で活…

信頼性と効率を追求したSUS316L製のARO社ダイアフラムポンプは、衛生性が重要視される医薬品・食品業界で安心してご利用いただけます。クイックノックダウン(QKD)クランプシステムを特徴としており、クリーニング、保守メンテナンスが容易で、高い信頼性と長い製品寿命を提供します。最小限の時間で洗浄やメンテナンスが可能となり、作業時間の短縮にも貢献します。【用途例】 ...

メーカー・取り扱い企業：タイヨーインタナショナル株式会社
スパッタリング装置『MiniLab-060』

蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み…

【主仕様】・SUS304 60ℓ容積 400x400x400mm フロントローディングチャンバー *ラージチャンバーオプションMiniLab-070（450 x 450 x 450）・ポンプ：ターボ分子ポンプ, ロータリーポンプ（ドライポンプも可）・最大基板サイズ：Φ8inch ・真空排気：真空/ベント自動制御・抵抗加熱蒸着：最大4源（Model. TE1～TE4蒸着源） ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
真空蒸着装置『MiniLab-090』（グローブボックス用）

グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置高さ570m…

【主仕様】・最大基板サイズ：Φ10inch ・SUS304 80ℓ容積 400x400x570mm フロントローディングチャンバー・ポンプ：ターボ分子ポンプ, ロータリーポンプ（ドライポンプも可）・真空排気：真空/ベント自動制御・抵抗加熱蒸着：最大4源（Model. TE1～TE4蒸着源）・有機蒸着：最大4源（Model...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
アニール炉『ANNEALウエハーアニール装置』

Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"、又は6"基板…

マスフローコントローラは最大3系統まで増設が可能、精密に調整されたプロセスガス圧力での焼成作業が可能です（APC自動プロセス制御システムオプション）。又、フロントビューポート、ドライスクロールポンプ、特殊基板ホルダー、熱電対増設、などオプションも豊富。チャンバー内加熱ステージは、プロセスガス雰囲気・処理温度により３種類のバリエーションがあります。・ハロゲンランプヒーター：Max5...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
スパッタ・蒸着ソース複合型成膜装置【nanoPVD-ST15A】

スパッタカソード・蒸着ソース混在型薄膜実験装置コンパクトフレームに…

パッタカソード + 有機蒸着源x2 3. スパッタカソード + 抵抗加熱源x1 + 有機蒸着源x1（*DCスパッタのみ）・蒸着範囲：Φ4inch/Φ100mm ・真空排気系：ターボ分子ポンプ + 補助ポンプ（ロータリー、又はドライスクロールポンプ）・基板回転、上下昇降ステージ・Max500℃基板加熱ヒーター・水晶振動子膜厚センサー・7”タッチパネルHMI操作（’Int...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
真空炉『Mini-BENCH-prism 超高温実験炉』

最高使用温度2000℃ セミオート制御超高温実験炉（カーボン炉、…

ー温度異常・過圧異常を監視SUS製堅牢な水冷チャンバー、最高温度で連続使用中でも安全にご使用いただけます。 ◉小型・省スペース幅603 x 奥行603 x 高さ1,160mm（*ロータリーポンプ筐体内設置）実験室での小片試料の超高温加熱実験、新素材研究開発などのさまざまな試料加熱実験が、簡単な操作で行えます。本体は小型でありながらよりさまざまな分野の研究開発にお使いいただけま...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
大型真空オーブン

　高真空でも大気圧でも均一加熱、安定加熱　乾燥・脱ガス・ベーキング・ア…

６００ｍｍ□×６００ｍｍＨ／バッチの大量バッチ処理炉内全面ヒーターの均一加熱ドライポンプ＋ターボ分子ポンプの完全ドライ排気系高真空・低真空・大気圧の各圧力下での加熱処理対応基板と目的に合わせて排気系・ガス系・処理温度・炉内構造・治具選択可能 ...

メーカー・取り扱い企業：神港精機株式会社東京支店
TCF-C500 超高温小型実験炉Max2900℃

コンパクト・省スペース・省エネルギー！高性能 R&D用超高温実験炉

高2900℃まで加熱実験ができるR&D用超高温小型実験炉。実験室での超高温加熱実験、新素材開発などのさまざまな焼成実験を行うことができます。 ◆主な特徴◆ ・省スペース・ロータリーポンプ、コンプレッサー付属・インターロック：断水警報、過昇温、ガス圧力低下 ◆基本仕様◆ ・電源仕様：AC200V 75A NFB 50/60HZ（C-500）・Max2900℃（カーボン炉...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
横型水素アニール装置（可変雰囲気熱処理装置）

小径ウェハ（４インチ）や化合物半導体のニッチプロセスに対応。結晶プロセ…

横型石英管タイプのホットウォール型の専用アニール装置。ターボ分子ポンプとドライ真空ポンプによるクリーンバキューム＆大気圧水素雰囲気による高純度還元熱処理を実現。石英管急冷機構を標準装備。短タクト処理を実現。拡張機能により６インチウェハまで対応。水素雰囲気...

メーカー・取り扱い企業：神港精機株式会社東京支店
RTP装置『AS-Master 200』

ターボポンプ搭載可能！低温(1100℃)/高温(1300℃)パイロメー…

却機構のRTP装置です。最大200mm径基板対応(基板上部ランプ加熱式)しており、真空又は大気搬送装置及びロードロック搭載可能。また、大気・真空下プロセスに対応しており、ターボポンプ搭載可能。ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。【特長】 ■最大200mm径基板対応(基板上部ランプ加熱式) ■低温(1100℃)/高温(1300℃)パイロメーター ■アニ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ハイテック・システムズ
DLI-CVD/DLI-ALD装置『MC-050』

ランプ加熱式の為にRTP、RTCVD処理可能！クオーツ製チューブ型チャ…

50mm径基板対応のDLI-CVD/DLI-ALD装置です。最大成膜温度は1100℃(ランプ加熱方式)で、最大6×DLI気化器を搭載可能。また、マスフローコントローラーは最大8、ターボポンプ搭載可能です。ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。【特長】 ■最大50mm径基板対応 ■最大成膜温度：1100℃(ランプ加熱方式) ■最大6x DLI気化器を搭載可能...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ハイテック・システムズ
RTP装置『AS-One 100/150』

アニール処理後急速冷却機構！Annealsys社の高速熱処理装置をご紹…

『AS-One 100/150』は、大気・真空下プロセス対応のRTP装置です。ターボポンプを搭載可能で、マスフローコントローラーは最大5となっております。ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。【特長】 ■アニール処理後急速冷却機構 ■大気・真空下プロセス対...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ハイテック・システムズ
【Nanofurnace】BWS-NANO 熱CVD装置

【ホットウオール式熱CVD装置】基礎研究に最適なコンパクトサイズ高性能…

◉ PID温度コントロール：Eurotherm 2416プログラム温度調節計 ◉ 流量制御：±1%F.S. 0sccm 〜 100, or 1000sccm（ガス種による） ◉ ロータリーポンプ付属...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
真空炉『Mini-BENCH 超高温卓上型実験炉』

卓上小型サイズ実験炉・省スペース最高使用温度2000℃！還元雰囲…

◆装置構成◆ ご予算・目的に応じてご要望の構成をご提案致します。 (A)最小構成：チャンバー + コントロールボックス (B)上記最小構成(A) + 真空排気系（ポンプ、ゲージ、バルブ・真空配管類） ◆基本仕様◆ ・ヒーター：C/Cコンポジット(カーボン炉）, タングステン(メタル炉) ・断熱材：グラファイトフェルト材(カーボン炉）, タングステン/モ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉2000℃

SiC3, TiC3コーティングヒーター採用：様々なプロセス環境に対応…

ycle）〜ベントまでを自動シーケンス制御（標準）・手動プロセス圧力制御（標準）：手動ベローズバルブ調整・有効加熱範囲：φ4-φ8inch（その他サイズ可能）・高真空対応（ターボ分子ポンプ） ◆オプション◆ ・フルオート自動プロセス運転（オプション）・自動APC制御（オプション）： -1) Upstreamコントロール：MFC供給量をPIDループ自動制御、又は -2) ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
RTP装置『AS-Premium』

最大156mm×156mm基板対応！真空又は大気搬送装置及びロードロッ…

■最大156mm×156mm基板対応 ■低温(1100℃)/高温(1300℃)パイロメーター ■アニール処理後急速冷却機構(上部ランプ加熱式のみ) ■大気・真空下プロセス対応 ■ターボポンプ搭載可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ハイテック・システムズ