事例紹介 | イプロスものづくり

絞り込み条件

製品分類

メーカー・取扱い企業

廃熱発電技術による自立電源のご提案　※資料進呈

PRIoT用自立電源や省エネ用自立電源！未使用廃熱を効率よく電気エネルギー…

当資料では、独自開発の廃熱発電技術による自立電源についてご紹介しております。様々な低温排熱源（300℃程度以下）に対応した、極薄で湾曲自在な熱電発電モジュール『フレキーナ』を実用化！『フレキーナ』を搭載した、IoT用や省エネ用自立電源システムの開発事例など豊富に掲載。その他、他技術との比較や用途事例なども掲載しており、導入検討の際に参考にしやすい一冊となっております。ぜひ、ご一読くだ...
メーカー・取り扱い企業： TSP株式会社
アルミ/5軸加工機

PR5軸加工機による複雑形状の加工事例ご紹介！

当社では、5軸加工機によるアルミ材の高精度加工を行っております。掲載写真の製品は当社で実績のある複雑形状のアルミ製品になります。開発・試作品や量産から多品種・少量生産まで幅広くお応えいたします。材料調達から機械加工、アルマイト・無電解ニッケルメッキ・熱処理などの表面処理まで一括で対応しています。【事例】 ■材料：A5052 ■設備：5軸加工機 ■サイズ：60x...

メーカー・取り扱い企業：株式会社タチ製作所
【資料】FeRAMの商談事例

車載向け・産業向け（工場系）・インフラ向けなどの商談事例をご紹介！

『FeRAMの商談事例』についてご紹介いたします。カーナビやドライブレコーダなどの車載向けアプリケーションでは、 "リアルタイムでのデータの連続記録"などがメモリに要求されます。必要とされる特長は、高速書換え耐性、不揮発性、高速書込み。当製品は、要求する特長を兼ね備えたメモリです。「データを頻繁に取得したいが、メモリの書換え制限でできない」「瞬断や停電のときに書...

メーカー・取り扱い企業：富士通セミコンダクターメモリソリューション株式会社本社
【資料】FeRAMの概要と商談事例（ホワイトペーパー）

当社の"FeRAM"はお客様のアプリケーションを通して社会に貢献する…

「FeRAMという製品をウェブ記事や広告で見たことがあるが、何か分からない」または「FeRAMはメモリというのを知っているが実際にどんな用途に使われているかを知りたい」という声をお客様から伺います。当資料では、前述の声の回答として、「FeRAMとはどういうものなのか」および「FeRAMがどんなアプリケーションで使われているのか」をご紹介。是非、ダウンロードしてご...

メーカー・取り扱い企業：富士通セミコンダクターメモリソリューション株式会社本社
【分析事例】分子動力学計算を用いたアモルファスSiNx膜構造解析

シミュレーションによってアモルファス膜のミクロな構造解析が可能です

アモルファスSiNx（a-SiNx）膜は、N/Si比などの組成変化によって半導体から絶縁体まで物性が大きく変化することから、トランジスタ用ゲート絶縁膜など幅広い用途で用いられています。一方、結晶性のないアモルファス構造の材料に対し、原子レベルのミクロな構造解析を行える実験手法は限られているため、シミュレーションによってさまざまな組成、密度を有したアモルファス構造を作成し、解析を行うことは有効なツー...

メーカー・取り扱い企業：一般財団法人材料科学技術振興財団　MST
【分析事例】走査イオン顕微鏡によるCu表面の結晶粒観察

金属多結晶の結晶粒の大きさや分布に関する知見を得ることが可能です

走査イオン顕微鏡（Scanning Ion Microscope：SIM）は固体試料にイオンビームを照射し、発生する二次電子を検出する手法です。二次電子は各結晶粒の結晶方位に応じたコントラストを生じるため、SIMによってCuやAlなどの金属多結晶の結晶粒の大きさや分布に関する知見を簡便に得ることが可能です。本資料では測定例としてCu表面をSIMによって観察した事例をご紹介します。...詳しいデータ...

メーカー・取り扱い企業：一般財団法人材料科学技術振興財団　MST
【資料】FeRAMの基礎編

電源を切ってもデータが消えない不揮発性メモリ！FeRAMの基礎編をご…

『FeRAM』は、半導体メモリのひとつで、強誘電体メモリとも呼ばれ、電源を切ってもデータが消えない不揮発性メモリです。当資料では「FeRAMの基礎編」についてご紹介しております。 "FeRAMの概要"をはじめ、"FeRAMの商談事例"や"FeRAMの実績"、 "FeRAMの特長"や"課題と解決策"を掲載。役に立つ一冊となっております。是非、ご一読ください。 ...

メーカー・取り扱い企業：富士通セミコンダクターメモリソリューション株式会社本社
【分析事例】STEM,EBSDと像シミュレーションを併用した解析

像シミュレーションを併用した結晶形の評価

高分解能HAADF-STEM像は、結晶の原子配列を反映した画像であることから、種々の結晶方位に対応したSTEM像をシミュレーションすることにより、多結晶体中の結晶粒間の相対方位や観察像の正確な理解に役立ちます。本資料では、多結晶体であるネオジム磁石中の結晶粒について、EBSD法で得た結晶方位の情報からSTEM像をシミュレーションし、実際の高分解能HAADF-STEM像と比較した事例を紹介します...
メーカー・取り扱い企業：一般財団法人材料科学技術振興財団　MST
【事例紹介】銅核ボール搭載作業

銅核ボールを使用することで、ボールの変形を抑え、3D実装と狭ピッチ実装…

ソルダー（半田）ボールと比較して ◎強度に優れ、半導体パッケージのクリアランスの確保が可能 ◎ボールの変形を抑え、空間を確保し、信頼性の高い部品構造の実現が可能 ◎Ｃｕピラーと同様な狭ピッチ実装が可能 ◎高放熱性とエレクトロマイグレーション対策が可能 ...※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ビオラ
【分析事例】クリーンルーム内有機化合物の評価方法

GC/MS：ガスクロマトグラフィー質量分析法

半導体や液晶などの製造が行われているクリーンルームでは、パーティクルだけでなく分子レベルの化学汚染（分子状汚染）を把握することが重要です。浮遊分子状汚染物質としては酸・塩基性ガスや凝集性有機物質、ドーパント、金属などが挙げられ、成分に応じて分析方法は異なります。ここでは凝集性有機物質の詳細と、代表的な捕集方法である“吸着剤捕集”と“ウエハ暴露捕集”について紹介します。...詳しいデータはカタロ...

メーカー・取り扱い企業：一般財団法人材料科学技術振興財団　MST
4MビットFeRAM『MB85RS4MTY』※資料4点進呈中

最高125℃の高温環境でも最大10兆回のデータ書き換えが可能。車載用、…

「FeRAM」は、強誘電体の素子を使用した不揮発性メモリです。高書き換え耐性・高速書き込み・低消費電力といったメリットをもちます。特に『MB85RS4MTY』は、2MビットFeRAM「MB85RS2MTY」のさらなる大容量化ニーズに応えるべく開発された4MビットFeRAM。 125℃の高温環境下においても10兆回のデータ書込み回数ができ、先進運転支援システム（ADAS）を代表とす...
メーカー・取り扱い企業：富士通セミコンダクターメモリソリューション株式会社本社
【開発事例】ラリーカー用データ収録装置

仕様のまとめ、筐体の設計、プログラム設計などの開発全般を一括して行った…

株式会社田中産業社にて『ラリーカー用データ収録装置』を開発した事例をご紹介します。当装置は移動体などのような限られた空間で、一定間隔毎にデータをサンプリングして、内蔵不揮発性メモリ(フラッシュメモリ)に順次蓄積することを主な目的としています。サンプリング終了後に、内蔵のフラッシュメモリの内容をDOSファイルイメージで PCMCIAフラッシュメモリーカードに取り出すこと...

メーカー・取り扱い企業：株式会社田中産業社
［小冊子］ケーススタディ / アプリケーションスタディ集

イノディスクのケーススタディ/アプリケーションスタディをまとめました

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 ◇[医療]MRIとNMR装置用にカスタマイズされたｍSATAとDRAM ◇[医療]手術室の安全性、生産性、ワークフローを改善-M.2とDRAM ◇[医療]人工呼吸器向け-mSATAとメモリ ◇[ごみ処理車両]ゴミ収集車の事故や損失を回避-SSDとAetinaのN310 + Jetson TX2 Module ◇[監視...

メーカー・取り扱い企業：イノディスク・ジャパン株式会社
【分析事例】STEM・EDXデータと像シミュレーションによる評価

STEM像と原子組成の測定結果から結晶構造の評価ができます

試料の測定によって得られた結果と、シミュレーションの併用により、結晶構造の評価が可能です。本資料では、多結晶体であるネオジム磁石において、HAADF-STEMとEDXの測定によって得られた結果と、各々の測定条件を用いたシミュレーション像の比較から結晶構造の考察を行った事例を紹介します。測定結果と計算シミュレーション結果の併用により、結晶構造に対する理解を深めることが可能となります...詳しいデ...

メーカー・取り扱い企業：一般財団法人材料科学技術振興財団　MST
【分析事例】XPSによる単結晶Si表面のダメージ評価

高分解能測定と波形解析を利用してc-Siとa-Siの状態別定量が可能

半導体の製造工程において表面改質を目的としたイオン照射を行うことがあります。その中で、単結晶Si表面に不活性元素のイオンを照射することで構造の損傷が生じ、アモルファス層が形成されることが知られています。高分解能なXPSスペクトルではc(単結晶)-Siとa(アモルファス)-Siが異なったピーク形状で検出されることを利用して、この損傷由来のa-Siをc-Siと分離して定量評価した事例をご紹介します...

メーカー・取り扱い企業：一般財団法人材料科学技術振興財団　MST
【分析事例】SEMとSIMによるCu表面の二次電子像の比較

着目する表面構造によって2手法の使い分けが有効です

走査電子顕微鏡（Scanning Electron Microscope：SEM）及び走査イオン顕微鏡（Scanning Ion Microscope：SIM）は、どちらも二次電子像を得ることで試料表面近傍の構造評価を行う手法です。一次プローブの違いによってコントラストの現れ方や空間分解能などの違いがあり、着目する表面構造によって2手法の使い分けが有効です。本資料では2手法の比較をまとめるとともに...

メーカー・取り扱い企業：一般財団法人材料科学技術振興財団　MST
［アプリケーションスタディ］監視のためのファームウェアの最適化

フレームロスの排除・・・高レベルの監視アプリケーションのためのファ…

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。顔認識やオンザスポットデータ分析などの新機能には高い計算能力が必要です。高品質の監視記録に標準のSSDを使用すると、メーカーはデータの書き込み速度が定期的に低下することに気づきました。 ...この問題を解決するした事例をご紹介いたします。～続きはダウンロードしてご覧ください～...

メーカー・取り扱い企業：イノディスク・ジャパン株式会社