リアルタイムで作業環境をデジタルに反映！土木作業シミュレーション

PR掘削、放土といった土砂の挙動を高い精度で再現！作業の流れ、建機の動き、…

土壌シミュレーションツール『AGX Dynamics』は、建機作業、土木施工の様々な作業を バーチャル空間で再現することを可能にする技術です。 建機作業や、掘削・放土といった土砂の挙動を高い精度で再現することが可能となっており、 作業の流れ、建機の動き、土壌の変化などを事前にシミュレーションすることができます。 作業者の人数や規模感が大きな土木作業領域において、 必要な建機数や作...

メーカー・取り扱い企業： VMC Motion Technologies株式会社

生成AI（ジェネレーティブAI）とは？活用メリットや課題を解説！

PR製造業界の生成AI活用意向は63%！現状の活用状況や活用する上での懸念…

生成AIは、まったく新しいテキストや画像のアウトプットを生み出すAIの総称です。 コンテンツやモノについて、データをもとに学習し、まるで人間が作ったかのような新しいデータを生成できることが特徴です。 生成AIを活用することで、業務効率化や新たなアイデアやコンテンツの創出など、多くのメリットが期待できます。 興味を持つ方が多い一方で、活用を検討するにあたり、「日本の製造業における活用意識の調査結...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社セールスフォース・ジャパン

蒸着/スパッタ・デュアルチャンバーシステム【MiniLab】

2台の薄膜実験装置をロードロック機構で連結。異なる成膜装置（スパッタ、…

2台の薄膜実験装置をロードロック機構で連結。異なる成膜装置（スパッタ - 蒸着、など）をロードロックでシームレスに連結。Moorfield社独自のロードロックシステムにより、左右・後方へのプロセス室への連結も可能です。...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

ICPメタルエッチング装置

Al系やCrなどの金属膜の微細パターンのエッチングに対応！デモ機常設！…

【仕様】 ■ハード構成：ロードロック式　ロードロック室　エッチング室各１室構成 　　　　　　　※量産用　マルチチャンバタイプもラインアップ ■処理基板：～φ８インチウェハ形状品（矩形基板対応可能） ■基板材質：Si、ガラ...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

ICPプラズマエッチング装置『SERIO』

平滑なエッチング面と高い加工精度を実現！サンプルテスト対応いたします！

【仕様】 ■ハード構成：ロードロック式　ロードロック室　エッチング室各1室構成 　　　　　　　※量産用　マルチチャンバタイプもラインアップ ■処理基板：～φ8インチウェハ形状品（矩形基板対応可能） ■対応基板：Si、石英、セラ...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

枚葉式プラズマアッシング装置（ＳＷＰシリーズ）

ダメージレス・ハイスループット・多用途対応　ハイエンドデバイス・化合物…

なくＲＩＥ室の装備により特殊レジスト・有機膜野除去にもまたイオン注入後の硬化レジスト除去に対応。表面部の硬化レジストの除去とレジスト下層のダメージレスアッシングの両立を実現。 コンパクトな枚葉式ロードロック室とツインハンドロボットの採用でりコンパクトな設置寸法を実現。 通常のウェハだけでなく。１ｍｍ以上の厚みのウェハや矩形基板など特殊基板にも対応実績。多用途対応の枚葉式エッチング・アッシング...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

化合物半導体プロセス用　ICPエッチング装置

化合物半導体プロセス用　ICPエッチング装置

で均一性に優れた 　エッチングが可能 ○低バイアス（-100V以下）での低ダメージプロセスが可能 ○基板ステージおよび反応室内壁の温度制御により、安定した条件での 　エッチングが可能 ○ロードロック室にもターボ分子ポンプを採用し、より安定したプロセスを提供...

メーカー・取り扱い企業： サムコ株式会社

イオンビームエッチング・成膜装置『QuaZar(TM)』

高いスループットを実現！大面積イオンソースと高度なモーションコントロー…

グリッドは、従来の方式に比べ、長期に渡り 良好な均一性を得ることが出来ます。 【仕様】 ■イオンビームシステム ■プロセス温度：-40℃～+60℃ ■傾斜角：+90度～-80度 ■ロードロック　又は、CtoC ■ウエハサイズ：100mm,150mm,200mm ※英語版カタログをダウンロードいただけます。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい...

メーカー・取り扱い企業： プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

【MiniLab-SA125A】 多元マルチスパッタ装置

高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ（Φ4inch用）…

温基板加熱ステージ（二重ジャケット水冷式）オプション -1) Max600℃（ランプ加熱） -2) Max1000℃（C/Cコンポジット） -3) Max1000℃（SICコーティング） ロードロック内逆スパッタステージ -1) 300W、又は -2) Soft-Etching(＜30W） システム主制御：'IntelliDep'制御システム Windows PC（又はTP HMI...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

プラズマドライクリーナー 　プラズマクリーナー　プラズマ洗浄装置

ご要望に合わせてカスタマイズ出来るプラズマクリーナー

標準機を基にお客様のご要求に合わせて、カスタマイズもいたします。弊社では小型バッチ式から中型、大型バッチ式さらに各種自動機まで幅広くラインナップしております。チャンバー構造は石英バレル、平行平板、ロードロックタイプと多種に対応しております。大気圧プラズマについても取り揃えております。...

メーカー・取り扱い企業： ヤマトマテリアル株式会社

[チラー]省エネモデル　MXシリーズ

消費電力66%削減！幅わずか390mmの省エネを追求した温度管理システ…

ATSジャパン株式会社より、主力製品の一つである「MXシリーズ」のご案内です。 ■一般的な従来チラーと比較し、消費電力を1/3に削減 ■熱負荷を検知し、アイドリング運転からロード運転への自動切替によりヒーター出力を抑制 ■アイドリング運転により冷凍機の排熱、冷却水使用量を抑制 ATSジャパン(株）のチラーは半導体業界を中心に導入実績があります。これまでの数千台の導...

メーカー・取り扱い企業： ATSジャパン株式会社

【MiniLab】 蒸着/スパッタ・デュアルチャンバーシステム

2台の薄膜実験装置をロードロック機構で連結。異なる成膜装置（スパッタ、…

2台の薄膜実験装置をロードロック機構で連結。異なる成膜装置（スパッタ - 蒸着、など）をロードロックでシームレスに連結。Moorfield社独自のロードロックシステムにより、左右・後方へのプロセス室への連結も可能です。...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

真空蒸着装置『MiniLab-080』

蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570…

D型ボックスチャンバーで構成されるML-080は、060と同等の構成で更にチャンバーを高くすることによりTS距離調整範囲が長く、大口径基板での蒸着時の膜均一性が向上、真空蒸着に最適なモデルです。ロードロック機構も追加できるML-060の上位機種。060同様に、コンパクトながら抵抗加熱蒸着（金属/絶縁物/有機材料）,EB蒸着, RF/DC/PulseDC兼用マグネトロン式スパッタ, RIEプラズ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

□■□【MiniLab-060】フレキシブル薄膜実験装置□■□

蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み…

ら組合せが可能 ・抵抗加熱蒸着源 x 最大4 ・有機蒸着源 x 最大4 ・電子ビーム蒸着 ・2inchマグネトロンスパッタリングカソード x 4 ・プラズマエッチング：メインチャンバー、ロードロックチャンバーのいずれでも設置可能 【スモールフットプリント・省スペース】 ・デュアルラックタイプ（MiniLab-060）：1200(W) x 590(D)mm 【優れた操作性・...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

多元マルチスパッタ装置【MiniLab-S125A】

高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ（Φ4inch用）…

温基板加熱ステージ（二重ジャケット水冷式）オプション -1) Max600℃（ランプ加熱） -2) Max1000℃（C/Cコンポジット） -3) Max1000℃（SICコーティング） ロードロック内逆スパッタステージ -1) 300W、又は -2) Soft-Etching(＜30W） システム主制御：'IntelliDep'制御システム Windows PC（又はTP HMI...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社